一种晶振加工用的清洗设备制造技术

本实用新型专利技术的一种晶振加工用的清洗设备，包括底面固定安装有若干支撑座的清洗设备本体，清洗设备本体的顶面上固定安装有竖向支撑梁；设置在竖向支撑梁上的用于承载待清洗晶振所设的晶振承载组件；固定安装在清洗设备本体顶面上的滑轨，滑轨上安装有可沿滑轨移动的滑块，在滑块上安装有用于对晶振承载组件上的晶振进行清洗所设的晶振清洁组件；通过晶振清洁组件可以对晶振承载组件上的多块待清洗的晶振进行清洗，使得晶振的石英晶体顶面上的污垢可以被清洗至容纳盒中；横向支撑梁设置有三根，每根横向支撑梁上均设置有六个晶振容纳槽，该设置可以使得多个晶振能够被同时清洗，清洗效率高，其结构设计合理。其结构设计合理。其结构设计合理。

【技术实现步骤摘要】
一种晶振加工用的清洗设备


[0001]本技术涉及晶振
，特别是一种晶振加工用的清洗设备。

技术介绍

[0002]有一些电子设备需要频率高度稳定的交流信号，而LC振荡器稳定性较差，频率容易漂移(即产生的交流信号频率容易变化)，在振荡器中采用一个特殊的元件——石英晶体，可以产生高度稳定的信号，这种采用石英晶体的振荡器称为晶体振荡器；晶体振荡器即晶振在加工后使用前需要进行清洗，防止晶振上的石英晶体上积存的污垢过多而对晶振的使用产生影响，故提出一种可对多个晶振进行同时清洁且清洁效果好的晶振加工用的清洗设备。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供了一种可对多个晶振进行同时清洁且清洁效果好的晶振加工用的清洗设备。
[0004]本技术要解决的技术问题是通过以下技术方案来实现的，包括，
[0005]底面固定安装有若干支撑座的清洗设备本体，清洗设备本体的顶面上固定安装有竖向支撑梁；
[0006]设置在竖向支撑梁上的用于承载待清洗晶振所设的晶振承载组件；
[0007]固定安装在清洗设备本体顶面上的滑轨，滑轨上安装有可沿滑轨移动的滑块，在滑块上安装有用于对晶振承载组件上的晶振进行清洗所设的晶振清洁组件；
[0008]固定安装在清洗设备本体顶面上的用于对清洗期间产生的污垢进行收储所设的容纳盒。
[0009]本技术要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的晶振承载组件包括，
[0010]固定安装在竖向支撑梁侧壁上的横向支撑梁；
[0011]开设在横向支撑梁顶面上的晶振容纳槽，在晶振容纳槽的中部上开设有用于晶振的电极通过所设的通孔。
[0012]本技术要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的横向支撑梁设置有三根，上下相邻两根横向支撑梁的安装间距相同，每根横向支撑梁上均设置有六个晶振容纳槽，左右相邻两个晶振容纳槽之间的间距相同。
[0013]本技术要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的晶振清洁组件包括，
[0014]固定安装在滑块顶面上的容器，所述的容器上具有进液孔和出液孔；
[0015]固定安装在滑块侧面上的清洁主管，清洁主管上连接有若干清洁支管，清洁支管的底面上连接有若干清洁管，所述的清洁主管的进口端与容器的出液孔连通，所述的清洁
支管的进口端与清洁主管内部连通，所述的清洁管的进口端与清洁支管内部连通，在清洁管的出口端上固定安装有用于对晶振的顶面进行刷动所设的海绵刷；
[0016]设置在容纳盒下方的用于推动滑块沿着滑轨移动所设的气缸，气缸的底座固定安装在容纳盒下方的竖向支撑梁侧面上，气缸的动力输出端固定在滑块的侧面上。
[0017]本技术要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的清洁支管设置有三根，上下相邻两根清洁支管之间的间距相同，每根清洁支管下方的横向支撑梁上均具有一根横向支撑梁，所述的每根清洁支管上均设置有六根清洁管，左右相邻两根清洁管之间的安装间距相同，每根清洁管下方的横向支撑梁上均具有一个晶振容纳槽。
[0018]本技术要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的气缸的中部底面上固定安装有用于对气缸进行支撑所设的两块支撑板，两块支撑板的底面均固定安装在清洗设备本体的顶面固定。
[0019]与现有技术相比，本技术的有益技术效果是：通过晶振清洁组件可以对晶振承载组件上的多块待清洗的晶振进行清洗，使得晶振的石英晶体顶面上的污垢可以被清洗至容纳盒中；横向支撑梁设置有三根，每根横向支撑梁上均设置有六个晶振容纳槽，该设置可以使得多个晶振能够被同时清洗，清洗效率高，其结构设计合理。
附图说明
[0020]图1为本技术的使用前的结构示意图；
[0021]图2为本技术的使用时的结构示意图；
[0022]图3为本技术的使用时的另一种结构示意图；
[0023]图4为本技术的局部放大结构示意图。
[0024]图中：1、清洗设备本体；2、竖向支撑梁；3、滑轨；4、滑块；5、容纳盒；6、横向支撑梁；7、晶振容纳槽；8、通孔；9、容器；10、清洁主管；11、清洁支管；12、清洁管；13、海绵刷；14、气缸；15、支撑板。
具体实施方式
[0025]以下参照附图，进一步描述本专利技术的具体技术方案，以便于本领域的技术人员进一步地理解本专利技术，而不构成对其权利的限制。
[0026]实施例1，参照图1—4，一种晶振加工用的清洗设备，包括，
[0027]底面固定安装有若干支撑座的清洗设备本体1，支撑座的横截面呈圆形状设置，清洗设备本体1的横截面呈矩形状设置，清洗设备本体1的顶面上固定安装有竖向支撑梁2，竖向支撑梁2的横截面呈矩形状设置；
[0028]设置在竖向支撑梁2上的用于承载待清洗晶振所设的晶振承载组件；
[0029]固定安装在清洗设备本体1顶面上的滑轨3，滑轨3上安装有可沿滑轨3移动的滑块4，滑块4的横截面呈矩形状设置，在滑块4上安装有用于对晶振承载组件上的晶振进行清洗所设的晶振清洁组件；
[0030]固定安装在清洗设备本体1顶面上的用于对清洗期间产生的污垢进行收储所设的容纳盒5，容纳盒 5的横截面呈矩形状设置，其顶部呈开放式设置。
[0031]实施例2，实施例1所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的晶振承载组件包括，
[0032]固定安装在竖向支撑梁2侧壁上的横向支撑梁6，横向支撑梁6的横截面呈矩形状设置；
[0033]开设在横向支撑梁6顶面上的晶振容纳槽7，晶振容纳槽7的横截面呈矩形状设置，其形状可根据晶振的形状自行设置，在晶振容纳槽7的中部上开设有用于晶振的电极通过所设的通孔8。
[0034]实施例3，实施例2所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的横向支撑梁6设置有三根，上下相邻两根横向支撑梁6的安装间距相同，每根横向支撑梁6上均设置有六个晶振容纳槽7，左右相邻两个晶振容纳槽7之间的间距相同。
[0035]实施例4，实施例3所述的一种晶振加工用的清洗设备，所述的晶振清洁组件包括，
[0036]固定安装在滑块4顶面上的容器9，容器9的横截面呈矩形状设置，所述的容器9上具有进液孔和出液孔；
[0037]固定安装在滑块4侧面上的清洁主管10，清洁主管10上连接有若干清洁支管11，清洁支管11的底面上连接有若干清洁管12，所述的清洁主管10的进口端与容器9的出液孔连通，所述的清洁支管11 的进口端与清洁主管10内部连通，所述的清洁管12的进口端与清洁支管11内部连通，在清洁管12的出口端上固定安装有用于对晶振的顶面进行刷动所设的海绵刷13；
[0038]设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶振加工用的清洗设备，其特征在于：包括，底面固定安装有若干支撑座的清洗设备本体，清洗设备本体的顶面上固定安装有竖向支撑梁；设置在竖向支撑梁上的用于承载待清洗晶振所设的晶振承载组件；固定安装在清洗设备本体顶面上的滑轨，滑轨上安装有可沿滑轨移动的滑块，在滑块上安装有用于对晶振承载组件上的晶振进行清洗所设的晶振清洁组件；固定安装在清洗设备本体顶面上的用于对清洗期间产生的污垢进行收储所设的容纳盒。2.根据权利要求1所述的一种晶振加工用的清洗设备，其特征在于：所述的晶振承载组件包括，固定安装在竖向支撑梁侧壁上的横向支撑梁；开设在横向支撑梁顶面上的晶振容纳槽，在晶振容纳槽的中部上开设有用于晶振的电极通过所设的通孔。3.根据权利要求2所述的一种晶振加工用的清洗设备，其特征在于：所述的横向支撑梁设置有三根，上下相邻两根横向支撑梁的安装间距相同，每根横向支撑梁上均设置有六个晶振容纳槽，左右相邻两个晶振容纳槽之间的间距相同。4.根据权利要求3所述的一种晶振加工用的清洗设备，其特征在于：所述的晶振清洁组件包括，固定安装在滑块顶面上的容器，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱珠，朱木典，许萍，朱柳典，
申请(专利权)人：江苏海峰科技有限公司，
类型：新型
国别省市：