【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】催化剂、催化剂填充方法和使用催化剂的化合物制造方法
[0001]本专利技术涉及催化剂填充方法和使用催化剂的化合物制造方法。
技术介绍
[0002]在工业上广泛地实施以丙烯、异丁烯、叔丁醇等作为原料制造相应的不饱和醛、不饱和羧酸的方法、由丁烯类制造1,3
‑
丁二烯的气相催化氧化方法。
[0003]特别是,关于以丙烯、异丁烯、叔丁醇等作为原料制造相应的不饱和醛、不饱和羧酸的方法,作为提高其收率、改善催化剂活性的手段,进行了大量报道(例如专利文献1等)。
[0004]其中,在专利文献2中记载了:通过将在使用Cu
‑
Kα射线而得到的催化剂活性成分的X射线衍射图中的、在2θ=27.76
°±
0.1
°
出现的β
‑
Bi2Mo2O9的衍射峰(i)的强度Pi相对于在2θ=26.5
°±
0.1
°
出现的CoMoO4的衍射峰(h)的强度Ph之比Ri=Pi/Ph控制在0.4以上且2.0以下的范围内,能够得到显示出高收率和高选择率的催化剂。
[0005]在专利文献3中记载了:通过将催化剂活性成分的通过使用Cu
‑
Kα射线的X射线衍射分析而测定的2θ=5
°
以上且90
°
以下的范围内的结晶度T控制在4%以上且18%以下的范围内,能够提高催化剂活性、选择率等催化剂性能。
[0006]此外,在专利文献4中记载了:在2θ=27.4
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种催化剂,其中,所述催化剂含有钼、铋和钴作为必要成分,并且通过将CuKα射线作为X射线源而得到的所述催化剂的X射线衍射图中的由下式表示的峰强度比之和(S)为42以上且113以下,S={(2θ=14.1
°±
0.1
°
的峰强度)+(2θ=25.4
°±
0.1
°
的峰强度)+(2θ=28.5
°±
0.1
°
的峰强度)}
÷
(2θ=26.5
°±
0.1
°
的峰强度)
×
100。2.如权利要求1所述的催化剂,其中,所述催化剂的由下式表示的峰强度比(S4)为2以上且16以下,S4=(2θ=27.4
°±
0.1
°
的峰强度)
÷
(2θ=26.5
°±
0.1
°
的峰强度)
×
1003.如权利要求1或2所述的催化剂,其中,催化剂活性成分的组成由下式(I
‑
1)表示,Mo
a1
Bi
b1
Ni
c1
Co
d1
Fe
e1
X
f1
Y
g1
Z
h1
O
i1
……
(I
‑
1)(在式(I
‑
1)中,Mo、Bi、Ni、Co和Fe分别表示钼、铋、镍、钴和铁,X是指选自钨、锑、锡、锌、铬、锰、镁、硅、铝、铈和钛中的至少一种元素,Y是指选自钠、钾、铯、铷和铊中的至少一种元素,Z是指属于元素周期表的第1族至第16族并且选自除上述Mo、Bi、Ni、Co、Fe、X和Y以外的元素中的至少一种元素,a1、b1、c1、d1、e1、f1、g1、h1和i1分别表示钼、铋、镍、钴、铁、X、Y、Z和氧的原子数,当a1=12时,0<b1≤7、0≤c1≤10、0<d1≤10、0<c1+d1≤20、0≤e1≤5、0≤f1≤2、0≤g1≤3、0≤h1≤5、以及i1=由各元素的氧化态确定的值)。4.如权利要求1~3中任一项所述的催化剂,其中,所述催化剂为在惰性载体上负载有催化剂活性成分的催化剂。5.如权利要求4所述的催化剂,其中,所述惰性载体为二氧化硅、氧化铝或二氧化硅与氧化铝的组合。6.如权利要求1~5中任一项所述的催化剂,其中,所述催化剂为用于制造不饱和醛化合物、不饱和羧酸化合物和共轭二烯中的至少一种化合物的催化剂。7.一种不饱和醛化合物、不饱和羧酸化合物和共轭二烯中的至少一种化合物的制造方法,其中,所述制造方法使用了权利要求1~6中任一项所述的催化剂。8.如权利要求7所述的制造方法,其中,所述不饱和醛化合物为丙烯醛,所述不饱和羧酸化合物为丙烯酸,所述共轭二烯为1,3
‑
丁二烯。9.一种不饱和醛化合物、不饱和羧酸化合物或共轭二烯,其中,所述不饱和醛化合物、不饱和羧酸化合物或共轭二烯使用权利要求1~6中任一项所述的催化剂制造而得到。10.一种催化剂填充方法,所述催化剂填充方法是将含有钼、铋和钴作为必要成分的复合金属氧化物催化剂通过沿管轴方向层叠2层以上而进行多层填充的催化剂填充方法,其中,一个催化剂层中所含的复合金属氧化物催化剂的组成与其它催化剂层中的至少一层中所含的复合金属氧化物催化剂的组成不同,管轴的最靠近气体入口侧的催化剂层的铋的成分量相对于钼的成分量之比小于管轴的最靠近气体出口侧的催化剂层的铋的成分量相对于钼的成分量之比,并且在所有相邻的两个催化剂层中,都以管轴的气体入口侧的催化剂层...
【专利技术属性】
技术研发人员:奥村成喜,保田将吾,小畑友洋,福永诚一郎,河村智志,
申请(专利权)人:日本化药株式会社,
类型:发明
国别省市:
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