一种用于光刻机的隔振装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光刻设备技术领域，公开了一种用于光刻机的隔振装置，其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理，使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化，为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境，控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理，从而维持内部工作环境的稳定，也即，第一隔振机构和第二隔振机构相配合，协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果，为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境，提高了工件台的运动精度。精度。精度。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻机的隔振装置


[0001]本专利技术涉及光刻设备
，特别是涉及一种用于光刻机的隔振装置。

技术介绍

[0002]芯片产业是各国先进技术集智集优的结晶，但在芯片生产方面，我国的半导体技术仍然处于初级阶段，因此对该领域的研究从未停止。光刻机是用于集成电路和微型电子器件制造的超精密加工设备，其制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，随着半导体技术和电子产业的不断发展，相关企业对光刻机的要求也越来越高，光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，是将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。随着对光刻机工件台上运动部件的运动精度要求越来越高，并且对于其整机的工作环境的要求也越来越高，但外界环境的振动干扰以及光刻机工件台工作时产生的振动干扰，会对光刻机的整体加工精度产生影响，因此需要对光刻机采取隔振措施并提出适用的隔振方案。但现有的用于光刻机的隔振装置只能在一定程度上减少外部环境传递到光刻机上的振动，隔振效果较差，限制了光刻机的加工精度。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种隔振效果好、减振效果强的用于光刻机的隔振装置。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术提供了一种用于光刻机的隔振装置，其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，所述隔振平台通过所述第一隔振机构安装于所述基座上，所述第一隔振机构用于对所述隔振平台产生的振动进行减振处理，所述悬挂部设于所述隔振平台的底部，所述悬挂部具有用于安装工件台的安装位，所述第二隔振机构设于所述基座上，并与所述悬挂部相连接，所述第二隔振机构用于对所述工件台产生的振动进行减振处理，所述第一隔振机构和所述第二隔振机构均与所述控制器电连接。
[0005]在本申请的一些实施例中，所述第一隔振机构包括多个第一隔振器，多个所述第一隔振器沿所述基座的周向均匀分布于所述基座的顶部，所述隔振平台设于所述第一隔振器的顶部，所述控制器与所述第一隔振器电连接。
[0006]在本申请的一些实施例中，所述第一隔振器为空气弹簧隔振器。
[0007]在本申请的一些实施例中，所述第二隔振机构包括光栅传感部件和多个第二隔振器，所述光栅传感部件设于所述悬挂部上，用于获取所述工件台的位置信息，多个所述第二隔振器与所述悬挂部相连接，所述控制器与所述光栅传感部件、所述第二隔振器均电连接。
[0008]在本申请的一些实施例中，所述第二隔振器包括电机、支架以及滑块，所述滑块可滑动地设于所述支架上，且所述滑块与所述悬挂部相连接，所述控制器与所述电机电连接，并通过所述电机控制所述滑块对所述悬挂部产生与所述工件台运动方向相反的作用力。
[0009]在本申请的一些实施例中，所述第二隔振器为电磁阻尼隔振器。
[0010]在本申请的一些实施例中，所述第二隔振器通过连接件与所述悬挂部的侧壁相连接。
[0011]在本申请的一些实施例中，所述第二隔振器设为三个，其中两个所述第二隔振器可对所述悬挂部产生沿X方向的作用力，另一个所述第二隔振器的滑块可对所述悬挂部产生沿Y方向的作用力。
[0012]在本申请的一些实施例中，所述悬挂部上设有第一限位件和第二限位件，所述第一限位件用于限定所述工件台在X方向上的位置，所述第二限位件用于限定所述工件台在Y方向上的位置。
[0013]本专利技术提供一种用于光刻机的隔振装置，与现有技术相比，其有益效果在于：
[0014]本专利技术提供的用于光刻机的隔振装置包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，隔振平台通过第一隔振机构安装于基座上，第一隔振机构用于对隔振平台产生的振动进行减振处理，悬挂部设于隔振平台的底部，悬挂部具有用于安装工件台的安装位，第二隔振机构设于基座上，并与悬挂部相连接，第二隔振机构用于对工件台产生的振动进行减振处理，第一隔振机构和第二隔振机构均与控制器电连接。基于上述结构，控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理，使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化，为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境，控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理，从而维持内部工作环境的稳定，也即，第一隔振机构和第二隔振机构相配合，协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果，为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境，提高了工件台的运动精度。
附图说明
[0015]图1为本专利技术实施例的用于光刻机的隔振装置的整体结构示意图；
[0016]图2为本专利技术实施例的用于光刻机的隔振装置的局部仰视示意图；
[0017]图3为本专利技术实施例的第一隔振器的整体结构示意图；
[0018]图4为本专利技术实施例的第二隔振器的整体结构示意图；
[0019]图5为本专利技术另一实施例的用于光刻机的隔振装置的整体结构示意图；
[0020]图6为本专利技术另一实施例的用于光刻机的隔振装置的局部仰视示意图；
[0021]图7为本专利技术另一实施例的第二隔振器的整体结构示意图。
[0022]图中：1、基座；2、隔振平台；3、悬挂部；31、第一限位件；32、第二限位件；4、第一隔振机构；41、第一隔振器；411、隔振器本体；412、连接板；5、第二隔振机构；51、光栅传感部件；52、第二隔振器；521、支架；522、滑块；523、连接件；523a、卡位。
具体实施方式
[0023]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0024]需要理解的是，在本申请的描述中，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、
“
右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量，也即，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。此外，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0025]需要说明的是，在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0026]如图1所示，本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻机的隔振装置，其特征在于，包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，所述隔振平台通过所述第一隔振机构安装于所述基座上，所述第一隔振机构用于对所述隔振平台产生的振动进行减振处理，所述悬挂部设于所述隔振平台的底部，所述悬挂部具有用于安装工件台的安装位，所述第二隔振机构设于所述基座上，并与所述悬挂部相连接，所述第二隔振机构用于对所述工件台产生的振动进行减振处理，所述第一隔振机构和所述第二隔振机构均与所述控制器电连接。2.如权利要求1所述的用于光刻机的隔振装置，其特征在于，所述第一隔振机构包括多个第一隔振器，多个所述第一隔振器沿所述基座的周向均匀分布于所述基座的顶部，所述隔振平台设于所述第一隔振器的顶部，所述控制器与所述第一隔振器电连接。3.如权利要求2所述的用于光刻机的隔振装置，其特征在于，所述第一隔振器为空气弹簧隔振器。4.如权利要求1所述的用于光刻机的隔振装置，其特征在于，所述第二隔振机构包括光栅传感部件和多个第二隔振器，所述光栅传感部件设于所述悬挂部上，用于获取所述工件台的位置信息，多个所述第二隔振器与所述悬挂部...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵鹏越，赵博，吴剑威，李昌其，潘健生，张银，谭久彬，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：