【技术实现步骤摘要】
显示基板、显示面板和显示装置
[0001]本公开涉及显示领域,特别涉及一种显示基板、显示面板和显示装置。
技术介绍
[0002]高级超维场转换(Advancedsuper-DimensionSwitch)显方式,具有宽视角、响应速度快、对比度高和透过率高等优点,成为了颇受欢迎的显示模式,被很多面板制造厂商用于产品设计中。然而,在实际应用中发现,现有的ADS型显示装置所显示出的画面存在明显的云纹(mura)。
技术实现思路
[0003]本公开旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种显示基板、显示面板和显示装置。
[0004]第一方面,本公开实施例提供了一种显示基板,其中,包括:第一衬底基板和位于第一衬底基板上的多条栅线、多条数据线,所述栅线沿第一方向延伸,所述数据线沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉且均与所述第一衬底基板所处平面平行;
[0005]多条所述栅线和多条所述数据线限定出多个像素单元,所述像素单元包括:薄膜晶体管、像素电极和公共电极,所述像素电极位于所述公共电极远离所述第一衬底基板的一侧,在同一所述像素单元内的所述像素电极所处区域与所述薄膜晶体管所处区域沿第二方向排布,所述像素电极靠近所述薄膜晶体管的一端为第一端部,所述像素电极远离所述薄膜晶体管的一端为第二端部,至少部分所述像素单元配置有导电桥线,所述导电桥线与所述像素电极同层设置;
[0006]在配置有所述导电桥线的所述像素单元内,所述像素电极的所述第一端部或所述第二端部的第一侧设置有第一镂空 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其中,包括:第一衬底基板和位于第一衬底基板上的多条栅线、多条数据线,所述栅线沿第一方向延伸,所述数据线沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向交叉且均与所述第一衬底基板所处平面平行;多条所述栅线和多条所述数据线限定出多个像素单元,所述像素单元包括:薄膜晶体管、像素电极和公共电极,所述像素电极位于所述公共电极远离所述第一衬底基板的一侧,在同一所述像素单元内的所述像素电极所处区域与所述薄膜晶体管所处区域沿第二方向排布,所述像素电极靠近所述薄膜晶体管的一端为第一端部,所述像素电极远离所述薄膜晶体管的一端为第二端部,至少部分所述像素单元配置有导电桥线,所述导电桥线与所述像素电极同层设置;在配置有所述导电桥线的所述像素单元内,所述像素电极的所述第一端部或所述第二端部的第一侧设置有第一镂空结构,所述导电桥线的端部位于所述第一镂空结构内且与所述公共电极过孔连接,所述像素电极的所述第二端部的第二侧设置有第二镂空结构,以使得所述像素电极与位于两侧且最近的所述数据线分别所形成的寄生电容的差的绝对值小于或等于预设电容差值;所述第一侧和所述第二侧为所述像素电极在第一方向上的相对两侧。2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述第二镂空结构和与所述第一镂空结构在所述第二方向上的长度相等。3.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述第二镂空结构在第一方向上的长度小于或等于所述第一镂空结构在第一方向上的长度。4.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述像素电极与位于两侧且最近的数据线分别所形成的寄生电容相等。5.根据权利要求1所述的显示基板,其中,沿所述第一方向排布的多个像素单元对应同一条状公共电极,所述条状公共电极沿所述第一方向延伸;对应同一条状公共电极的多个像素单元各自所包含的公共电极为该条状公共电极上不同位置的部分。6.根据权利要求1所述的显示基板,其中,还包括:公共电极线,所述公共电极线与所述栅线同层设置;沿所述第一方向排布的多个像素单元对应同一条公共电极线,所述像素单元内的公共电极与对应的公共电极线电连接,所述像素单元内的像素电极的所述第二端部在所述第一衬底基板上的正投影与对应的所述公共电极线在所述第一衬底基板上的正投影存在交叠。7.根据权利要求6所述的显示基板,其中,所述栅线包括:沿第一方向交替设置第一导电图形和第二导电图形,所述第一导电图形在所述第二方向上的长度大于所述第二导电图形在所述第二方向上的长度;所述第一导电图形在所述第一衬底基板上的正投影与所述数据线在所述第一衬底基板上的正投影不交叠,所述第一导电图形中的部分用作所述薄膜晶体管中的栅极;所述导电桥线在所述第一衬底基板上的正投影与所述第一导电图形在所述第一衬底基板上的正投影不交叠。8.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述显示基板中的全部所述像素单元包括:红色像素单元、绿色像素单元和蓝色像素单元;
所述蓝色像素单元配置有所述导电桥线。9.根据权利要求1-8中任一所述的显示基板,其中,在部分所述像素单元内设置有第一限位柱和第二限位柱,所述像素单元具有预设出光区域,所述第一限位柱和所述第二限位柱分别位于所述预设出光区域在第二方向上的相对两侧;所述第一限位柱和第二限位柱均包括:层叠的第一限位图形和第二限位图形,所述第一限位图形与所述栅线同层...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏秋杰,
申请(专利权)人:北京京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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