一种黑色高反复合封装胶膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种黑色高反复合封装胶膜，该封装胶膜为两层或三层结构，依次为黑色透红外胶膜层、高反胶膜层，三层结构则再加一层黑色透红外胶膜层。其制备方法，包括步骤：黑色透红外母粒制备、高反母粒制备、两种功能层分别混料、挤出得到黑色高反复合封装胶膜。该封装胶膜不仅能保证组件黑色外观，还能提高胶膜对近红外光的反射率，有效缓解了红外光的热效应导致的黑组件工作温度过高的问题，降低组件表面的工作温度，提高了黑组件的工作效率。提高了黑组件的工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种黑色高反复合封装胶膜及其制备方法


[0001]本专利技术属于光伏组件封装
，具体涉及一种黑色高反复合封装胶膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]建筑行业碳排放量占全国总排放的40％左右，从年均碳排放的角度来看，60％～80％为建材生产阶段产生的碳排放。所以，在建筑领域内实现减少碳排放的路径主要就是发展绿色建筑，而光伏建筑一体化(BIPV)可以说是绿色建筑的集大成者。BIPV(BuildingIntegratedPV)系“光伏建筑一体化”，将光伏产品集成到建筑自身，成为建筑的组成部分，兼美观与功能性，通常以建筑属性为主，发电属性为辅，主要包括屋顶、幕墙、玻璃等形式。黑色组件非常适合屋顶、车棚及光伏建筑(BIPV)领域的使用。黑色的屋顶和建筑立面，时尚美观的同时又能兼具发电收益。市场上黑色组件一般采用黑色背板封装。常规黑背板制备的黑色组件由于外观呈现黑色，几乎吸收所有波段的太阳光，不仅影响晶硅电池片对太阳光的吸收，还会提高组件工作温度，降低发电效率。目前市场上有一种高反黑色背板，能实现对近红外波段光的部分反射，但反射率目前只能达到60～70％左右，且黑背板与电池片间隔着一层封装胶膜，会大大降低黑背板对近红外光的反射效果，反射增效不明显。对于双玻组件，黑玻璃代价太高，目前更是还没有合理的封装方案来解决双玻黑组件的封装问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题是提供一种黑色高反复合封装胶膜及其制备方法，解决单双玻黑组件的封装问题。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种黑色高反复合封装胶膜，包括：第一黑色透红外胶膜层和高反胶膜层，按重量份计算，所述第一黑色透红外胶膜层中每100份的乙烯共聚物基体包含1～5份的黑色透红外颜料，0.2～0.8份的引发剂，0.3～0.8份的交联剂，0.15～0.3份的偶联剂，0.05～5份的抗氧剂，0.05～3份的光稳定剂，所述高反胶膜层中每100份的乙烯共聚物基体包含5～10份的高反填料、0.2～0.8份的引发剂，0.3～0.8份的交联剂，0.15～0.3份的偶联剂，0.05～5份的抗氧剂，0.05～3份的光稳定剂。
[0005]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述黑色高反复合封装胶膜的厚度为0.5～1mm，所述第一黑色透红外胶膜层与所述高反胶膜层的厚度比为1：2或1：1。
[0006]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述黑色高反复合封装胶膜还包括第二黑色透红外胶膜层，所述高反胶膜层设置在所述第一黑色透红外胶膜层和第二黑色透红外胶膜层之间。
[0007]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述黑色高反复合封装胶膜的厚度为0.5～1mm，所述第一黑色透红外胶膜层、高反胶膜层、第二黑色透红外胶膜
层的厚度比为1：1：1或1：2：1，所述第一黑色透红外胶膜层与所述第二黑色透红外胶膜层的配方相同。
[0008]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述黑色透红外颜料按重量份计算包含：酞青蓝10～20％，萘酚5～15％，聚二甲基硅氧烷0.1％～0.2％份，余量为苝系颜料。
[0009]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述黑色透红外颜料的制备方法为：将所述苝系颜料80份、酞青蓝15份，萘酚5份加入到干法超细研磨设备中，同时添加0.2份的聚二甲基硅氧烷，经研磨、分级，所述研磨分为粗磨和细磨，所述粗磨的压力为0.2～0.4MPa,所述细磨的压力为0.04～0.1MPa，所述研磨时间为8～10min，所述分级为过1000目筛，得到粒径为5～20μm的黑色透红外颜料。
[0010]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述高反填料为钛白粉、滑石粉、碳酸钙、高岭土、硫酸钡、氧化铝中的任意一种或几种，所述高反填料的粒径在200～3000目之间。
[0011]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述乙烯共聚物基体为乙烯
‑
醋酸乙烯共聚物、乙烯
‑
甲基丙烯酸甲酯共聚物、乙烯
‑
辛烯共聚物、乙烯
‑
戊烯共聚物中的任意一种或多种。
[0012]作为本专利技术所述的黑色高反复合封装胶膜的一种优选方案，所述引发剂为过氧化物类引发剂，所述交联剂为丙烯酸酯类助剂，所述偶联剂为硅烷偶联剂，所述抗氧剂为受阻酚类抗氧剂，所述光稳定剂为双(1,2,2,6,6
‑
五甲基
‑4‑
哌啶基)癸二酸酯、双(2,2,6,6
‑
四甲基哌啶基)癸二酸酯、3,5
‑
二叔丁基
‑4‑
羟基
‑
苯甲酸十六烷基酯中的任意一种或几种。
[0013]本专利技术还提供上述黑色高反复合封装胶膜的制备方法，包括步骤：
[0014](1)黑色透红外母粒制备：将乙烯共聚物和黑色透红外颜料按重量比例100：10～20的比例混合均匀，经双螺杆挤出机挤出造粒，挤出温度控制在120～160℃；
[0015](2)高反母粒制备：将乙烯共聚物与高反填料按重量比例100：40～60的比例混合均匀，经双螺杆挤出机挤出造粒，挤出温度控制在120～160℃；
[0016](3)两种功能层分别混料：将乙烯共聚物、黑色透红外母粒、引发剂、交联剂、偶联剂、抗氧剂和光稳定剂加入到混料机中搅拌均匀，获得黑色透红外胶膜层浆料；将乙烯共聚物、高反母粒、引发剂、交联剂、偶联剂、抗氧剂、光稳定剂加入到混料机中搅拌均匀，获得高反胶膜层浆料；
[0017](4)将所述黑色透红外胶膜层浆料和高反胶膜层浆料分别加入到共挤设备的两个料筒中，经单螺杆挤出机膜内或膜外共挤流延成复合膜，挤出温度控制在65～80℃之间，经冷却、收卷、预交联处理得到黑色高反复合封装胶膜。
[0018]与现有技术相比，本专利技术提出的一种黑色高反复合封装胶膜及其制备方法，其优点为：
[0019](1)黑色透红外胶膜层对太阳光中近红外波段的光的透光性能达到80％以上，当太阳光照射在高反复合黑膜上时，绝大部分的近红外光能穿透黑色透红外胶膜层到达高反胶膜层，高反胶膜层对太阳光中400
‑
1100nm波段的光的反射率高达90％，能有效对到达其表面的近红外光进行反射；
[0020](2)该黑色高反复合黑膜对760
‑
1100nm的近红外光的反射率高达80％以上，能有
效缓解红外光的热效应导致的黑组件工作温度过高的问题，反射到电池片上的光还能增加组件的发电效率。
具体实施方式
[0021]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。
[0022]首先，此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本专利技术至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“在一个实施例中”并非均指同一个实施例，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在于，包括：第一黑色透红外胶膜层和高反胶膜层，按重量份计算，所述第一黑色透红外胶膜层中每100份的乙烯共聚物基体包含1~5份的黑色透红外颜料，0.2~0.8份的引发剂，0.3~0.8份的交联剂，0.15~0.3份的偶联剂， 0.05~5份的抗氧剂，0.05~3份的光稳定剂，所述高反胶膜层中每100份的乙烯共聚物基体包含5~10份的高反填料、0.2~0.8份的引发剂，0.3~0.8份的交联剂，0.15~0.3份的偶联剂，0.05~5份的抗氧剂，0.05~3份的光稳定剂。2.根据权利要求1所述的一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在于：所述黑色高反复合封装胶膜的厚度为0.5~1mm，所述第一黑色透红外胶膜层与所述高反胶膜层的厚度比为1：2或1：1。3.根据权利要求1所述的一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在于：所述黑色高反复合封装胶膜还包括第二黑色透红外胶膜层，所述高反胶膜层设置在所述第一黑色透红外胶膜层和第二黑色透红外胶膜层之间。4.根据权利要求3所述的一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在于：所述黑色高反复合封装胶膜的厚度为0.5~1mm，所述第一黑色透红外胶膜层、高反胶膜层、第二黑色透红外胶膜层的厚度比为1：1：1或1：2：1，所述第一黑色透红外胶膜层与所述第二黑色透红外胶膜层的配方相同。5.根据权利要求1或4所述的一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在于：所述黑色透红外颜料按重量份计算包含：酞青蓝10~20%，萘酚5~15%，聚二甲基硅氧烷0.1%~0.2%，余量为苝系颜料。6.根据权利要求5所述的一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在于，所述黑色透红外颜料的制备方法为：将所述苝系颜料80份、酞青蓝14.8份，萘酚5份加入到干法超细研磨设备中，同时添加0.2份的聚二甲基硅氧烷，经研磨、分级，所述研磨分为粗磨和细磨，所述粗磨的压力为0.2~0.4MPa,所述细磨的压力为0.04~0.1MPa，所述研磨时间为8~10min，所述分级为过1000目筛，得到粒径为5~20
µ
m的黑色透红外颜料。7.根据权利要求1所述的一种黑色高反复合封装胶膜，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐炜琴，吕松，黄宝玉，张刚，季志超，刘俊，陈书亮，杨求平，吴斌，吴丰华，
申请(专利权)人：常州斯威克光伏新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：