钛合金纳米抛光液及钛合金工件的纳米抛光方法技术

本发明专利技术提供了一种钛合金纳米抛光液及钛合金工件的纳米抛光方法。钛合金纳米抛光液包括水，以所述水的质量百分比计，还包括1～5％的硫酸亚铁铵、1～5％的氯化钠以及1～5％的水杨酸。本发明专利技术的钛合金纳米抛光液通过设置其组分，可在不改变钛合金工件的表面金属本色的情况下，方便快捷的完成对钛合金工件的抛光。同时通过使用本发明专利技术的钛合金纳米抛光液进行钛合金工件的抛光，同时通过设置抛光过程的抛光参数，可在高效率降低钛合金工件表面粗糙度的同时，提升钛合金工件表面的光泽度，且可有效避免钛合金工件表面出现氧化层。避免钛合金工件表面出现氧化层。避免钛合金工件表面出现氧化层。

【技术实现步骤摘要】
钛合金纳米抛光液及钛合金工件的纳米抛光方法


[0001]本专利技术涉及一种钛合金纳米抛光液以及应用该钛合金纳米抛光液进行抛光的钛合金工件的纳米抛光方法，属于金属抛光领域。

技术介绍

[0002]钛合金因具有强度高、耐蚀性好、耐热性高等特点而被广泛用于各个领域，目前通常运用等离子体纳米抛光技术对钛合金进行抛光，具有效率高、可随钛合金形状进行抛光且过程环保等优点。
[0003]等离子体纳米抛光技术作为对钛合金工件进行抛光的常见方法，基于汽液等离子发生原理，通过抛光液在工件表面形成完整包裹工件的气层，并激发到等离子态，使抛光后的工件表面粗糙度值可以达到或者接近纳米级别；同时，由于抛光液可随形状进行抛光处理，因此，可以处理金属表面抛光液接触到的所有区域，可以对复杂工件的表面进行处理，同时相对于传统的抛光使得等离子体纳米抛光技术具有不改变材料表面性质等优点。
[0004]目前，使用等离子体纳米抛光技术进行钛合金纳米抛光中较为常用的是铵离子(NH4+)体系抛光液。然而，由铵离子(NH4+)体系抛光液对钛合金工件进行等离子体纳米抛光，钛合金工件表面光泽度不足，处理效率慢，钛合金工件表面往往会附着一层致密的不均匀灰色氧化膜，甚至会出现不规则水纹。
[0005]有鉴于此，确有必要提出一种新的钛合金工件的抛光方法，以解决上述问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种钛合金纳米抛光液以及应用该钛合金纳米抛光液进行抛光的钛合金工件的纳米抛光方法，以在高效率降低钛合金工件表面粗糙度的同时，提升钛合金工件表面的光泽度，且可有效避免钛合金工件表面出现氧化层。
[0007]为实现上述专利技术目的，本专利技术提供了一种钛合金纳米抛光液，包括水，以所述水的质量百分比计，还包括1～5％的硫酸亚铁铵、1～5％的氯化钠以及1～5％的水杨酸。
[0008]作为本专利技术的进一步改进，所述钛合金纳米抛光液的混合制备温度为80～90℃。
[0009]为实现上述专利技术目的，本专利技术还提供了一种钛合金工件的纳米抛光方法，包括以下步骤：
[0010]S1、将水加入电源系统的抛光槽中，以所述水的质量百分比计，1～5％的硫酸亚铁铵、1～5％的氯化钠以及1～5％的水杨酸溶解于水中，制备钛合金纳米抛光液；
[0011]S2、将所述抛光槽与所述电源系统的电源负极连接；钛合金工件与所述电源系统的电源正极连接；
[0012]S3、接通所述电源系统的电源，采用恒压加工模式对所述钛合金工件进行抛光；
[0013]S4、将抛光后的所述钛合金工件自所述抛光槽中移出，并对所述钛合金工件进行清洗烘干，以获取抛光后的所述钛合金工件。
[0014]作为本专利技术的进一步改进，所述S1中，所述钛合金纳米抛光液为在80～90℃的温
度下混合溶解制成。
[0015]作为本专利技术的进一步改进，所述S3具体为，接通所述电源系统的电源，将所述钛合金工件缓慢放入所述抛光槽中，在恒压加工模式条件下，使得所述钛合金工件与所述钛合金纳米抛光液进行反应。
[0016]作为本专利技术的进一步改进，所述恒压加工模式具体为，在恒定电压的条件下使得所述钛合金工件与所述钛合金纳米抛光液进行反应，且所述电压为300
±
5V。
[0017]作为本专利技术的进一步改进，所述钛合金工件与所述钛合金纳米抛光液反应的时间为1～10min。
[0018]作为本专利技术的进一步改进，所述S4具体为，断开所述电源系统的电源，将抛光后的所述钛合金工件自所述抛光槽中缓慢移出，使用水对反应后的所述钛合金工件进行清洗烘干，以获取抛光后的所述钛合金工件。
[0019]本专利技术的有益效果是：本专利技术的钛合金纳米抛光液通过设置其组分，可在不改变钛合金工件的表面金属本色的情况下，方便快捷的完成对钛合金工件的抛光。同时通过使用本专利技术的钛合金纳米抛光液进行钛合金工件的抛光，同时通过设置抛光过程的抛光参数，可在高效率降低钛合金工件表面粗糙度的同时，提升钛合金工件表面的光泽度，且可有效避免钛合金工件表面出现氧化层。
附图说明
[0020]图1是本专利技术钛合金工件的抛光方法的流程示意图。
[0021]图2是使用本专利技术的钛合金工件的抛光方法进行抛光时的电源系统示意图。
[0022]图3是使用本专利技术的钛合金工件的抛光方法进行抛光时，钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0023]图4是实施例1中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0024]图5是实施例2中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0025]图6是实施例3中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0026]图7是实施例4中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0027]图8是实施例5中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0028]图9是实施例6中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0029]图10是实施例7中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0030]图11是实施例8中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0031]图12是对比例1中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0032]图13是对比例2中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
[0033]图14是对比例3中钛合金工件的表面粗糙度随抛光时间变化的曲线图。
具体实施方式
[0034]为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述。
[0035]在此，需要说明的是，为了避免因不必要的细节而模糊了本专利技术，在附图中仅仅示出了与本专利技术的方案密切相关的结构和/或处理步骤，而省略了与本专利技术关系不大的其他
细节。
[0036]另外，还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
[0037]本专利技术提供了一种钛合金纳米抛光液100，用于对采用钛合金制成的钛合金工件进行抛光。钛合金纳米抛光液100包括水，以所述水的质量百分比计，还包括1～5％的硫酸亚铁铵、1～5％的氯化钠以及1～5％的水杨酸，且钛合金纳米抛光液的混合制备温度为80～90℃。
[0038]事实上，在使用等离子抛光的形式对金属工件进行抛光时，金属工件接触到等离子抛光液时会出现瞬时短路，并放出大量的热，此时由于高温生成的水蒸气会在等离子抛光液与金属工件表面覆盖一层气层，由于高压的作用气层会被击穿形成放电通道，大量的电子在该通道中与金属工件表面发生碰撞使得金属迅速熔化，而微观表面凸起的部分会优先形成放电通道，所以可以降低金属表面的粗糙度；如此设置，可使得化学反应与放电去除同时进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钛合金纳米抛光液，其特征在于：包括水，以所述水的质量百分比计，还包括1～5％的硫酸亚铁铵、1～5％的氯化钠以及1～5％的水杨酸。2.根据权利要求1所述的钛合金纳米抛光液，其特征在于：所述钛合金纳米抛光液的混合制备温度为80～90℃。3.一种钛合金工件的纳米抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将水加入电源系统的抛光槽中，以所述水的质量百分比计，1～5％的硫酸亚铁铵、1～5％的氯化钠以及1～5％的水杨酸溶解于水中，制备钛合金纳米抛光液；S2、将所述抛光槽与所述电源系统的电源负极连接；钛合金工件与所述电源系统的电源正极连接；S3、接通所述电源系统的电源，采用恒压加工模式对所述钛合金工件进行抛光；S4、将抛光后的所述钛合金工件自所述抛光槽中移出，并对所述钛合金工件进行清洗烘干，以获取抛光后的所述钛合金工件。4.根据权利要求3所述的钛合金工件的纳米抛光方法，其特征在于：所述S1中，所述钛合金纳米抛光液为...

【专利技术属性】
技术研发人员：于成泽，王季，刘越盟，田小青，何健，朱志坤，蒋晨宇，刘梦杰，杨佳颖，
申请(专利权)人：中唯精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：