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曝光装置、基片处理系统和器件制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3202107
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用于支撑基片台(WST1)的第一主体单元(ST1)由震动隔离器(如16A和16B)在四个点处支撑,并且第二主体单元(ST2)由第二震动隔离器(如24A和24B)在三个点处支撑在第一主体单元上。这使得第一主体单元和基片台可以以稳定的方式被高刚...
该专利属于株式会社尼康所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社尼康授权不得商用。
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