光照射装置及具备其的曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置用的光照射装置，在使从光源放射并通过了偏振元件的光相对于工件斜向入射而实施光取向处理的情况下，能够避免对工件的光取向处理的精度恶化。使光照射装置(10)由具有放射相对于工件(X)斜向入射的光(L)的多个光照射单元(14)的光源(12)和接受来自光源(12)的光(L)并将透过的光(L)向工件(X)照射的偏振元件(20)构成。此外，使各光照射单元14)分别由LED(16)和安装LED(16)的散热器(18)构成。而且，在朝向偏振元件(20)且从其他光照射单元(14)放射而在偏振元件(20)的表面反射的光所照射的散热器(18)的面(19)上实施防光反射处理。防光反射处理。防光反射处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光照射装置及具备其的曝光装置


[0001]本专利技术涉及主要用于制造液晶面板时的曝光用的光照射装置以及具备其的曝光装置。

技术介绍

[0002]在使用液晶作为TN方式的显示面板时，只在2枚玻璃基板之间封入液晶并对形成于这些玻璃板的内表面的透明电极施加电压是无法正常动作的。这是因为液晶分子处于散乱的状态。
[0003]为了使液晶进行正常的TN方式的动作，需要使液晶分子沿一定方向取向，并且使液晶分子的立起方向为一定。具体而言，使液晶分子沿相对于玻璃基板倾斜3
°
左右的方向取向，该倾斜的角度被称为预倾角。
[0004]然后，将具有液晶的取向性能的一对玻璃基板中的一方的玻璃基板以沿X方向取向的方式配置，将相对的另一方的玻璃基板沿与X方向正交的Y方向配置。(TN方式)
[0005]这样，在液晶面板的制造中需要液晶取向处理，过去以来，一直是对玻璃基板的表面进行物理性摩擦的摩擦处理(例如，专利文献1)。该摩擦处理是指通过用长毛布等沿给定的方向对形成在玻璃基板上的有机高分子膜进行摩擦，从而形成能够使液晶分子沿一定方向取向的膜的处理方法。
[0006]摩擦处理普及，响应速度快的TN方式变得普遍，由此液晶面板能够以稳定的性能廉价地量产，进而作为计算机等OA设备用的显示监视器、游戏机用的监视器，液晶监视器逐渐得到了普及。
[0007]但是，摩擦方式存在缺乏均匀性、有可能产生TFT的静电破坏、以及摩擦时所产生的粉末废物附着这样的有关可靠性的问题。
[0008]此外，如上所述，在代表水平取向液晶模式的TN方式中，通过摩擦方式能够实现的预倾角为3
°
左右，难以构成低电压驱动且应对高速响应的液晶模式的显示面板。
[0009]为了应对这种摩擦方式的问题，现在，提出了能够实施光取向处理的曝光机，在曝光机中，作为光源，尝试使用长弧的水银灯。现有技术文献专利文献
[0010]专利文献1：日本特开2007
‑
17475号公报

技术实现思路

专利技术所要解决的课题
[0011]但是，使用长弧的水银灯的曝光机也被认为是存在问题的。一般来说，在曝光材料的感光特性被设定为对特定的波段的光产生反应时，观察来自水银灯的光的分光特性可知，该光由许多的水银线的亮线构成。
[0012]因此，在将水银灯作为曝光用的光源的情况下，由于偏离曝光材料的感光特性的
波长的光变多，所以可考虑到有可能因偏离该感光波段的波长的光而致使曝光材料过度曝光。
[0013]当然，也可以通过选择波长反射膜来阻断偏离感光特性的波长的光线(短波侧及长波侧)，但需要窄带宽的截止滤波器(带通滤波器)，并且要求高的精度，因此，结果会导致装置的成本增加。
[0014]另外，由于从长弧的水银灯放射的光向大范围扩散，因此难以进行对于实施光取向处理重要的来自水银灯的光的照射角的控制，也研究了例如用遮光板等阻断多余的光的方法，但在该情况下，存在从水银灯放射的光的利用效率降低这样的其他问题。
[0015]而且，也有将经准直的(平行化后的)光相对于玻璃基板倾斜地照射的方法，但可考虑到该方法存在由于光学系统变得复杂而导致装置变得大型且高价这样的问题。
[0016]另外，也可以考虑使从光源放射并通过了偏振元件的光相对于工件斜向入射来实施光取向处理，但在该情况下，由于从光源放射后，在偏振元件的表面反射的一部分的光以不希望的角度再次进入偏振元件，因此存在对工件的光取向处理的精度恶化这样的问题。
[0017]本专利技术鉴于上述的问题而作，其目的在于提供一种在使从光源放射并通过了偏振元件的光相对于工件斜向入射而实施光取向处理的情况下，能够避免对工件的光取向处理的精度恶化的曝光装置用的光照射装置。用于解决课题的技术方案
[0018]根据本专利技术的一个方面，提供一种光照射装置，其特征在于，具备：光源，其具有放射相对于工件斜向入射的光的多个光照射单元；以及偏振元件，其接受来自所述光源的所述光，并将透过的所述光向所述工件照射，所述各光照射单元分别具有LED和安装所述LED的散热器，在朝向所述偏振元件且从其他所述光照射单元放射而在所述偏振元件的表面反射的光照射的所述散热器的面上实施了防光反射处理。
[0019]另外，根据本专利技术的另一方面，提供一种光照射装置，其具备：光源，其具有放射相对于工件斜向入射的光的多个光照射单元；以及偏振元件，其接受来自所述光源的所述光，并将透过的所述光向所述工件照射，所述各光照射单元分别具有LED和安装所述LED的散热器，在朝向所述偏振元件且从其他所述光照射单元放射而在所述偏振元件的表面反射的光照射的所述散热器的面上配置有对表面实施了防光反射处理的遮光板。
[0020]而且，根据本专利技术的又一方面，提供一种光照射装置，其特征在于，具备：光源，其具有放射相对于工件斜向入射的光的多个光照射单元；以及偏振元件，其接受来自所述光源的所述光，并将透过的所述光向所述工件照射，所述各光照射单元分别具有LED和安装所述LED的散热器，朝向所述偏振元件且从其他所述光照射单元放射而在所述偏振元件的表面反射的光所照射的所述散热器的面与所述偏振元件的所述表面所成的角度为90
°
－(α/2)以上。另外，其中，“α”是指从其他所述光照射单元放射的所述光中的与所述光照射单元的光轴具有最大的角度的光与所述偏振元件的所述表面所成的角度。
[0021]根据本专利技术的又一方面，提供一种曝光装置，其具备上述的光照射装置。专利技术效果
[0022]根据本专利技术所涉及的光照射装置，由于在构成各光照射单元的散热器中的、从其他光照射单元放射而在偏振元件的表面反射的光所照射的面上实施了防光反射处理，因此从其他光照射单元放射而在偏振元件的表面反射的光照射到该光照射单元的散热器上进一步反射而再次朝向偏振元件，该光相对于偏振元件从与意图的方向相反的方向进入，由此能够避免对工件的光取向处理的精度恶化。
附图说明
[0023]图1是表示应用了本专利技术的具备由多个光照射单元14构成的光源12的光照射装置10的图。图2是对从其他光照射单元14放射而在偏振元件20的表面反射的光进行说明的图。图3是表示变形例1所涉及的光照射装置10的图。图4是表示变形例3所涉及的光照射装置10的图。图5是表示变形例4所涉及的光照射装置10的图。
具体实施方式
[0024](光照射装置10的结构)以下，对应用了本专利技术的实施方式所涉及的光照射装置10进行说明。光照射装置10主要为了在制造液晶面板时的曝光而组装到曝光装置中使用。如图1所示，该光照射装置10大致具备光源12和偏振元件20。
[0025]光源12是向载置工件(曝光对象物)X的曝光面A照射曝光用光L的部件，在本实施方式中，使用多个光照射单元14。这些光照射单元14分别具备照射光的LED16和安装该LED16的散热器18。
[0026]光源12以相对于在曝光面A上沿一定方向移动的工件X扫描的方式照射曝光用光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光照射装置，其特征在于，具备：光源，其具有放射相对于工件斜向入射的光的多个光照射单元；以及偏振元件，其接受来自所述光源的所述光，并将透过的所述光向所述工件照射，各所述光照射单元分别具有LED和安装有所述LED的散热器，在朝向所述偏振元件、且从其他所述光照射单元放射而在所述偏振元件的表面反射的光所照射的所述散热器的面上，实施了防光反射处理。2.一种光照射装置，其具备：光源，其具有放射相对于工件斜向入射的光的多个光照射单元；以及偏振元件，其接受来自所述光源的所述光，并将透过的所述光向所述工件照射，各所述光照射单元分别具有LED和安装有所述LED的散热器，在朝向所述偏振元件、且从其他所述光照射单元放射而在所述偏振元件的表面反射的光所照射的所述散热器...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上智彦，山下健一，
申请(专利权)人：凤凰电机公司，
类型：发明
国别省市：