陶瓷加工污水净化装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种陶瓷加工污水净化装置，包括第一沉淀池、第二沉淀池及第三沉淀池。第二沉淀池与第一沉淀池之间设有第一隔墙，第一隔墙的高度为允许水流由第一沉淀池流至第二沉淀池。第三沉淀池与第二沉淀池之间设有第二隔墙，第二隔墙的高度为允许水流由第二沉淀池流至第三沉淀池。第三沉淀池的上部设有缓冲平台，缓冲平台的一侧与第二隔墙固定，缓冲平台的上表面设有磁铁以吸附由第二沉淀池流入的水流中的铁质杂质。本实用新型专利技术设有多级沉淀池，可以实现杂质的充分沉淀；同时，设计了缓冲平台，降低了水流冲击力，还通过在缓冲平台设置磁铁来吸附水流中的铁质杂质，防止净化后的水中有铁质杂质吸附在加工设备的表面而影响陶瓷加工精度。陶瓷加工精度。陶瓷加工精度。

【技术实现步骤摘要】
陶瓷加工污水净化装置


[0001]本技术涉及陶瓷制造
，尤其涉及一种陶瓷加工污水净化装置。

技术介绍

[0002]在利用加工设备加工陶瓷的过程中，为避免加工过程中产生的杂质影响加工设备的正常运行，需要利用清水冲洗加工设备以去除杂质。例如，铁质杂质，其本身带有微小磁性易吸附在加工设备的表面，会影响加工精度。
[0003]为充分利用水资源，冲洗加工设备后的污水会被导入沉淀池，污水中的杂质(如泥沙、铁氧体粉末等)会沉降在沉淀池的底部，沉淀池的上部则为干净的清水，这些清水可以重新用来冲洗加工设备。然而，当沉淀池的进水流量较大时，沉淀池底部的污泥会被水流冲起而造成二次污染，此时，将无法起到有效的净化作用。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种污水净化效果良好的陶瓷加工污水净化装置。
[0005]为了实现上述目的，本技术公开了一种陶瓷加工污水净化装置，包括第一沉淀池、设于所述第一沉淀池下游的第二沉淀池以及设于所述第二沉淀池下游的第三沉淀池。所述第二沉淀池与所述第一沉淀池之间设有第一隔墙，所述第一隔墙的高度为允许本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷加工污水净化装置，其特征在于，包括第一沉淀池、设于所述第一沉淀池下游的第二沉淀池以及设于所述第二沉淀池下游的第三沉淀池，所述第二沉淀池与所述第一沉淀池之间设有第一隔墙，所述第一隔墙的高度为允许水流由所述第一沉淀池流至所述第二沉淀池，所述第三沉淀池与所述第二沉淀池之间设有第二隔墙，所述第二隔墙的高度为允许水流由所述第二沉淀池流至所述第三沉淀池，所述第三沉淀池的上部设有缓冲平台，所述缓冲平台的一侧与所述第二隔墙固定，所述缓冲平台的上表面设有磁铁以吸附由所述第二沉淀池流入的水流中的铁质杂质。2.根据权利要求1所述的陶瓷加工污水净化装置，其特征在于，所述缓冲平台的其中两边与所述第三沉淀池的两相对侧壁固定在一起。3.根据权利要求2所述的陶瓷加工污水净化装置，其特征在于，所述缓冲平台与所述第三沉淀池固定的两边的尺寸为所述两相对侧壁的尺寸的五分之二至五分之三。4.根据权利要求1至3任一项所述的陶瓷加工污水净化装置，其特征在于，所述缓冲平台的上表面设有多个所述磁铁，多个所述磁铁并排设置。5.根据权利要求4所述的陶瓷加工污水净化装置，其特征在于，所述缓冲平台的上表面设有一缓...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁森仔，
申请(专利权)人：东莞市诺一精密陶瓷科技有限公司，
类型：新型
国别省市：