平面显示器的制造方法技术

技术编号:3157446 阅读:132 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种平面显示器的制造方法,提供一具有第一厚度的第一基板,其包含一第一显示区域及一第一接合区域,第一接合区域形成有一垫电极,垫电极表面覆盖有一保护层。提供一具有第二厚度的第二基板,其具有一第二显示区域及一第二接合区域,第二显示区域与第一显示区域相对,第二接合区域与第一接合区域相对。利用一封合材料将第一与第二基板黏合固定。去除第二基板的第二接合区域。去除位于第一基板的第一接合区域的保护层,以露出垫电极,可同时薄化第一基板以及第二基板。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种,特别是有关于一种能够薄化显示器厚度以及防止接合区域的电极氧化的。近年来为了实现高速影像处理以及高品质显示影像,平面显示器,如彩色液晶显示装置被广泛地使用。在此液晶显示装置之中,每一个显示像素单元(pixel)设置有一薄膜晶体管(thin film transistor;TFT),其用于控制开关该像素单元。通常,在一液晶显示装置之中,包括两个具有电极的上、下基板,以黏合或是封合材料接合在一起。而液晶材料被填入两个基板之间,为了保持两板之间固定的距离,具有一定粒径的颗粒被散布于上述两板之间。通常下基板表面形成有用来当作开关组件的薄膜晶体管,此薄膜晶体管具有连接于扫描线(scanning line)的栅极电极(gate electrode)、连接于讯号线(signal line)的漏极电极(drain electrode)、与连接于像素电极(pixelelectrode)的源极电极(source electrode)。而上基板置于下基板上方,此上基板表面形成有一滤光片与复数个遮光材料(如由铬构成)。此两基板的外围具有封合材料黏合固定住,而两基板之间具有液晶材料。以下利用第1A图~第1C图以说明根据现有技术之一的液晶显示器之制程剖面图。首先,请参照第1A图,第一基板1其包含接合区域I以及显示区域II。上述接合区域I的表面形成有垫电极3,例如由铬、钽、钼、钛、或铝等金属构成。而上述显示区域II的表面形成由栅极电极4、源极电极11、与漏极电极12构成的薄膜晶体管。栅极电极4上形成一绝缘层5,绝缘层5上形成一半导体层6,半导体层6上形成掺杂硅层8、9,其上还形成源极电极11与漏极电极12。而像素电极14形成于源极电极11与漏极电极12上,像素电极(pixel electrode)14通常由铟锡合金氧化物(Indium Tin Oxide;ITO)构成。第一基板1表面上还形成一保护层16。接着,请参照第1B图,利用适当的蚀刻方式选择性去除接合垫区域I的保护层16以及绝缘层5,以露出垫电极3,此垫电极3用来连接外部电路。然后,请参照第1C图,提供一适度尺寸的第二基板2,在第一基板1与第二基板2之间填入液晶材料之后,在两个基板1,2的外围利用封合材料(sealing material)18,并且配合适度的热处理,在150~250℃左右将第一基板1以及第二基板2加以黏合固定。上述液晶显示器的传统制程存在下列问题1.利用封合材料黏合固定的过程必须采用高温热处理,此时,由金属构成的垫电极容易氧化而在表面形成一薄金属氧化层,此将导致垫电极与外部电路接触不良,而阻碍讯号的传输。2.上述制程不包含薄化基板的步骤,若欲制作厚度较薄的显示器,则必须增加一额外步骤,方可能达到基板薄化的目的。有鉴于此,本专利技术的目的之一在于提供一种,不需额外的步骤即可达到两个基板薄化的目的。本专利技术的另一目的在于提供一种,能够避免垫电极表面因高温而氧化。根据上述目的,本专利技术提供一种,包括下列步骤(a)提供一具有一第一厚度的第一基板,其包含一第一显示区域以及一第一接合区域,并且上述第一接合区域形成有一垫电极,而上述垫电极表面覆盖有一保护层;(b)提供一具有第二厚度的第二基板,第二基板包含一第二显示区域以及一第二接合区域,第二显示区域与第一显示区域相对,而第二结合区域与第一接合区域相对;(c)利用一封合材料将上述第一基板与上述第二基板黏合固定;(d)去除位于第二基板的第二接合区域;以及(e)去除第一接合区域上的保护层,以露出垫电极,同时使第一基板厚度变薄,使第一基板具有一第三厚度,该第三厚度小于该第一厚度。再者,上述显示器的制造方法之中,步骤(d)以切割方法去除第二基板的第二接合区域。并且,上述显示器的制造方法之中,步骤(e)中同时薄化上述第一、第二基板,还使上述第二基板具有第四厚度,该第四厚度小于该第二厚度。再者,上述显示器的制造方法之中,步骤(e)可以利用湿蚀刻浸渍法完成,而上述保护层的蚀刻速率与上述第一、第二基板的蚀刻速率比大约为10~1000∶1,取决于保护层厚度与基板厚度。并且,上述显示器的制造方法之中,第一基板的第一显示区域上形成有复数个薄膜晶体管,第二基板上形成有一滤光片。并且,上述显示器的制造方法之中,步骤(c)之前还包括在上述第一基板与上述第二基板之间填入一液晶材料的步骤。本专利技术的特征之一在于,进行第一基板以及第二基板的封合步骤之后,才去除接合区域的保护层,以露出垫电极,如此,能够有效地防止垫电极氧化,确保垫电极与外部电路之间的良好电性接触。本专利技术的另一特征在于,进行保护层蚀刻的同时,能够薄化第一、第二基板,藉此,不需增加步骤,亦可大幅减轻显示器的重量。本专利技术的另一特征在于,在薄膜晶体管显示器的制造过程中,将去除接合区域保护层的步骤移到后段的封装制程同时进行,如此在前段薄膜晶体管的制造过程中,可省去一道以光掩模在接合区域定义开口而露出垫电极的步骤,如此,可降低制造成本。为使本专利技术的上述目的、特征、和优点能更明显易懂,下文特举一优选实施例,并配合附图作详细说明。附图中附图说明图1A~图1C现有技术之一的平面显示器的制程剖面图。图2A~图2D根据本专利技术实施例的平面显示器的制程剖面图。符号的说明1、10~第一基板。2、20~第二基板。3、30~垫电极。4、40~栅极电极。5、50~绝缘层。6、60~半导体层。8、9、80、110~掺杂硅层。11、100~源极电极。12、120~漏极电极。14、140~铟锡合金氧化物16、160~保护层。18、180~封合材料。实施例以下利用第2A~第2D图所示的制程剖面图,以说明根据本专利技术实施例的。首先,请参照第2A图,具有第一厚度T1的第一基板10其包含一第一接合区域I以及一第一显示区域II。上述第一接合区域I的第一基板10的表面形成有垫电极30,例如由铬、钽、钼、钛、或铝等金属构成。而上述第一显示区域II的第一基板10的表面形成有由栅极电极40、源极电极100、与漏极电极120构成的薄膜晶体管。栅极电极40形成有由介电材料构成的绝缘层50,绝缘层50上形成有半导体层60,其上还形成掺杂硅层80、110。而源极电极100与漏极电极120上形成像素电极(pixel electrode)140,其通常由铟锡合金氧化物(Indium Tin Oxide;ITO)构成。最后,第一基板上10覆盖一保护层160,通常由硅化物材料构成,例如由氮化硅或是二氧化硅构成。接着,请参照第2B图,第二基板20上具有遮光材料与滤光片(图未显示),第二基板亦包含一第二接合区域III与一第二显示区域IV。第二接合区域III的位置与第一接合区域I相对,第二显示区域IV与第一显示区域II相对。在第一基板10与第二基板20之间填入液晶材料之后,在两个基板的外围利用封合材料(sealing material)180,并且配合适度的热处理,在150~250℃左右将第一基板10以及第二基板20加以黏合固定。然后,请参照第2C图,利用切割方法去除垫电极相对位置部分的第二基板20,以去除第二基板20上第二接合区域III的部分,使第一基板10上第一接合区域I的保护层160暴露出来。其次,请参照第2D图,利用湿蚀刻浸渍法(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面显示器的制造方法,包括下列步骤: (a)提供一具有第一厚度的第一基板,其包含一第一显示区域以及一第一接合区域,并且该第一接合区域形成有一垫电极,而该垫电极表面覆盖有一保护层; (b)提供一具有第二厚度的第二基板,该第二基板包含一第二显示区域以及一第二接合区域,该第二显示区域与该第一显示区域相对,而该第二接合区域与该第一接合区域相对; (c)利用一封合材料将该第一基板与该第二基板黏合固定; (d)去除该第二基板的该第二接合区域;以及 (e)去除该第一基板的该第一接合区域上的该保护层,以露出该垫电极,同时使该第一基板厚度变薄,使该第一基板具有一第三厚度,该第三厚度小于该第一厚度。

【技术特征摘要】
1.一种平面显示器的制造方法,包括下列步骤(a)提供一具有第一厚度的第一基板,其包含一第一显示区域以及一第一接合区域,并且该第一接合区域形成有一垫电极,而该垫电极表面覆盖有一保护层;(b)提供一具有第二厚度的第二基板,该第二基板包含一第二显示区域以及一第二接合区域,该第二显示区域与该第一显示区域相对,而该第二接合区域与该第一接合区域相对;(c)利用一封合材料将该第一基板与该第二基板黏合固定;(d)去除该第二基板的该第二接合区域;以及(e)去除该第一基板的该第一接合区域上的该保护层,以露出该垫电极,同时使该第一基板厚度变薄,使该第一基板具有一第三厚度,该第三厚度小于该第一厚度。2.如权利要求1所述的平面显示器的制造方法,其中步骤(d)以切割方法去除该第二基板的该第二接合区域。3.如权利要求1所述的平面显示器的制造方法,其中该步骤(e)中于去除该保护层的同时亦薄化该第二基板,使该第二基板具有一第四厚度,该第四厚度小于该第二厚度。4.如权利要求1所述的平面显示器的制造方法,其中步骤(e)利用湿蚀刻浸渍法完成。5.如权利要求1所述的平面显示器的制造方法,其中该第一基板的显示区域上形成有复数个薄膜晶体管,该第二基板上形成有一滤光片。6.如权利要求1所述的平面显示器的制造方法,其中步...

【专利技术属性】
技术研发人员:翁嘉璠
申请(专利权)人:达碁科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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