【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及新型六芳基二咪唑化合物，其在光聚合反应体系中用作光引发剂；本专利技术同时涉及含有该光引发剂及聚酰亚胺光敏组合物。本专利技术同时提供了利用上述光敏组合物获得生成图象及相应电子元件的方法。
技术介绍
光敏树脂组合物已经广泛产业中得到应用，包括UV油墨、屏幕打印、近期发展起来的激光全息照相以及其它特定领域。光敏耐热性聚合物可作为正性光刻胶用以实现半导体日趋微型化，也可以用作保护涂层，负缓冲涂层及钝化涂膜。JP5-67026及JP63-3139报道了利用芳香二胺化合物与芳香族四羧基二酸酐反应而得到光敏耐热性材料。随和半导体产业的高速发展，步进机设备已经从g-线(435nm)逐渐过渡到i-线(365nm)，迎合更高标准微型设计尺寸的要求。具有芳香单体骨架结构的聚酰亚胺前体化合物具有优异的抗热性和用作光刻胶的机械特性；但是上述聚酰亚胺前体化合物本身具有光吸收特性，其在UV波段，尤其是在i-线波段(365nm)透明性差。相应地，聚酰亚胺前体涂层的光刻胶在曝光范围内的光化学反应性低，光敏性不足，从而导致图象生成效果恶化。随着LOC技术的出现，更厚料的聚酰亚胺涂膜被...
【技术保护点】
本专利技术涉及到通式Ⅰ结构六芳基二咪唑衍生物，其用作光聚合反应引发剂。＊＊＊Ⅰ其中：Ｒ↓［１］，Ｒ↓［２］独立是烷基、含氟烷基；Ｘ↓［１］，Ｘ↓［２］，Ｘ↓［３］，Ｘ↓［４］，Ｘ↓［５］独立是氢，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基； 且Ｘ↓［１］，Ｘ↓［２］，Ｘ↓［３］，Ｘ↓［４］，Ｘ↓［５］中至少有一个基团为含氟烷基。
【技术特征摘要】
1.本发明涉及到通式I结构六芳基二咪唑衍生物，其用作光聚合反应引发剂。 其中R1，R2独立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5独立是氢，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一个基团为含氟烷基。2.如权利要求1，本发明涉及通式I二聚体结构中具有优势的异构体构型如Ia所示 其中R1，R2独立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5独立是氢，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一个基团为含氟烷基。3.本发明涉及一类光敏性组合物，其包括A)至少一种含有碳碳双键的可光聚合化合物；B)至少含有一种六芳基二咪唑化合物，其特征为通式I化合物。 其中R1，R2独立是烷基、含氟烷基；X1，X2，X3，X4，X5独立是氢，氟，烷基，烷氧基，含氟烷基；且X1，X2，X3，X4，X5中至少有一个基团为含氟烷基。4.如权利要求1和2，R1，R2优选为C1～10烷基及C1～10含氟烷基，更优选为C1～2烷基及C1～2含氟烷基。5.如权利要求1和2，X1，X2，X3，X4，X5优选为C1～10烷基，C1～10烷氧基及C1～10含氟烷基，更优选为C1～2烷基，C1～2烷氧基及C1～2含氟烷基。在通式I和Ia所示六芳基二咪唑衍生物结构，在其中两个含有X1，X2，X3，X4，X5的苯环上优选为其中有1～2个Xi(i＝1～6)为C1～2含氟烷基，或同时存在1～3个Xj(j＝1～6)为氟。6.如权利要求1，2，4，5，本发明通式I和Ia结构六芳基二咪唑衍生物的优选化合物包括2，2’-双(2-三氟甲基苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(3-三氟甲基苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(4-三氟甲基苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(2，4-二(三氟甲基)-苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(2，6-二(三氟甲基)-苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(2-氟-4-三氟甲基苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(2-三氟甲基-4-氟苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(2-三氟甲基-6-氟苯基)-4，4’，5，5’-四(间-甲氧基苯基)-1，2’-二咪唑2，2’-双(2-三氟甲基-4，6-二氟苯基)-4，4’，5，5’-四...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐俊伟，黄建，邓爱斌，
申请(专利权)人：常州华钛化学有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。