新型真空镀膜公自转回转机构制造技术

本实用新型专利技术公开了新型真空镀膜公自转回转机构，涉及真空镀膜机技术领域，为解决采用一个动力输出，在带动回转支承进行转动时，容易导致回转支承另一端受力不平衡，在转动时容易导致回转支承偏斜，水平度误差较大，降低真空镀膜精度的问题。所述底座上设置有转动槽，所述转动槽的内部设置有回转盘，所述回转盘的外部设置有外齿轮，且外齿轮与回转盘通过螺钉连接，所述底座的下方设置有电机，电机设置有两个，且两个电机均与底座通过螺钉连接，两个所述电机关于底座中心线对称设置，两个所述电机输出端的上方均设置有转轴，且转轴与底座转动连接，所述外齿轮的两侧均设置有齿轮，所述齿轮与转轴连接为一体结构，所述回转盘的上方设置有加工台。设置有加工台。设置有加工台。

【技术实现步骤摘要】
新型真空镀膜公自转回转机构


[0001]本技术涉及真空镀膜机
，具体为新型真空镀膜公自转回转机构。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面，属于物理气相沉积工艺,真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上,真空镀膜需要借助回转机构辅助，回转机构是机械设备的回转部分绕其回转中心线，实现回转运动的机构。
[0003]目前，回转机构所使用的驱动装置只采用一个动力输出，在带动回转支承进行转动时，容易导致回转支承另一端受力不平衡，在转动时容易导致回转支承偏斜，水平度误差较大，降低真空镀膜精度，不能满足使用需求。因此市场上急需新型真空镀膜公自转回转机构来解决这些问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供新型真空镀膜公自转回转机构，以解决上述
技术介绍
中提出采用一个动力输出，在带动回转支承进行转动时，容易导致回转支承另一端受力不平衡，在转动时容易导致回转支承偏斜，水平度误差较大，降低真空镀膜精度的问题。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.新型真空镀膜公自转回转机构，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)上设置有转动槽(9)，所述转动槽(9)的内部设置有回转盘(4)，所述回转盘(4)的外部设置有外齿轮(11)，且外齿轮(11)与回转盘(4)通过螺钉连接，所述底座(1)的下方设置有电机(3)，电机(3)设置有两个，且两个电机(3)均与底座(1)通过螺钉连接，两个所述电机(3)关于底座(1)中心线对称设置，两个所述电机(3)输出端的上方均设置有转轴(8)，且转轴(8)与底座(1)转动连接，所述外齿轮(11)的两侧均设置有齿轮(10)，且齿轮(10)设置在转轴(8)的外部，所述齿轮(10)与转轴(8)连接为一体结构，且齿轮(10)与外齿轮(11)啮合连接，所述回转盘(4)的上方设置有加工台(7)，且加工台(7)与回转盘(4)通过螺钉连接。2.根据权利要求1所述的新型真空镀膜公自转回转机构，其特征在于：所述底座(1)的下方设置有减振支撑腿(2)，且减振支撑腿(2)与底座(1)通过螺钉连接，所述回转盘(4)的下端设置有滑槽(6)，所述回转盘(4)的下方设置有支撑座(5)，且支撑座(5)的一端延伸至滑槽(6)的内部，所述支撑座(5)与底座(1)通过螺钉连接，且支撑座(5)与回转盘(4)滑动连接。3.根据权利要求1所述的新型真空镀膜公自转回转机构，其特征在于：所述加工台(7)上设置有润油孔(14)，润油孔(14)设置有四个，且四个润油孔(14)在加工台(7)上依次设置，所述润油孔(14)的下端延伸至转动槽(9)的内部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟平，王金泉，王菊姿，
申请(专利权)人：莱糸真空科技常州有限公司，
类型：新型
国别省市：