曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法，通过不仅照射波长较长的光，还充分照射波长较短的光，能够使含有引发剂的抗蚀剂更均匀地曝光。曝光用光源(12)由第一光源(20)和第二光源(22)构成，该第一光源(20)具有LED(30)，该第二光源(22)由放射波长比从第一光源(20)中的LED(30)放射的LED光的波长短的光的光源(32)构成。LED光的波长短的光的光源(32)构成。LED光的波长短的光的光源(32)构成。

【技术实现步骤摘要】
曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法


[0001]本专利技术涉及主要用于制造半导体时的曝光的曝光用光源、曝光装置及曝光方法。

技术介绍

[0002]以往，作为用于半导体制造等的曝光装置的光源，例如采用使用一根或数根额定12kW的大型汞灯的方式。但是，在一台曝光装置所使用的汞灯的根数少的情况下，即使是一根当汞灯成为不点亮状态时，也会立即陷入光量不足，不得不使该曝光装置停止，因此使用大型汞灯的曝光装置在生产连续性方面存在问题。
[0003]进一步而言，在万一大型汞灯破裂的情况下，根据其冲击的大小，甚至连反射器或反射镜等光学系统构件也会发生破损，有可能产生更换费用等高额的修理费用。
[0004]为了避免这样的问题，近年来，排列大量(例如240盏)的更小型的放电灯(例如300W)而形成为一个光源的多灯式被实用化。通过如上述这样形成为多灯式，即使多个放电灯不点亮，作为装置整体也能够避免光量的大幅降低，因此能够避免因曝光装置的停止而引起的生产连续停止。
[0005]另外，即使在万一小型的放电灯发生了破裂的情况下，由于其冲击比较本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光用光源，具备：第一光源，具有LED；以及第二光源，由对波长比从所述第一光源中的所述LED放射的LED光的波长短的光进行放射的光源构成。2.根据权利要求1所述的曝光用光源，其特征在于，来自所述第二光源的光对来自所述第一光源的光中不足的波长区域的光量进行补充。3.一种光照射装置，具备：权利要求1或2所述的曝光用光源；以及光学系统器具，至少具有积分透镜，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，在所述第一光源的发光过程中，所述第二光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位置，在所述第二光源发光时，所述第二光源独自照射所述积分透镜。4.一种光照射装置，具备：权利要求1或2所述的曝光用光源；以及光学系统器具，至少具有积分透镜，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，所述第一光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位置，所述第二光源位于所述光学系统器具的光路上，在所述第一光源发光时，所述第一光源独自照射所述积分透镜。5.一种光照射装置，具备：权利要求1或2所述的曝光用光源；以及光学系统器具，将来自所述第一光源及所述第二光源的光引导至曝光面，在所述第一光源的发光过程中，所述第二光源位于从所述光学系统器具的光路偏离的位...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上智彦，山下健一，渡边加名，池田富彦，
申请(专利权)人：凤凰电机公司，
类型：发明
国别省市：