【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种抛光垫，其包括： 构造成用来在存在抛光介质的情况下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光层，所述抛光层包括圆形抛光面，该抛光面具有同心中心和外部周边； 形成于所述圆形抛光面中的至少一个第一凹槽；以及 形成于所述圆形抛光面中的至少一个第二凹槽，使得所述至少一个第二凹槽与所述至少一个第一凹槽交叉至少两次，从而限定出至少一个具有四个弯曲侧面的四面形凸块； 其中，所述至少一个第一凹槽和所述至少一个第二凹槽各自为所述圆形抛光面提供从靠近所述同心中心的第一位置到靠近所述外部周边的第二位置的圆周开槽率，所述各圆周开槽率具有平均值，并保持在所述平均值的大约２５％以内。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：CL埃尔穆蒂，GP马尔多尼，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[]
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