制造磷光层结构的方法技术

提供一种制造磷光层结构的方法，其中在阳极基底上的障壁间形成磷光层的工艺过程有所改进。该方法包括制备具有为障壁所分开的内部空间的基底；在障壁和内部空间上形成牺牲层，以平化基底的上表面；在牺牲层上形成磷光层；和除去牺牲层以使得磷光层可处于内部空间中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种制造用在例如场致发射显示器等装置中的磷光层结构的方法，并且，特别涉及一种，该方法在阳极基底的障壁间形成磷光层的工艺过程上有所改进。
技术介绍
近来，在显示装置的领域中，正在集中致力于开发具有大屏幕并且需要的安装空间日益减少的平板显示器。平板显示器包括液晶显示器(LCD)，等离子体显示板(PDP)和场致发射显示器(FED)。FED采用背光显示字符和图像。在FED中，强电场从栅电极(gate electrode)施加到设置在阴极上并以预定间隔隔开的发射体上，以使得发射体发射电子。电子与涂覆在阳极基底表面上的磷光层产生碰撞导致光发射。这里，如果磷光层均匀形成，亮度、对比度和颜色纯度都将得到改善。在FED当中，应该使不同颜色磷光体之间的光学干扰最小化。所以，美国专利No.6022652(名称为“带有高障壁的高分辨率平板荧光屏”，公开于2000年2月8日)公开了一个具有障壁结构(barrier structure)的阳极结构。在障壁设置在阳极基底、磷光层形成在障壁之间的空间中的情况下，障壁可以有助于保持色彩纯度和对比度。另外，在上述FED中，磷光体的均匀施加会大大影响亮度、对比度和色彩纯度。在以上采用具有障壁结构的阳极基底的FED中，障壁的采用使得在障壁之间均匀地施加磷光层变得困难。磷光层可以采用旋转涂覆方法或者丝网印刷方法通过施加磷光体浆料形成。但是，采用这些方法将磷光体均匀地施加到障壁之间的空间中是困难的。可替换地，磷光层可以用干膜型磷光体(dry film-type phosphor)形成。采用干膜型磷光层形成磷光层的工艺过程现在可参照图1A-1D进行描述。基底1包括障壁3，该障壁3形成为以预定间隔隔开的突出的条形。在障壁3之间形成一个内部空间，红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)磷光层通过以下将描述的工艺过程形成在相邻的内部空间中。将预定颜色的磷光层5R，例如，红色，设置在基底1上(图1A)。然后，通过使用刀片或者热辊形成磷光层5R以覆盖障壁3和内部空间(图1B)。接下来，如图1C所示，具有预定图案7a的掩模7设置在磷光层5R上并进行曝光和显现的工艺过程。如图1D所示，通过这些工艺过程，除即将形成R磷光层5R的部分之外，磷光层的所有部分将被去除。这样，红磷光层5R以预定图案形成在基底1上。重复用于形成红色磷光层5R的工艺过程以形成绿色磷光层和蓝色磷光层，从而完成了包括红色磷光层5R，绿色磷光层5G和蓝色磷光层5B的磷光层结构，如图2所示。这里，磷光层可以在障壁间的内部空间中均匀形成。但是，由于所用的干膜型磷光层作为用于完成工艺过程的设备是比较昂贵的，所以磷光层结构的制造是比较昂贵的。另外，将磷光层形成为薄膜也是困难的。
技术实现思路
本专利技术提供一种，其包括简化的工艺过程并且能够均匀地在基板上形成磷光层。根据本专利技术的一个方面，提供一种，其包括制备具有为障壁所分开的内部空间的基底；在障壁和内部空间上形成牺牲层，以平面化基底的上表面；在牺牲层上形成磷光层；和除去牺牲层以使得磷光层可处于内部空间中。附图说明本专利技术的以上及其其他特征和优点通过参照结合以下所述附图的示例性实施例的详细描述而变得更为清楚图1A-1D是制造常规的磷光层结构的工艺过程的示意图；图2是表示通过图1A-1D所示的工艺过程制造的磷光层结构的局部横截面图；图3A-3D是表示根据本专利技术实施例制造磷光层结构的工艺过程的示意图；图4是一个电子显微镜图像，表示与图3A所示的工艺过程相对应的、在被烘焙之前的的磷光层结构；图5是一个电子显微镜图像，表示与图3D所示的工艺过程相对应的、在被烘焙之后的的磷光层结构的平面图；和图6是一个电子显微镜图像，表示与图3D所示的工艺过程相对应的、在被烘焙之后的的磷光层结构的横截面。具体实施例方式参照图3A-3D，对根据本专利技术的一个实施例制造磷光层结构的工艺过程进行描述。如图3A所示，制备包括为障壁13所分隔的内部空间12的基底11。这里，基底11可以用作例如场致发射显示器(FED)的显示装置，在这种情况下基底11用作阳极并由一种能够透过入射光的材料构成。基底11和障壁13可由相同或者不同的材料构成。当该磷光层结构应用在显示器当中时，考虑到颜色纯度和亮度，障壁13形成的高度从基底11的表面起期望为10-200μm。如图3B所示，牺牲层15形成在内部空间12和障壁13中以平面化基底11的上表面。牺牲层15由初始为液体的热塑性树脂或者热固性树脂构成是比较理想的。这样，首先施加时牺牲层15流入和填充内部空间12。其后牺牲层通过加热或者光照而硬化，最后在预定的温度或者通过等离子体去除。牺牲层15可由包括丙烯腈-丁二烯-苯乙烯三元共聚物(ABS)，乙缩醛(acetal)，纤维素基材料(cellulose-based material)，尼龙(PA)，聚酯丁烯对苯二酸盐(PBT)，聚碳酸酯(PC)，聚乙烯(PE)，聚甲基甲基丙烯酸盐(PMMA)，聚亚苯基氧化物(PPO)，聚丙烯，聚乙烯，聚硫酰(PSF)，聚氯乙烯(PVC)，聚苯乙烯-丙烯腈(SAN)和聚乙烯醇(PVA)的热塑性树脂组中的至少一种材料构成。另外，牺牲层15可以由包括醇酸树脂(alkyd resin)，环氧树脂，三聚氰胺树脂(melamine resin)，苯酚-甲醛树脂(phenol-formaldehyde resin)，石碳酸树脂(phenolic resin)，聚酯，硅树脂(silicones)，尿素-甲醛树脂(urea-formaldehyde resin)和聚氨酯(polyurethane)的热固树脂组中的至少一种材料构成。如以上所述，如果牺牲层15以液态施加在基底11上，其填充内部空间12，并且基底11的上表面得到平化。另外，当牺牲层15通过加热或者光辐射的工艺过程进行硬化时，平面化的上表面变为固体或者凝胶体。然后，如图3C所示，红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)磷光体17R，17G和17B被施加到牺牲层15上。该磷光层17R，17G和17B可以通过旋转涂覆方法施加，其中预定量的磷光体浆料设置在牺牲层15上并旋转，或者采用印刷方法，其中磷光体印刷在牺牲层15上，或者采用斜向镀覆方法(slantapplication method)，其中基底11是倾斜的，以使得磷光体由于其自身的重量而进行施加。可替换地，磷光体17R，17G和17B可以通过浸渍方法(dippingmethod)形成，其中基底11浸渍在具有磷光体的容器中。在图3C中，磷光体17R，17G和17B通过旋转涂覆方法采用直径为3-5μm的颗粒形成，以构成双层结构。在磷光体17R，17G和17B被施加后，干燥该层以完成在牺牲层15上的磷光层形成工艺过程。另一方面，磷光体不施加在基底的全部上表面。比较理想的是，磷光体有选择地施加在牺牲层15与基底11的内部空间的上部分相对应的部分上。同时，磷光体17R，17G和17B根据它们的颜色分别占据不同的部分，形成磷光体的工艺过程根据颜色进行。此后，牺牲层15被除去，以使得设置在牺牲层15上的磷光体17R，17G和17B下降至相应的内部空间12中，如图3D所示。然后，完成制造均匀薄膜的磷光层结构的工艺过程。这里，牺牲层15通过烘焙或者在空气中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造磷光层结构的方法，包括：制备具有由障壁所分开的内部空间的基底；在障壁和内部空间上形成牺牲层，以平面化基底的上表面；在牺牲层上形成磷光层；和除去牺牲层以使得磷光层可处于内部空间中。

【技术特征摘要】
KR 2004-6-17 45046/041.一种制造磷光层结构的方法，包括制备具有由障壁所分开的内部空间的基底；在障壁和内部空间上形成牺牲层，以平面化基底的上表面；在牺牲层上形成磷光层；和除去牺牲层以使得磷光层可处于内部空间中。2.如权利要求1的方法，其中牺牲层由流体构成，其通过加热或者光照而硬化并可在预定的温度或者采用等离子体除去。3.如权利要求2的方法，其中牺牲层由热塑性树脂形成。4.如权利要求3的方法，其中牺牲层由以下的材料构成的材料组中的至少一种材料构成丙烯腈-丁二烯-苯乙烯三元共聚物(ABS)，乙缩醛，纤维素基材料，尼龙(PA)，聚酯丁烯对苯二酸盐(PBT)，聚碳酸酯(PC)，聚乙烯(PE)，聚甲基甲基...

【专利技术属性】
技术研发人员：许廷娜，朴相铉，郑太远，金钟玟，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]