制作电子功能材料的需求图案的方法技术

技术编号:3199251 阅读:227 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种在基片(1)上形成电子功能材料(3)需求图案的方法,其包括的步骤如下:在基片上生成形成图案材料(2)的第一层,同时暴露基片剩余区域以限定所述需求图案;在所述图案材料和暴露的基片上印刷包括在液体分散剂中的电子功能材料的颗粒的悬浮液,其中所述图案材料不渗透该悬浮液;从悬浮液中去除至少一些液体分散剂,以便能够使颗粒固结;以及将第一溶剂施加于所述固结颗粒上,所述第一溶剂可以使所述图案材料(2)溶解,并且所述固结颗粒可渗透所述第一溶剂,这样,所述图案材料与覆盖的电子功能材料(3)一同从基片上被去除。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在基片上制作电子功能材料需求图案的方法,并且可以应用于制作具有这种电子功能材料图案的薄膜式晶体管。
技术介绍
目前,电子功能材料主要采用照相平版印刷术进行形成图案。这种技术可以使形成于基片上的元件具有很高的分辨率。照相平版印刷术的主要缺点在于其设备昂贵,需要许多加工步骤,并且由于采用减除(subtractive)技术,还需要大量的原材料。众所周知,在基片上制作电子装置的现有技术是通过印刷设置材料。为了减少加工成本,这些方法现在已经得到进一步的发展,其方法之一是采用爱普生的微液体技术。由于通过印刷设置实际上是添加材料,所以与照相平版印刷术相比,微液体技术需要较少的电子功能材料,以及较少的加工步骤。然而,至今为止,与照相平版印刷术相比,微液体技术具有两个主要缺点。首先,在自由形态微液体技术中所获得的分辨率要比通过照相平版印刷术所获得的分辨率要差。其次,很难提供墨水的配方,以使在打印头上圆满地实现精确喷射,但是在墨水沉积和烘干之后所得材料的电子性能对于制作诸如薄膜式晶体管电子元件而言是足够高的。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种形成图案的方法,其可以减少对照相平本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在基片上形成电子功能材料需求图案的方法,包括步骤:在基片上生成图案材料的第一层,同时使暴露的基片区域去限定所述需求图案;在所述图案材料和暴露的基片上印刷包括在液体分散剂中的电子功能材料的颗粒的悬浮液,其中所述图案材料不渗 透该悬浮液;从悬浮液中去除至少一些液体分散剂,以便能够使所述颗粒固结;以及将第一溶剂施加于所述固结颗粒上,所述第一溶剂可以使所述图案材料溶解,并且所述固结颗粒可渗透所述第一溶剂,这样,所述图案材料与覆盖的电子功能材料一同从基 片上被去除。

【技术特征摘要】
GB 2004-5-7 0410236.41.一种在基片上形成电子功能材料需求图案的方法,包括步骤在基片上生成图案材料的第一层,同时使暴露的基片区域去限定所述需求图案;在所述图案材料和暴露的基片上印刷包括在液体分散剂中的电子功能材料的颗粒的悬浮液,其中所述图案材料不渗透该悬浮液;从悬浮液中去除至少一些液体分散剂,以便能够使所述颗粒固结;以及将第一溶剂施加于所述固结颗粒上,所述第一溶剂可以使所述图案材料溶解,并且所述固结颗粒可渗透所述第一溶剂,这样,所述图案材料与覆盖的电子功能材料一同从基片上被去除。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述形成图案材料是光致抗蚀剂,并且通过沉积光致抗蚀剂层以形成所述需求图案,并接着通过照相平版印刷技术去除光致抗蚀剂的选择部分以生成所述第一层。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述图案材料是热塑性聚合材料,并且通过设置热塑性聚合材料层以形成所述需求图案,并接着通过微型凹凸印刷所述层以生成所述第一层。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于所述热塑性聚合材料是聚甲基丙烯酸甲酯。5.根据前述任何一项权利要求所述的方法,其特征在于所述电子功能材料的悬浮液呈胶质状。6.根据前述任何一项权利要求所述的方法,其特征在于所述悬浮液通过以液滴形式喷射而进行印刷。7.根据前述任何一项权利要求所述的方法,其特征在于通过在室温中干燥,或通过热接触、微波照射、入射红外线辐射或通过使所述印刷的悬浮液处在比大气压要低的较低压力下加热的加速干燥的方法实现从悬浮液中去除至少一些液体分散剂。8.根据前述任何一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述液体分散剂是水。9.根据前述任何一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述第一溶剂是丙酮。10.根据前述任何一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述电子功能材料是绝缘体。11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于所述绝缘体是二氧化硅、云母、胶乳或电介质聚合物。12.根据权利要求1-9中任何一项所述的方法,其特征在于,所述电子功能材料是半导体。13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于所述半导体是碳纳米管、层状过渡金属二硫属元素化物的薄片、并五苯颗粒或有机半导体聚合物。14.根据权利要求13所述的方法,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:李顺普克里斯托夫纽瑟姆托马斯库格勒大卫拉塞尔
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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