一种等离子液体纳米抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种等离子液体纳米抛光装置，主要包括加工头、旋转工作台、电极棒、弹力件；所述旋转工作台承载生产零件，由旋转机构驱动，实现360

【技术实现步骤摘要】
一种等离子液体纳米抛光装置


[0001]本技术涉及等离子液体纳米抛光
，尤其是涉及一种旋转工作台装置。

技术介绍

[0002]等离子液体纳米抛光是基于汽液等离子发生原理，通过抛光液在工件表面形成完整包裹工件的气层，并激发到等离子态，使抛光后的工件表面粗糙度值可以达到或者接近纳米级别的现有技术。目前，对于尺寸较大的零件，具体加工设备方案是将零件置于可旋转平台上，用简易的可升降装置夹持一个或多个可喷出抛光液的加工头。在加工时，将电源线通过夹具连接在零件上，零件带正电，与平台绝缘，以一定速度旋转。加工头带负电，并将带负电的抛光液喷射到零件表面。在升降装置的带动下，加工头沿一定的轨迹运动，扫过零件的表面，实现对其整体抛光。加工过程中，零件的通过电流可达到500A以上。简易的升降机构由于自由度低，平台与升降机构分别控制，故难以相互配合，不适用于形状不规则的零件。而且，由于加工电流大，电源线必须较粗较硬，平台的旋转因此受限，一般只能旋转180
°
，不能连续旋转，影响加工效率，并且电源线还容易与设备其他装置发生磕碰，安全隐患极大。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种等离子液体纳米抛光装置，以解决现有技术中存在的至少一个上述问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供的等离子液体纳米抛光装置，主要包括:加工头、旋转工作台、电极棒和弹力件；
[0005]所述旋转工作台自由转动设置，旋转工作台由导电材料制成，用于承载被加工件；
[0006]所述电极棒与电源正极连接；
[0007]所述弹力件一端与所述电极棒连接，趋向于迫使电极棒的一端抵靠在所述旋转工作台上；
[0008]所述加工头与电源负极连接，用于形成加工电流回路。
[0009]加工时，电流可以依次通过电极棒、旋转工作台、被加工件、抛光溶液、加工头，实现抛光作业。
[0010]本申请通过设置可伸缩的电极棒，电极棒在弹力件的作用下始终保持与旋转工作台的接触，在实现电流传输的同时，可实现旋转工作台的360
°
旋转，从而大大提高工作效率。
[0011]进一步地，还包括执行机构，用于迫使所述加工头相对于所述旋转工作台上被加工件移动，进而对被加工件不同区域进行抛光处理。
[0012]优选地，所述执行机构为机械手臂，所述加工头设置在所述机械手臂上。
[0013]本申请通过设置机械手臂，大大增加了加工头移动自由度，从而使得其作业面覆
盖零件复杂曲面。
[0014]进一步地，机械手臂可以设置多个。
[0015]加工头数量多，同时作业，抛光速度快。
[0016]进一步地，所述执行机构可为升降机构，所述旋转工作台设置在升降机构上。
[0017]进一步地，还包括旋转机构，用于驱动所述旋转工作台360
°
转动。
[0018]优选地，所述旋转机构为电机、单轴变位机、带链转动机等。
[0019]优选地，所述旋转机构为单轴变位机，实现360
°
连续精确转动，转动速度及角度可控。
[0020]进一步地，所述旋转机构和所述旋转工作台之间设置有绝缘结构。
[0021]进一步地，所述绝缘结构为绝缘垫板、绝缘套、绝缘筒等。
[0022]这样可防止加工时，500A加工电流击穿、烧毁旋转机构。
[0023]优选地，所述绝缘结构采用绝缘垫板。
[0024]优选地，所述绝缘垫板材质电木。
[0025]优选地，所述电极棒材质铜。
[0026]利用铜材硬度软、导电性能优异的特性，保障500A加工电流持续可靠地传导至旋转工作台。
[0027]进一步地，所述电极棒外设有绝缘盒，防止其漏电。
[0028]优选地，所述旋转工作台为平台。
[0029]优选地，所述弹力件为弹簧。
[0030]通过弹簧弹力，将电极棒顶紧在旋转工作台上，保持电流随时导通。
[0031]进一步地，所述电极棒抵靠在旋转工作台下表面边缘。
[0032]不占用工作台承载空间，远离旋转机构，减少电磁干扰。
[0033]进一步地，所述旋转工作台下表面设置有环槽，所述电极棒插装在环槽内。
[0034]采用上述技术方案，本技术具有如下有益效果：
[0035]本技术提供的等离子液体纳米抛光装置，可以实现旋转平台360
°
连续回转，对大尺寸复杂零件表面进行自动抛光，大幅提升抛光效率，绝缘防护到位，减少安全隐患。
附图说明
[0036]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1为本技术实施例提供的等离子液体纳米抛光装置的主视图；
[0038]图2为本技术实施例提供的旋转工作台下表面凹槽的剖切、放大示意图。
[0039]附图标记：
[0040]1‑
机械手臂；2
‑
单轴变位机；3
‑
绝缘垫板；4
‑
旋转工作台；5
‑
零件；6
‑
溶液；7
‑
加工头；8
‑
电源；9
‑
电源线；10
‑
电极棒；11
‑
弹簧；12
‑
绝缘盒；13
‑
凹槽。
具体实施方式
[0041]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0042]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0043]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，主要包括:加工头、旋转工作台、电极棒和弹力件；所述旋转工作台自由转动设置，旋转工作台由导电材料制成，用于承载被加工件；所述电极棒与电源正极连接；所述弹力件一端与所述电极棒连接，趋向于迫使电极棒的一端抵靠在所述旋转工作台上；所述加工头与电源负极连接，用于形成加工电流回路。2.根据权利要求1所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，还包括执行机构，用于迫使所述加工头相对于所述旋转工作台上被加工件移动，进而对被加工件不同区域进行抛光处理。3.根据权利要求2所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述执行机构为机械手臂，所述加工头设置在所述机械手臂上。4.根据权利要求2所述的等离子液体纳米抛光装置，其特征在于，所述执行机构为升降机构，所述旋转工作台设置在升降机构上...

【专利技术属性】
技术研发人员：于成泽，王季，田小青，朱志坤，刘越盟，蒋晨宇，
申请(专利权)人：中唯精密工业有限公司，
类型：新型
国别省市：