当前位置: 首页 > 专利查询>杨贤镛专利>正文

离子化学热处理设备制造技术

技术编号:3158857 阅读:180 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种离子化学热处理设备,由炉体、离子电源组成,离子电源采用三相交流电源。它由升压变压器、无触点开关电路、限流电路组成主回路,其三相输出分别接炉内三组极板,三组极板分别作工作台和加热极板,三组极板都利用辉光放电加热。控制系统包括触发电路、温控电路和电流负反馈保护电路。限流电路电感和电阻串联,电阻并有短路开关。该设备简单、三极板都辉光加热温度均匀、灭弧可靠并且有节能等优点。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种离子化学热处理设备,属于热处理
离子渗碳,离子渗氮等化学热处理技术在机械领域中得到了广泛应用。离子化学热处理设备的关键在于离子电源的灭弧性能和可靠性。目前,使用最广泛的是直流离子电源,如专利申请93106192和专利95203653。即在真空炉体中设置一阴极板,其上放置工件,炉体接阳极,在阴阳极间接数百伏直流电源,在真空状态下,阴极产生辉光并被加热,在一定温度和一定的气氛下,工件表面渗入化学元素,达到离子化学热处理的目的。为了得到稳定的辉光放电,限制弧光和熄灭弧光,电源采取了电容电感振荡、限流电阻限流、可控硅电流截止等灭弧措施。但由于电压、电流、气压等工艺参数各异,不易确定灭弧的电参数,因而灭弧措施可靠性差,电路也较复杂且电路中的限流电阻上耗损了大量能量。现在离子化学热处理设备主要是用于温度低于650℃的离子氮化工艺,炉膛温度均匀性差,测温也不准确,如果用于渗碳和碳氮共渗,由于工艺温度高于800℃,相应要提高电源电压才能提供足够的能量保证热平衡,这样更易产生弧光放电。所以,一般需要另加辅助加热源,炉内加装发热体,又要配辅助加热电源,设备结构复杂,造价也本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离子化学热处理设备,包括炉体(1)和离子电源(2),其特征在于离子电源是三相交流可调电源,其输出A′、B′、C′分别接炉内三组独立极板(1-1)、(1-2)、(1-3),三组极板分别作为放置工件的工作台或辅助加热极板,三极板都利用辉光放电加热。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种离子化学热处理设备,包括炉体(1)和离子电源(2),其特征在于离子电源是三相交流可调电源,其输出A′、B′、C′分别接炉内三组独立极板(1-1)、(1-2)、(1-3),三组极板分别作为放置工件的工作台或辅助加热极板,三极板都利用辉光放电加热;2.根据权利要求1所述的离子化学热处理设备,其特征在于三相交流可调电源主回路主要由三相升压变压器(...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨贤镛
申请(专利权)人:杨贤镛
类型:发明
国别省市:83[中国|武汉]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利