一种高性能玻璃盖板抛光液制造技术

本发明专利技术属于玻璃蚀刻技术领域，特别涉及一种高性能玻璃盖板抛光液，组分包含：1

【技术实现步骤摘要】
一种高性能玻璃盖板抛光液


[0001]本专利技术涉及玻璃蚀刻
，特别涉及一种高性能玻璃盖板抛光液。

技术介绍

[0002]玻璃的蚀刻是利用氢氟酸与二氧化硅的反应来让玻璃减薄的过程。在一些电子产品的屏幕上会用到平面度要求很高的玻璃盖板，这种玻璃盖板也可以用含有氢氟酸的抛光液进行化学抛光。普通的抛光液中往往还要加入微小的金刚砂辅助研磨才能达到目标的光洁度。现有技术如果仅靠腐蚀，在化学抛光后最多只能达到3
‑
4级光洁度，而客户要求的光洁度要达到8
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9级，这意味着在化学抛光以后还要通过别的方式将玻璃盖板的光洁度提高，带来生产效率的降低。
[0003]因此本专利技术提供一种新的玻璃抛光液配方来解决以上问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的是为了提供一种高性能玻璃盖板抛光液，能够让蚀刻后的玻璃能够让玻璃在蚀刻后具有更高的光洁度。
[0005]本专利技术通过如下技术方案实现上述目的：一种高性能玻璃盖板抛光液，由以下质量百分含量的组分组成：1
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10wt％氢氟酸、1
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10wt％硝酸、1
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10wt％硫酸，0.1
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5wt％稳定剂、0.1
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2wt％月桂酰两性基二乙酸二钠和余量的去离子水。
[0006]具体的，所述稳定剂为氟化物。
[0007]进一步的，所述氟化物优选氟化铵。
[0008]具体的，所述缓蚀剂为醋酸盐、柠檬酸盐或葡萄糖酸盐。
[0009]本专利技术一种高性能玻璃盖板抛光液的有益效果在于：
[0010]本专利技术抛光液能够让玻璃盖板表面平整度保持在0.4μm以内，符合9级光洁度要求，而且蚀刻效率更高，免去二次打磨，满足面板行业对玻璃表面的形貌要求。
具体实施方式
[0011]一种高性能玻璃盖板抛光液，组分包含：1
‑
10wt％氢氟酸、1
‑
10wt％硝酸、1
‑
10wt％硫酸，0.1
‑
5wt％稳定剂、0.1
‑
2wt％月桂酰两性基二乙酸二钠和余量的去离子水。
[0012]这里的抛光液是一种纯化学抛光液。其中氢氟酸用来与二氧化硅反应。硝酸和硫酸用来提供蚀刻反应所需的氢离子。氟化物用来提供氟离子，在酸性环境下会转化成能够腐蚀玻璃的氢氟酸。而氟化铵会分解成氢氟酸和氨气，当氢氟酸被消耗以后会继续释放出氢氟酸让反应持续。缓蚀剂都是有机弱酸的盐，能用来吸收过量的氢离子，保持体系pH值的稳定，控制蚀刻效率。月桂酰两性基二乙酸二钠起到控制体系表面张力的作用，对于均匀蚀刻有决定性作用。
[0013]以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。
[0014]实施例1
‑
6：
[0015]按照表1配方混合制备实施例1
‑
6的高性能玻璃盖板抛光液：
[0016]表1：单位：wt％
[0017][0018][0019]注：含量中不满100wt％的部分由去离子水补足余量。
[0020]以CN202011065493.9披露的抛光液为对照例1，与实施例1
‑
6的抛光液进行比较实验。实验方法是将10cm
×
10cm玻璃盖板垂直浸入抛光液中，在常温条件下进行蚀刻1min，2min，3min。分别检测腐蚀深度(初始厚度
‑
最终厚度)和平整度，结果如表2所示。
[0021]表2：单位：μm
[0022][0023]由表2可知，相比于对照例1，实施例1
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6的抛光液能够让玻璃盖板表面平整度保持在0.4μm以内，符合9级光洁度要求，而且蚀刻效率更高，免去二次打磨，满足面板行业对玻璃表面的形貌要求。
[0024]以上所述的仅是本专利技术的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本专利技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高性能玻璃盖板抛光液，其特征在于，组分包含：1
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10wt％氢氟酸、1
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10wt％硝酸、1
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10wt％硫酸，0.1
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5wt％稳定剂、0.1
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2wt％缓蚀剂、0.1
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【专利技术属性】
技术研发人员：李华平，陈浩，王润杰，
申请(专利权)人：苏州博洋化学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：