场致发射型显示器用的前板制造技术

场致发射型显示器用的前板具备：透明基板、具备在透明基板的另一面上设置的数个开口部的、具有导电性的黑色基底，在该黑色基底上的各开口部的附近的规定位置设置由无机导电性材料构成的阻挡层。在上述开口部设置荧光体层。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于场致发射型显示器用的前板。
技术介绍
场致发射型显示器(FED)通常具有通过隔离部件使两基板间形成真空，使背板(阴极基板)和前板(阳极基板)对置的结构，上述背板在玻璃基板上具备是电子放出元件的发射极电极和通过绝缘体层与发射极电极垂直地设置的栅电极(引出电极)，上述前板在玻璃基板上具备阳极电极和在该阳极电极上形成的荧光体层。而且是在发射极电极和栅极电极之间外加规定的电压，同时在发射极电极和阳极电极之间外加规定的电压，从发射极电极引出电子，使该电子碰撞阳极电极，使荧光体层发光，进行图像显示的场致发射型显示器。在这样的FED中，由于从发射极电极引出的电子或该电子碰撞前板的阳极电极而使荧光体层发光时产生的2次电子的散射，就必须防止邻接单元的荧光体层不必要的发光。为此，例如使用聚酰亚胺树脂等，利用光刻在前板的各单元间形成高数十μm的图案，在该图案的表面形成金属薄膜，作为具有导电性的阻挡层，借此阻止从发射极电极引出的电子束的散射电子或上述2次电子的飞行，来防止不必要的发光。但是，在前板上具备像上述阻挡层的以往的FED，在动作时通过电子束从阻挡层放出气体，发生真空度降低、背板的电极劣化、荧光体层劣化等，成为可靠性降低的原因。另外，在前板的荧光体层形成过程中，阻挡层材料的耐热性低，因而加热温度有限，能够使用的荧光材料受到限制，或者也存在得不到所期望特性的荧光体层的问题。进而，由电绝缘性的聚酰亚胺等树脂构成的以往的阻挡层，为了防止由飞行的2次电子等碰撞产生的电荷上升，如上所述，必须形成金属薄膜，因而存在形成过程复杂的问题。另一方面，公开了作为使背板和前板对置的隔离部件，使用由金属构成的隔离部件的FED(特开平9-73869号、特开平10-40837号)。这些FED解决了由以往的聚酰亚胺构成的隔离部件中的气体放出的问题、电荷上升的问题。另外，在隔离部件是墙壁状、而且在各个单元间形成的场合，认为也起到作为上述阻挡层的作用。但是，特开平9-73869号和特开平10-40837号公开的隔离部件，从其机能看，不避免接触前板和背板的双方，隔离部件具有导电性，因而在前板上的接触部位是和阳极电极不接触的位置，并且，在背板上的接触部位必须是和栅电极或电子放出元件不接触的位置。因此必须与阳极电极、栅电极或电子放出元件分别形成导通各个隔离部件而保持在规定的电位、用于防止电荷上升的配线(隔离配线)。因此存在设计的自由度低，制造复杂的问题。另外，例如在前板上分别形成阳极电极和隔离配线，设置在该隔离配线上的隔离部件，如果通过绝缘材料形成与背板的栅电极接触的结构，认为会提高设计的自由度。但是，由于外加在栅电极和隔离配线间的电压(通常是数百～数千V)，因此在上述绝缘材料上发生绝缘破坏的可能性大、在实用性上存在问题。专利技术的公开本专利技术是鉴于像上述的实际情况而完成的，目的在于提供，能够作为可靠性高的场致发射型显示器的、而且是制造容易的场致发射型显示器用的前板。为了达到这样的目的，本专利技术的场致发射型显示器用的前板是这样的构成，即具备透明基板、具备在该透明基板的另一面形成的数个开口部的导电性的黑色基底、在该黑色基底上的规定位置形成的数个阻挡层、以及在上述黑色基底的开口部内的透明基板上形成的荧光体层，上述阻挡层由无机导电性材料构成。另外，作为最佳的实施方式是这样的构成，即上述无机导电性材料是下述组合中的任一种组合由镍、钴、铜、铁、金、银、铑、钯、铂和锌组成的金属组中的1种或者2种以上的组合，以及由上述金属组中的2种以上的金属构成的合金、氧化铟锡、氧化铟锌和氧化锡组成的金属氧化物组中的1种或者2种以上的组合。作为最佳的实施方式，是在上述阻挡层和上述黑色基底间具备导电性的中间层，该中间层的热特性或者强度特性处于上述透明基板和上述阻挡层的各热特性或者强度特性之间的构成。作为最佳的实施方式，是上述阻挡层在内部含有粒子，该粒子的热膨胀系数比上述无机导电性材料的热膨胀系数小的构成。作为最佳的实施方式，是上述阻挡层利用电解镀法形成的构成。本专利技术的场致发射型显示器用的前板是这样的构成，即，具备透明基板、在该透明基板的另一面的规定位置上形成的数个阻挡层、以及在上述透明基板的阻挡层非形成部位的所希望区域形成的荧光体层，在该阻挡层由无机导电性材料构成的同时，各阻挡层通过阻挡层导通电路相互导通。作为最佳的实施方式是这样的构成，即上述无机导电性材料是下述组合中的任一种组合由镍、钻、铜、铁、金、银、铑、钯、铂和锌组成的金属组中的1种或者2种以上的组合，以及由上述金属组中的2种以上的金属构成的合金、氧化铟锡、氧化铟锌和氧化锡组成的金属氧化物组中的1种或者2种以上的组合。作为最佳的实施方式，是在上述阻挡层和上述透明基板之间具备导电性的中间层，该中间层的热特性或者强度特性处于上述透明基板和上述阻挡层的各热特性或者强度特性之间的构成。作为最佳的实施方式，是在上述阻挡层和上述透明基板之间具备黑色基底，该黑色基底具备数个开口部，上述荧光体层在上述开口部内的透明基板上形成的构成。作为最佳的实施方式，是在上述阻挡层和上述黑色基底之间具备导电性的中间层，该中间层的热特性或者强度特性处于上述透明基板和上述阻挡层的各热特性或者强度特性之间的构成。作为最佳的实施方式，是上述阻挡层利用非电解镀法形成的构成。作为最佳的实施方式，是在上述中间层上利用电解镀法形成上述阻挡层的构成。作为最佳的实施方式，是上述阻挡层在内部含有粒子，该粒子的热膨胀系数比上述无机导电性材料的热膨胀系数小的构成。作为最佳的实施方式，是上述的阻挡层的高度为20～100μm的范围，宽度为10～50μm范围的构成。附图的简单说明图1是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的一种实施方式的部分平面图。图2是沿图1所示的前板的A-A线的纵断面图。图3是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的其他实施方式的纵断面图。图4是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的其他实施方式的纵断面图。图5是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的其他实施方式的部分平面图。图6是沿图5所示的前板的B-B线的纵断面图。图7是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的其他实施方式的纵断面图。图8是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的其他实施方式的部分平面图。图9是沿图8所示的前板的C-C线的纵断面图。图10是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的其他实施方式的纵断面图。图11是用于说明本专利技术的场致发射型显示器用前板制造方法的一例的工艺过程图。图12是用于说明本专利技术的场致发射型显示器用前板制造方法的一例的工艺过程图。图13是用于说明本专利技术的场致发射型显示器用前板制造方法的其他例子的工艺过程图。图14是用于说明本专利技术的场致发射型显示器用前板制造方法的其他例子的工艺过程图。图15是表示使用本专利技术前板的场致发射型显示器的一例的纵断面图。专利技术的实施方式以下，参照附图说明本专利技术的实施方式。第1实施方式图1是表示本专利技术的场致发射型显示器用前板的一种实施方式的部分平面图。图2是沿图1的前板的A-A线的纵断面图。在图1和图2中，本专利技术的场致发射型显示器用的前板1具备透明基板2、在该透明基板2的一面上形成的黑色基底3、以及在黑色基底3上的规定位置形成的数个阻挡层5，黑色基底3具有数个开口部本文档来自技高网...

【技术保护点】
场致发射型显示器用的前板，其特征在于，具备透明基板、在该透明基板的一面上形成的具有数个开口部的导电性的黑色基底、在该黑色基底上的规定位置形成的数个阻挡层、以及在上述黑色基底的开口部内的透明基板上形成的荧光体层，上述阻挡层由无机导电性材料构成。

【技术特征摘要】
JP 2000-7-14 213774/001.场致发射型显示器用的前板，其特征在于，具备透明基板、在该透明基板的一面上形成的具有数个开口部的导电性的黑色基底、在该黑色基底上的规定位置形成的数个阻挡层、以及在上述黑色基底的开口部内的透明基板上形成的荧光体层，上述阻挡层由无机导电性材料构成。2.权利要求1所述的场致发射型显示器用的前板，其特征在于，上述无机导电性材料是下述组合中的任一种组合由镍、钴、铜、铁、金、银、铑、钯、铂和锌组成的组中的1种或者2种以上的组合，以及由上述金属组中的2种以上的金属构成的合金、氧化铟锡、氧化铟锌和氧化锡组成的金属氧化物组中的1种或者2种以上的组合。3.权利要求1所述的场致发射型显示器用的前板，其特征在于，在上述阻挡层和上述黑色基底之间具备导电性的中间层，该中间层的热特性或者强度特性处于上述透明基板和上述阻挡层的各热特性或者强度特性之间。4.权利要求1所述的场致发射型显示器用的前板，其特征在于，上述阻挡层在内部含有粒子，该粒子的热膨胀系数比上述无机导电性材料的热膨胀系数小。5.权利要求1所述的场致发射型显示器用的前板，其特征在于，上述阻挡层利用电解镀法形成。6.场致发射型显示器用的前板，其特征在于，具备透明基板、在该透明基板的一面的规定位置上形成的数个阻挡层、以及在上述透明基板的阻挡层非形成部位的所希望区域形成的荧光体层，在该阻挡层由无机导电性材料构成的同时，各阻挡层通过阻挡层导通电路相互导通。7.权利要求6所...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤治夫，斋藤恒成，平田晋三，富和义，
申请(专利权)人：索尼公司，大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]