本实用新型专利技术涉及砷化镓晶片技术领域，且公开了一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置，包括安装基板，所述安装基板的顶部从左至右固定安装有安装竖板和清洗箱。该用于砷化镓晶片片盒的清洗装置，通过设置在其装置内的第二电机，当需要对片盒进行清洗时，可以通过拉动片盒槽上的卡板将晶片片盒放置在槽内，卡板通过其底部连接的弹簧可以对晶片片盒有效固定，从而在其翻转时不会掉落，在对片盒进行清洗时第二电动推杆推动挡板向左移动关闭通风孔可以防止清洗水流入烘干结构，当片盒需要进行烘干时第二电动推杆带动挡板向右移动打开通风孔，烘干结构对片盒槽内的晶片片盒进行热处理从而达到烘干效果，方便了使用者的日常使用。方便了使用者的日常使用。方便了使用者的日常使用。
【技术实现步骤摘要】
一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置
[0001]本技术涉及砷化镓晶片
，具体为一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置。
技术介绍
[0002]砷化镓晶片是镓和砷两种元素所合成的化合物，也是重要的IIIA族、VA族化合物半导体材料，用来制作微博集成电路、红外线发光二极管、半导体激光器和太阳电池等元件。
[0003]一般情况下，砷化镓晶片都是放置在专用的砷化镓晶片片盒内，但是砷化镓晶片片盒长期使用会产生一定的污染，需要对其进行清洗，以便二次利用，目前市场上现有的清洗装置对砷化镓晶片片盒清洗之后一般都采取静置干燥，这种针对晶片片盒的干燥效率低下，故而提出一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术提供了一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置，具备可以对清洗后的砷化镓晶片片盒进行快速烘干等优点，解决了目前市场上现有的清洗装置对砷化镓晶片片盒清洗之后一般都采取静置干燥，这种针对晶片片盒的干燥效率低下的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述对清洗后的砷化镓晶片片盒进行快速烘干目的，本技术提供如下技术方案：一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置，包括安装基板，所述安装基板的顶部从左至右固定安装有安装竖板和清洗箱，所述安装竖板的右侧顶部固定安装有位于清洗箱上方的安装横板，所述安装横板的内部固定安装有一端延伸至其外部的输水管，所述输水管的底部左右两侧均连通有一端延伸至安装横板底部的喷头，所述安装横板的底部固定安装有位于两个喷头之间的第一电动推杆，所述第一电动推杆的底部固定安装有横板，所述横板的底部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴固定安装有毛刷盘，所述清洗箱内壁左侧固定安装有电机固定座，所述电机固定座的内部安装有第二电机，所述第二电机的输出轴固定安装有一端与清洗箱内壁右侧活动连接的横杆，所述横杆上固定安装有片盒槽，所述片盒槽的内壁底部左右两侧均固定安装有一端至其顶部的套筒，所述套筒内壁底部固定安装有一端延伸至其顶部的固定轴，所述固定轴的外部套接有卡板，所述卡板的底部与套筒内壁底部之间固定安装有套在固定轴外壁的弹簧，所述清洗箱的内壁左右两侧之间固定安装有位于横杆下方的隔板，所述隔板的内部从左至右开设有漏水孔、通风孔和安装槽，所述通风孔与安装槽之间为连通状态，所述安装槽的内部固定安装第二电动推杆，所述第二电动推杆的输出端固定安装有一端与漏水孔内部左侧壁贴合的挡板，所述清洗箱内壁右侧固定安装有位于隔板下方的固定板，所述固定板的顶部固定安装有烘干结构，所述清洗箱
的内底壁活动安装有废水处理箱。
[0008]优选的，所述漏水孔的数量不少于六个，且漏水孔呈等距离分布。
[0009]优选的，所述隔板的长度应大于两个片盒槽的长度之和。
[0010]优选的，所述烘干结构包括固定安装在固定板上的箱体，箱体的内底壁固定安装有风机，箱体内壁前后两侧之间固定安装有发热管，发热管位于风机的上方，箱体的内顶壁为网孔状，其内部的发热管的数量不少于十个，且发热管之间呈等距离分布。
[0011]优选的，所述片盒槽的槽内底壁为网孔状。
[0012](三)有益效果
[0013]与现有技术相比，本技术提供了一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置，具备以下有益效果：
[0014]该用于砷化镓晶片片盒的清洗装置，通过设置在其装置内的第二电机，当需要对片盒进行清洗时，可以通过拉动片盒槽上的卡板将晶片片盒放置在槽内，卡板通过其底部连接的弹簧可以对晶片片盒有效固定，从而在其翻转时不会掉落，在对片盒进行清洗时第二电动推杆推动挡板向左移动关闭通风孔可以防止清洗水流入烘干结构，当片盒需要进行烘干时第二电动推杆带动挡板向右移动打开通风孔，烘干结构对片盒槽内的晶片片盒进行热处理从而达到烘干效果。
附图说明
[0015]图1为本技术结构示意图；
[0016]图2为本技术结构片盒槽示意图；
[0017]图3为本技术结构片盒槽的俯视图。
[0018]图中：1安装基板、2安装竖板、3安装横板、4输水管、5喷头、6第一电动推杆、7横板、8第一电机、9毛刷盘、10清洗箱、11电机固定座、12第二电机、13横杆、14隔板、15漏水孔、16安装槽、17第二电动推杆、18挡板、19固定板、20烘干结构、21通风孔、22废水处理箱、23片盒槽、24套筒、25固定轴、26卡板、27弹簧。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
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3，本技术提供一种技术方案：一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置，包括安装基板1，安装基板1的顶部从左至右固定安装有安装竖板2和清洗箱10，安装竖板2的右侧顶部固定安装有位于清洗箱10上方的安装横板3，安装横板3的内部固定安装有一端延伸至其外部的输水管4，输水管4的底部左右两侧均连通有一端延伸至安装横板3底部的喷头5，安装横板3的底部固定安装有位于两个喷头5之间的第一电动推杆6，第一电动推杆6的底部固定安装有横板7，横板7的底部固定安装有第一电机8，第一电机8的输出轴固定安装有毛刷盘9，清洗箱10内壁左侧固定安装有电机固定座11，电机固定座11的内部安装有第二电机12，第二电机12的输出轴固定安装有一端与清洗箱10内壁右侧活动连接的横杆
13，横杆13上固定安装有片盒槽23，片盒槽23的槽内底壁为网孔状，片盒槽23的内壁底部左右两侧均固定安装有一端至其顶部的套筒24，套筒24内壁底部固定安装有一端延伸至其顶部的固定轴25，固定轴25的外部套接有卡板26，卡板26的底部与套筒24内壁底部之间固定安装有套在固定轴25外壁的弹簧27，清洗箱10的内壁左右两侧之间固定安装有位于横杆13下方的隔板14，隔板14的内部从左至右开设有漏水孔15、通风孔21和安装槽16，漏水孔15的数量不少于六个，且漏水孔15呈等距离分布，通风孔21与安装槽16之间为连通状态，安装槽16的内部固定安装第二电动推杆17，第二电动推杆17的输出端固定安装有一端与漏水孔15内部左侧壁贴合的挡板18，挡板18的长度应大于两个片盒槽23的长度之和，清洗箱10内壁右侧固定安装有位于隔板14下方的固定板19，固定板19的顶部固定安装有烘干结构20，烘干结构20包括固定安装在固定板19上的箱体，箱体的内底壁固定安装有风机，箱体内壁前后两侧之间固定安装有发热管，发热管位于风机的上方，箱体的内顶壁为网孔状，其内部的发热管的数量不少于十个，且发热管之间呈等距离分布，通过设置在其装置内的第二电机12，当需要对片盒进行清洗时，可以通过拉动片盒槽23上的卡板26将晶片片盒放置在槽内，卡板26通过其本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于砷化镓晶片片盒清洗装置，包括安装基板(1)，其特征在于：所述安装基板(1)的顶部从左至右固定安装有安装竖板(2)和清洗箱(10)，所述安装竖板(2)的右侧顶部固定安装有位于清洗箱(10)上方的安装横板(3)，所述安装横板(3)的内部固定安装有一端延伸至其外部的输水管(4)，所述输水管(4)的底部左右两侧均连通有一端延伸至安装横板(3)底部的喷头(5)，所述安装横板(3)的底部固定安装有位于两个喷头(5)之间的第一电动推杆(6)，所述第一电动推杆(6)的底部固定安装有横板(7)，所述横板(7)的底部固定安装有第一电机(8)，所述第一电机(8)的输出轴固定安装有毛刷盘(9)，所述清洗箱(10)内壁左侧固定安装有电机固定座(11)，所述电机固定座(11)的内部安装有第二电机(12)，所述第二电机(12)的输出轴固定安装有一端与清洗箱(10)内壁右侧活动连接的横杆(13)，所述横杆(13)上固定安装有片盒槽(23)，所述片盒槽(23)的内壁底部左右两侧均固定安装有一端至其顶部的套筒(24)，所述套筒(24)内壁底部固定安装有一端延伸至其顶部的固定轴(25)，所述固定轴(25)的外部套接有卡板(26)，所述卡板(26)的底部与套筒(24)内壁底部之间固定安装有套在固定轴(25)外壁的弹簧(27)，所述清洗箱(10)的内壁左右两侧之间固定安装有位于...
【专利技术属性】
技术研发人员：卜俊鹏，
申请(专利权)人：浙江康鹏半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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