曝光装置、基片处理系统和器件制造方法制造方法及图纸

用于支撑基片台（ＷＳＴ１）的第一主体单元（ＳＴ１）由震动隔离器（如１６Ａ和１６Ｂ）在四个点处支撑，并且第二主体单元（ＳＴ２）由第二震动隔离器（如２４Ａ和２４Ｂ）在三个点处支撑在第一主体单元上。这使得第一主体单元和基片台可以以稳定的方式被高刚性地支撑，并且例如允许从装置的背面（－Ｘ侧）对台面部分进行维护操作，这在第一主体单元被支撑在三点时是不可能的。另外，因为装置包括串连连接到两个平台的震动隔离单元，所以此布局对抑制来自地面的背景震动非常有效。因此，可以进行高精度的曝光，提高器件的产量，并且可以减少维护操作所需的时间从而提高装置的工作率，由此带来作为最终产品的器件的生产率提高。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，并尤其涉及一种在制造诸如半导体器件、液晶显示器、等离子体显示器或薄膜磁头等器件时用在光刻工艺中的曝光装置、具有此曝光装置的基片处理系统和与曝光装置联机的基片处理器以及一种利用此曝光装置的器件制造方法。
技术介绍
在用于制造半导体这样的器件的常规光刻工艺中，采用了各种曝光装置。近年来，主要使用的一种是以步进的方式移动的投影曝光设备，如基于连拍法的缩放投影曝光装置、即所谓的步进机，或基于步进扫描法的扫描投影曝光装置，即所谓的扫描步进机。虽然半导体器件中的集成度提高，但器件的尺度(实际上最小的线条宽度)下降，并且为了与这种状况相符，要求曝光装置有更高的曝光精度。另外，因为用这些类型的曝光装置大批量生产器件，所以除了曝光精度之外自然还要求有高的产量。常规的通过这些措施来提高曝光精度，如增大投影光学系统中的数值孔径(N.A.)以提高分辨率，并提高晶片台(在步进机的情形中)或晶片台与十字丝台(在扫描步进机的情形中)的位置可控度。另外，主要通过增大上述台面等的速度来提高产量。但是，近来更强烈地希望增大半导体器件的集成度，并且对于这种状况，曝光装置也面临着改进其性能的进一步需求。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过投影光学系统把形成在掩膜上的图案转印到基片上的曝光装置，所述曝光装置包括：一个固定掩膜的掩膜台；一个固定基片的基片台；一个至少支撑掩膜台和基片台其中之一的第一主体单元；四个第一震动隔离器，在四个点处支 撑第一主体单元并在第一主体单元中隔离震动；支撑投影光学系统的第二主体单元；和三个第二震动隔离器，在第一主体单元上不同直线上的三个点处支撑第二主体单元并在第二主体单元中隔离震动。

【技术特征摘要】
JP 2001-4-6 108334/011.一种通过投影光学系统把形成在掩膜上的图案转印到基片上的曝光装置，所述曝光装置包括一个固定掩膜的掩膜台；一个固定基片的基片台；一个至少支撑掩膜台和基片台其中之一的第一主体单元；四个第一震动隔离器，在四个点处支撑第一主体单元并在第一主体单元中隔离震动；支撑投影光学系统的第二主体单元；和三个第二震动隔离器，在第一主体单元上不同直线上的三个点处支撑第二主体单元并在第二主体单元中隔离震动。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于四个第一震动隔离器在正方形的每个角处支撑第一主体单元。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于每个第二震动隔离器是一种包括致动器的有源震动隔离器。4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于设置在第二主体单元中的是干涉仪、位置探测器和标记探测系统中的至少一个，其中干涉仪用于测量至少一个台面的位置，位置探测器至少测量基片在投影光学系统光轴方向的位置和倾斜，标记探测系统探测标记在基片上的位置，和探测第二主体单元中的震动的震动传感器，并且曝光装置还包括一个控制器，通过根据震动传感器的输出控制致动器而进行第二主体单元的姿态控制。5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于控制器在三个自由度方向、在投影光学系统的光轴方向以及在垂直于光轴的平面内绕两个正交轴旋转的方向上进行姿态控制。6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于第二主体单元通过动态支撑机构在三个点支撑投影光学系统。7.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于第一主体单元固定掩膜台。8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于曝光装置有做为基片台的固定第一基片的第一基片台和固定第二基片的第二基片台，和第一主体单元固定第一基片台和第二基片台。9.一种通过投影光学系统把形成在掩模上的图案转印到基片上的曝光装置，所述曝光装置包括一个固定投影光学系统的光学系统固定单元；一个台面腔，在腔的内部形成一个基片腔和一个第一开口，基片腔内装着一个用于固定基片的基片台，在第一开口中可以插入投影光学系统的象平面一侧的元件；和一个第一连接元件，该元件把台面腔第一开口的周围部分连接到投影光学系统的圆周部分，同时以密封状态将基片腔的内部与外部空气隔绝，第一连接元件具有挠性。10.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于第一连接元件是一个挠性波纹管。11.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于基片腔的内部至少用惰性气体和氮气中的一种填充。12.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于在台面腔中还形成第二开口，和光学系统固定单元有一个形成在与第二开口相对位置处的第三开口和一个固定投影光学系统的固定元件，并且曝光装置还包括一个第二连接元件，在第二开口和与第二开口相对的第三开口的周围部分将台面腔和固定元件以与外界空气隔绝的密封状态连接，第二连接元件具有挠性；一个探测系统，探测基片和基片上的标记中的至少一个的位置信息，探测系统有一个插在由第二开口、第三开口和第二连接元件形成的空间中的圆筒部分和与圆筒部分分开的传感头部分；和一个玻璃片，将所述空间的内部与外部隔开，玻璃片固定到台面腔反面上的固定元件表面。13.如权利要求12所述的曝光装置，其特征在于第二连接元件是一个挠性波纹管。14.如权利要求12所述的曝光装置，其特征在于密封元件密封玻璃片和固定元件之间的空间。15.如权利要求14所述的曝光装置，其特征在于密封元件是一种符合化学清洁要求的O形环或粘性元件。16.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于投影光学系统有一个倾斜驱动部分和一个固定部分，其中倾斜驱动部分包括一个...

【专利技术属性】
技术研发人员：西健尔，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]