衬底处理设备和衬底处理方法技术

在本发明专利技术的衬底处理设备中，当将衬底装入腔室中时，与衬底保持部一体形成的框架部插入该腔室与盖之间，从而密封该腔室的内部。当将衬底卸载至腔室上方时，腔室与盖形成直接接触，从而密封该腔室的内部。因此，当将衬底装入该腔室中时，与当将衬底卸载至该腔室的上方时，该腔室的内部能够得以令人满意地密封。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，该衬底处理设备对衬底如半导体衬底、用于液晶显示装置的玻璃衬底和用于光掩模的玻璃衬底进行预处理。
技术介绍
通常公知的衬底的制造步骤采用一种衬底处理设备，该衬底处理设备通过将衬底浸入到处理溶液中来进行对衬底的预处理。图21为示出了传统的衬底处理设备的简图。如图21所示的衬底处理设备100设有处理池110，其存储着处理溶液；运送机构120，其上下地运送衬底W。运送机构120具有驱动部121、臂部122以及衬底保持部123。驱动部121进行操作以使臂部122和衬底保持部123一体地上下运动。衬底W保持于衬底保持部123上，并与衬底保持部123一起被上下运送。当对衬底W进行预定处理时，衬底处理设备100使得驱动部121操作，从而使臂部122和衬底保持部123一起下降。衬底处理设备100通过将衬底W浸入储存于处理池110中的处理溶液中而对衬底W进行预定的处理。在如此构造的衬底处理设备100中，需要使包括处理池110的空间尽可能狭窄地进行密封，以便用于阻止包含处理溶液成分的气体扩散，并且用于控制处理空间的空气压力。然而，对于衬底处理设备100，因为衬底W与臂部122一起被运送至处理池110，所以在臂部122周围没有空间的情况下，就难以密封包括处理池110的空间。例如，如图22所示，如果增加由气密构件形成并封闭着处理池110的处理室130，那么在臂部122周围没有空间的情况下就难以设置处理室130。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种衬底处理设备，该衬底处理设备对衬底进行预定处理。根据本专利技术的一个方案，衬底处理设备包括a)处理室，其内部具有用于对衬底进行预定处理的处理空间；b)运送部，其通过形成于该处理室的上部的开口部而在该处理室的内部与外部之间运送衬底；以及c)盖，其用于打开与关闭该开口部。该运送部包括b-1)驱动部，其设置于该处理室外部；b-2)保持部，其保持衬底并通过该驱动部的驱动而在该处理室的内部与外部之间运动；以及b-3)框架部，其设置于该驱动部与该保持部之间。当将保持部移动至处理室的内部并且盖关闭时，框架部插入开口部的边缘部分与该盖之间，从而密封该处理室的内部。当将保持部移动至处理室的外部并且盖关闭时，该盖与开口部的边缘部分接触，从而密封该处理室的内部。当将衬底装入处理室时，以及当将衬底卸载至该处理室的外部时，衬底处理设备使得处理室的内部能够被令人满意地密封。优选地，开口部的边缘部分设有开口部侧密封构件。当将保持部移动至处理室的内部并且盖关闭时，开口部侧密封构件在开口部的边缘部分与框架部之间提供气密接触。当将保持部移动至处理室的外部并且盖关闭时，开口部侧密封构件在开口部的边缘部分与盖之间提供气密接触。该衬底处理设备能够在开口部的边缘部分与框架部之间，以及开口部的边缘部分与盖之间实现令人满意的气密接触。优选地，该盖的下部设有盖侧密封构件。当将保持部移动至该处理室的内部并且盖关闭时，盖侧密封构件在盖与框架部之间提供气密接触。当将保持部移动至处理室的外部并且盖关闭时，盖侧密封构件在开口部的边缘部分与盖之间提供气密接触。该衬底处理设备能够在盖与框架部之间，以及开口部的边缘部分与盖之间实现令人满意的气密接触。优选地，开口部侧密封构件与盖侧密封构件分别向内部与外部移动。这样就消除了开口部侧密封构件的顶端与盖侧密封构件的顶端之间发生任何接触的可能性，从而使衬底处理设备可以更可靠地密封该处理室的内部。优选地，该处理室的内部设置有储存处理溶液的处理池，并且由保持部保持的衬底浸入储存于该处理池中的处理溶液中。该衬底处理设备能够防止包含处理溶液的成分的空气的扩散，同时利用处理溶液对衬底进行预定处理。根据本专利技术的其它方案，衬底处理设备包括a)处理池，其储存处理溶液；b)运送部，其通过形成于该处理池的上部的开口部而在该处理池的内部与外部之间运送衬底；以及c)盖，其用于打开与关闭该开口部。该运送部包括b-1)驱动部，其设置于该处理池外部；b-2)保持部，其保持衬底并通过该驱动部的驱动而在该处理池的内部与外部之间运动；以及b-3)框架部，其设置于该驱动部与该保持部之间。当将保持部移动至处理池的内部并且盖关闭时，框架部插入开口部的边缘部分与该盖之间，从而密封该处理池的内部。当将保持部移动至处理池的外部并且盖关闭时，该盖与开口部的边缘部分接触，从而密封该处理池的内部。当将衬底装入处理池时，以及当将衬底卸载至该处理池的外部时，衬底处理设备使得处理池的内部被令人满意地密封。优选地，开口部的边缘部分设有开口部侧密封构件。当将保持部移动至处理池的内部并且盖关闭时，开口部侧密封构件在开口部的边缘部分与框架部之间提供气密接触。当将保持部移动至处理池的外部并且盖关闭时，开口部侧密封构件在开口部的边缘部分与盖之间提供气密接触。该衬底处理设备能够在开口部的边缘部分与框架部之间，以及开口部的边缘部分与盖之间实现令人满意的气密接触。优选地，该盖的下部设有盖侧密封构件。当将保持部移动至该处理池的内部并且盖关闭时，盖侧密封构件在盖与框架部之间提供气密接触。当将保持部移动至处理池的外部并且盖关闭时，盖侧密封构件在开口部的边缘部分与盖之间提供气密接触。该衬底处理设备能够在盖与框架部之间，以及开口部的边缘部分与盖之间实现令人满意的气密接触。优选地，开口部侧密封构件与盖侧密封构件分别向内部与外部移动。这样就消除了开口部侧密封构件的顶端与盖侧密封构件的顶端之间发生任何接触的可能性，从而使衬底处理设备可以更可靠地密封该处理池的内部。本专利技术的这些和其它目的、特征、方案和优点将通过以下结合附图的本专利技术的详细描述而变得更加清晰。附图说明图1为根据本专利技术的第一优选实施例的衬底处理设备的、沿垂直于衬底的平面剖开的纵向剖视图；图2为衬底处理设备的、沿平行于衬底的平面剖开的纵向剖视图；图3示出了化学溶液供应系统的结构的简图；图4示出了与腔室的盖连接的驱动部的结构的简图；图5为衬底处理设备的、沿垂直于衬底的平面剖开的纵向剖视图；图6和图7为盖、框架部以及凸缘部的放大纵向剖视图；图8为盖与凸缘部的放大纵向剖视图；图9示出了去离子水供应系统的构造的简图；图10示出了控制系统的构造的方框图；图11至17示出了衬底处理设备的操作情况的简图；图18为根据第二优选实施例的衬底处理设备的、沿垂直于衬底的平面剖开的纵向剖视图；图19为根据第二优选实施例的衬底处理设备的、沿平行于衬底的平面剖开的纵向剖视图；图20为根据第二优选实施例的衬底处理设备的、沿垂直于衬底的平面剖开的纵向剖视图；图21示出了传统的衬底处理设备的构造的简图；以及图22示出了设有用于封闭处理池的处理室的传统的衬底处理设备构造的简图。具体实施例方式以下将参考附图对本专利技术的优选实施例进行描述。1.第一优选实施例图1和图2示出了根据本专利技术第一优选实施例的衬底处理设备1的构造的简图。具体地，图1为衬底处理设备1的、沿垂直于衬底的平面剖开的纵向剖视图。图2为衬底处理设备1的、沿平行于衬底的平面剖开的纵向剖视图。在图1和图2中，加入直角坐标系以便说明各部分之间的位置关系。衬底处理设备1对多个衬底(以下简称为“衬底”)W进行化学溶液处理与清洗处理，同时保持衬底W处于其竖立位置。如图1和图2所示，衬底处理设备1主要包括处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底处理设备，其对衬底进行预定处理，所述衬底处理设备包括：ａ）处理室，其内部具有用于对衬底进行预定处理的处理空间；ｂ）运送部，其通过形成于所述处理室的上部的开口部而在所述处理室的内部与外部之间运送衬底，所述运送部包括：　 　ｂ－１）驱动部，其设置于所述处理室外部；ｂ－２）保持部，其保持衬底并通过所述驱动部的驱动而在所述处理室的内部与外部之间运动；和ｂ－３）框架部，其设置于所述驱动部与所述保持部之间，以及ｃ）盖，其用于打开与关闭该开 口部；其中，当将所述保持部移动至所述处理室的内部并且所述盖关闭时，所述框架部插入所述开口部的边缘部分与所述盖之间，从而密封所述处理室的内部，以及当将所述保持部移动至所述处理室的外部并且所述盖关闭时，所述盖与所述开口部 的所述边缘部分接触，从而密封所述处理室的内部。

【技术特征摘要】
JP 2005-9-28 2005-2821151.一种衬底处理设备，其对衬底进行预定处理，所述衬底处理设备包括a)处理室，其内部具有用于对衬底进行预定处理的处理空间；b)运送部，其通过形成于所述处理室的上部的开口部而在所述处理室的内部与外部之间运送衬底，所述运送部包括b-1)驱动部，其设置于所述处理室外部；b-2)保持部，其保持衬底并通过所述驱动部的驱动而在所述处理室的内部与外部之间运动；和b-3)框架部，其设置于所述驱动部与所述保持部之间，以及c)盖，其用于打开与关闭该开口部；其中，当将所述保持部移动至所述处理室的内部并且所述盖关闭时，所述框架部插入所述开口部的边缘部分与所述盖之间，从而密封所述处理室的内部，以及当将所述保持部移动至所述处理室的外部并且所述盖关闭时，所述盖与所述开口部的所述边缘部分接触，从而密封所述处理室的内部。2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述开口部的所述边缘部分设有开口部侧密封构件，当将所述保持部移动至所述处理室的内部并且所述盖关闭时，所述开口部侧密封构件在所述开口部的所述边缘部分与所述框架部之间提供气密接触，以及当将所述保持部移动至所述处理室的外部并且所述盖关闭时，所述开口部侧密封构件在所述开口部的所述边缘部分与所述盖之间提供气密接触。3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述盖的下部设有盖侧密封构件，当将所述保持部移动至所述处理室的内部并且所述盖关闭时，所述盖侧密封构件在所述盖与所述框架部之间提供气密接触，以及当将所述保持部移动至所述处理室的外部并且所述盖关闭时，所述盖侧密封构件在所述开口部的所述边缘部分与所述盖之间提供气密接触。4.根据权利要求3所述的衬底处理设备，其中，所述开口部侧密封构件与所述盖侧密封构件分别向内部与外部移动。5.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其中，所述处理室的内部设置有储存着处理溶液的处理池，并且由所述保持部保持的衬底浸入储存于所述处理池中的所述处理溶液中。6.一种衬底处理设备，其用于对衬底进行预定处理，包括a)处理池，其储存处理溶液；b)运送部，其通过形成于所述处理池的上部的开口部而在所述处理池的内部与外部之间运送衬底，所述运送部包括b-1)驱动部，其设置于所述处理池的外部；b-2)保持部，其保持衬底并通过所述驱动部的驱动而在所述处理池的内部与外部之间运动；以及b-3)框架部，其设置于所述驱动部与所述保持部之间；以及c)盖，其用于打开与关闭所述开口部；其中，当将所述保持部移动至所述处理池的内部并且所述盖关闭时，所述框架部插入所述开口部的边缘部分与所述盖之间，从而密封所述处理室的内部，以及当将所述保持部移动至所述处理池的外部并且所述盖关闭时，所述盖与所述开口部的所述边缘部分接触，从而密封所述处理池的内部。7.根据权利要求6所述的衬底处理设备，其中，所述开口部的所述边缘部分设有开口部侧密封构件，当将所述保持部移动至所述处理池的内部并且所述盖关闭时，所述开口部侧密封构件在所述开口部的所述边缘部分与所述框架部之间提供气密接触，以及当将所述保持...

【专利技术属性】
技术研发人员：福井克洋，广江敏朗，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]