【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及辐照,尤其涉及用于产生电磁辐射的方法与装置。
技术介绍
弧光灯已经用于为多种目的产生电磁辐射。通常,弧光灯包括用于产生连续辐照的连续或直流弧光灯及用于产生辐照闪光的闪光灯。连续或直流弧光灯已经用于从日光模拟到半导体晶片快速热处理的应用。典型的传统直流弧光灯包括安装在充有诸如氙或氩的惰性气体的石英封套(quartz envelope)中的两个电极,即,阴极和阳极。有一电功率供给用于维持电极之间的连续等离子体弧。在等离子体弧中,等离子体通过粒子碰撞由高电流加热到高温并以对应于在电极之间流动的电流的强度发射电磁辐射。闪光灯在有些方面类似于连续弧光灯,但在其它方面不同。不是使用恒定的电流产生连续的辐射输出,而是电容器组或其它脉冲电源通过电极突然放电,以便在电极之间产生等离子体弧形式的高能量电放电脉冲。与连续弧光灯一样,等离子体由放电脉冲的大电流加热并发射突然闪光形式的光能,该突然闪光的持续时间对应于电放电脉冲的持续时间。例如,一些闪光的持续时间可以是大约一毫秒,尽管其它持续时间也可以实现。不象典型地在准静态压力和温度条件下工作的连续弧光灯,闪光灯的典型特征在于闪光过程中压力和温度大而突然的变化。历史上,高功率闪光灯的一种主要应用是激光泵浦。作为一种更近些时候的例子,高功率闪光灯用于通过以大约五兆瓦特的功率辐照晶片表面大约一毫秒的脉冲持续时间来使半导体晶片退火。传统闪光灯的冷却典型地包括只冷却封套的外表面,而不是内表面。尽管利用周围空气的简单对流冷却对于低功率应用是足够的,但高功率应用常常需要封套的外侧通过强迫通风或其它气体冷却,或者对于更高功率的 ...
【技术保护点】
一种用于产生电磁辐射的装置,该装置包括: a)流发生器,配置成生成沿封套内表面的液体流; b)第一和第二电极,配置成在封套中生成电弧,以便产生电磁辐射;及 c)排放室,向外延伸超过一个所述电极,配置成容纳一部分所述液体流。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于产生电磁辐射的装置,该装置包括a)流发生器,配置成生成沿封套内表面的液体流;b)第一和第二电极,配置成在封套中生成电弧,以便产生电磁辐射;及c)排放室,向外延伸超过一个所述电极,配置成容纳一部分所述液体流。2.如权利要求1所述的装置,其中所述排放室轴向向外延伸得足够远,超过所述一个所述电极,以便将所述一个所述电极与由于所述排放室中所述液体流的崩溃导致的湍流隔离。3.如权利要求1所述的装置,其中所述流发生器配置成生成从所述液体流径向向内的气体流,而且其中所述排放室延伸得足够远,超过所述一个所述电极,以便将所述一个所述电极与由于所述液体和气体流的混合导致的湍流隔离。4.如权利要求1所述的装置,其中所述电极配置成生成电放电脉冲,以便产生辐照闪光,而且其中所述排放室具有足够的容积来容纳通过由于所述电放电脉冲导致的压力脉冲向外推的一体积的所述液体。5.如权利要求1所述的装置,其中所述第二电极包括阳极,而且其中所述排放室轴向向外延伸超过所述阳极。6.如权利要求1所述的装置,其中所述流发生器是电绝缘的。7.如权利要求6所述的装置,还包括围绕所述流发生器的电绝缘。8.如权利要求7所述的装置,其中所述流发生器包括导体。9.如权利要求7所述的装置,其中所述第一电极包括阴极,而且其中所述电绝缘围绕所述阴极及到该阴极的电连接。10.如权利要求9所述的装置,还包括所述电连接,而且其中所述电连接包括所述流发生器。11.如权利要求7所述的装置,其中围绕所述流发生器的所述电绝缘包括所述封套。12.如权利要求11所述的装置,其中围绕所述流发生器的所述电绝缘还包括绝缘罩。13.如权利要求12所述的装置,其中所述绝缘罩围绕至少部分所述封套。14.如权利要求13所述的装置,其中所述电绝缘还包括所述绝缘罩和所述封套的所述部分之间的空间中的压缩气体。15.如权利要求11所述的装置,其中所述封套包括透明圆柱管。16.如权利要求15所述的装置,其中所述管具有至少四毫米的厚度。17.如权利要求15所述的装置,其中所述管包括精膛圆柱管。18.如权利要求12所述的装置,其中所述绝缘罩包括塑料和陶瓷中的至少一种。19.如权利要求6所述的装置,其中所述第一和第二电极包括阴极和阳极,所述阴极具有比所述阳极短的长度。20.如权利要求6所述的装置,其中所述第一电极包括具有突出长度的阴极,它沿该突出长度轴向向内、向着装置的中心突出,超过封套中装置的次最内部件,而且其中所述突出长度小于所述阴极的直径的两倍。21.如权利要求20所述的装置,其中所述突出长度足够长,以便防止所述电弧在所述流发生器与所述第二电极之间发生。22.一种系统,包括多个如权利要求6所限定的装置,配置成辐照一共同目标。23.如权利要求22所述的系统,其中所述多个装置配置成辐射半导体晶片。24.如权利要求22所述的系统,其中所述多个装置配置成彼此并联。25.如权利要求24所述的系统,其中所述多个装置中的每个装置排列在与所述多个装置中的相邻装置相对的方向上,使得所述多个装置中的所述每个装置的阴极与所述多个装置中的所述相邻装置的阳极相邻。26.如权利要求22所述的系统,还包括单个循环设备,配置成向所述多个装置中的每个装置的所述流发生器提供液体。27.如权利要求6所述的装置,还包括在所述封套外并从所述第一电极的附近延伸到所述第二电极的附近的导电反射器。28.如权利要求6所述的装置,还包括与所述电极电联系的多个电源电路。29.如权利要求28所述的装置,还包括配置成将所述多个电源电路中的至少一个与所述多个电源电路中的至少另一个隔离的隔离器。30.如权利要求6所述的装置,其中每个所述电极包括用于容纳通过其中的冷却剂流的冷却剂通道。31.如权利要求30所述的装置,其中至少一个所述电极包括具有至少一厘米厚度的钨尖端。32.如权利要求30所述的装置,其中所述电极配置成生成电放电脉冲,以便产生辐照闪光,而且还包括配置成在所述第一和第二电极之间生成空闲电流的空闲电流电路。33.如权利要求32所述的装置,其中所述空闲电流电路配置成在所述电放电脉冲之前的一时间段内生成所述空闲电流,所述时间段比所述液体流通过所述封套所需的流体通过时间长。34.如权利要求32所述的装置,其中所述空闲电流电路配置成生成至少大约1×102安培的电流作为所述空闲电流。35.如权利要求32所述的装置,其中所述空闲电流电路配置成在至少大约1×102毫秒内生成至少大约4×102安培的电流作为所述空闲电流。36.一种用于产生电磁辐射的装置,该装置包括a)用于生成沿封套内表面的液体流的装置;b)用于在封套中生成电弧以便产生电磁辐射的装置;及c)用于容纳一部分所述液体流的装置,所述用于容纳的装置向外延伸超过所述用于生成的装置。37.如权利要求36所述的装置,其中所述用于容纳的装置包括用于将所述一个所述电极与由于所述用于容纳的装置中所述液体流崩溃导致的湍流隔离的装置。38.如权利要求36所述的装置,还包括用于生成从所述液体流径向向内的气体流的装置,而且其中所述用于容纳的装置包括用于将所述一个所述电极与由于所述液体和气体流崩溃导致的湍流隔离的装置。39.如权利要求36所述的装置,其中所述用于生成电弧的装置包括用于生成电放电脉冲以便产生辐照闪光的装置,而且其中所述用于容纳的装置包括容纳通过由于所述电放电脉冲导致的压力脉冲向外推的一体积的所述液体。40.一种产生电磁辐射的方法,该方法包括a)生成沿封套的内表面的液体流;b)在第一和第二电极之间、在封套中生成电弧,以便产生电磁辐射;及c)在排放室中容纳一部分所述液体流,所述排放室向外延伸超过一个所述电极。41.如权利要求40所述的方法,其中容纳包括将所述一个所述电极与由于所述排放室中所述液体流崩溃导致的湍流隔离。42.如权利要求40所述的方法,还包括生成从所述液体流径向向内的气体流,而且其中容纳包括将所述一个所述电极与由于所述液体和气体流崩溃导致的湍流隔离。43.如权利要求40所述的方法,其中生成电弧包括生成电放电脉冲以便产生辐照闪光,而且其中容纳包括容纳通过由于所述电放电脉冲导致的压力脉冲向外推的一体积的所述液体。44.如权利要求40所述的方法,其中生成液体流包括利用电绝缘的流反射器生成液体流。45.一种包括控制多个如权利要求44所限定的装置来辐照一共同目标的方法。46.如权利要求45所述的方法,其中控制包括控制多个装置来辐照半导体晶片。47.如权利要求45所述的方法,其中控制包括使所述多个装置中的每个装置生成与所述多个装置中的每个相邻装置的电弧方向相对的方向上的所述电弧。48.如权利要求44所述的方法,还包括将多个电源电路中的至少一个与所述多个电源电路中的至少另一个隔离。49.如权利要求44所述的方法,还包括冷却所述第一和第二电极。50.如权利要求49所述的方法,其中冷却包括通过所述第一和第二电极相应的冷却剂通道来循环液体冷却剂。51.如权利要求49所述的方法,其中生成所述电弧包括生成电放电脉冲以便产生辐照闪光,而且还包括在所述第一和第二电极之间生成空闲电流。52.如权利要求51所述的方法,其中生成所述空闲电流包括在所述电放电脉冲之前的一时间段内生成所述空闲电流,所述时间段比所述液体流通过所述封套所需的流体通过时间长。53.如权利要求51所述的方法,其中生成所述空闲电流包括生成至少大约1×102安培的电流作为所述空闲电流。54.如权利要求51所述的方法,其中生成所述空闲电流包括在至少大约1×102毫秒内生成至少大约4×102安培的电流作为所述空闲电流。55.一种用于产生电磁辐射的装置,该装置包括a)电绝缘的流发生器,配置成生成沿封套内表面的液体流;及b)第一和第二电极,配置成在封套内生成电弧,以便产生电磁辐射。56.如权利要求55所述的装置,还包括围绕所述流发生器的电绝缘。57.如权利要求56所述的装置,其中所述流发生器包括导体。58.如权利要求56所述的装置,其中所述第一电极包括阴极,而且其中所述电绝缘围绕所述阴极及到该阴极的电连接。59.如权利要求58所述的装置,还包括所述电连接,而且其中所述电连接包括所述流发生器。60.如权利要求56所述的装置,其中围绕所述流发生器的所述电绝缘包括所述封套。61.如权利要求60所述的装置,其中围绕所述流发生器的所述电绝缘还包括绝缘罩。62.如权利要求61所述的装置,其中所述绝缘罩围绕至少部分所述封套。63.如权利要求62所述的装置,其中所述电绝缘还包括所述绝缘罩与所述封套的所述部分之间的空间中的气体。64.如权利要求63所述的装置,还包括与所述绝缘罩的内表面和所述封套的所述部分的外表面配合以便将所述气体密封到所述空间中的一对彼此隔开的密封。65.如权利要求64所述的装置,其中所述气体是压缩的。66.如权利要求60所述的装置,其中所述封套包括透明圆柱管。67.如权利要求66所述的装置,其中所述管具有至少四毫米的厚度。68.如权利要求67所述的装置,其中所述管具有至少五毫米的厚度。69.如权利要求66所述的装置,其中所述管包括精膛圆柱管。70.如权利要求69所述的装置,其中所述精膛圆柱管具有至少低到5×10-2毫米的尺度容差。71.如权利要求66所述的装置,其中所述管包括石英。72.如权利要求71所述的装置,其中所述管包括纯石英。73.如权利要求71所述的装置,其中所述管包括掺铈石英。74.如权利要求66所述的装置,其中所述管包括蓝宝石。75.如权利要求61所述的装置,其中所述绝缘罩包括塑料和陶瓷中的至少一种。76.如权利要求55所述的装置,其中所述第一和第二电极包括阴极和阳极,所述阴极具有比所述阳极短的长度。77.如权利要求55所述的装置,其中所述第一电极包括具有突...
【专利技术属性】
技术研发人员:大卫玛尔科穆卡穆,陈志成,里克杜兰,托尼休伊特,阿恩克约韦尔,托尼科马萨,迈克克拉斯尼希,史蒂夫麦科伊,约瑟夫雷耶斯,伊戈鲁迪克,卢德米拉舍佩列夫,格雷戈斯图尔特,蒂尔曼斯鲁姆,阿历克斯维埃尔,
申请(专利权)人:加拿大马特森技术有限公司,
类型:发明
国别省市:CA[加拿大]
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