CMOS图像传感器的制造制造技术

技术编号:3178701 阅读:152 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种CMOS图像传感器,其包括以下的至少一个:P型半导体衬底。形成在P型半导体衬底中并具有比半导体衬底高的杂质浓度的P型光电二极管。设置在P型光电二极管上深度距半导体衬底的表面小于大约0.15μm的N型光电二极管。由P型光电二极管和N型光电二极管的结所提供的耗尽层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种装置,包括:P型半导体衬底;形成在所述P型半导体衬底中的P型光电二极管,以及形成在所述P型半导体衬底中的在所述P型光电二极管上的N型光电二极管,其中:所述P型光电二极管和所述N型光电二极管的结形成耗尽区域 ,以及所述耗尽区域的深度使所述N型光电二极管具有响应蓝光的光电效应。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕寅根
申请(专利权)人:东部高科股份有限公司
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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