【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种能量分散型辐射探测系统和一种测量目标元素的含量的方法，用于将x射线、电子束等等的入射辐照照射到样品， 探测从样品产生的特征X射线的辐射并由该辐射的光i普来执行样品的元素分析以及成分分析。
技术介绍
在相关技术中，作为执行样品的元素分析和成分分析的方法，存在一种方法将来自入射系统的X射线或电子束的入射辐照照射到 构成对象的样品，通过探测系统探测由入射辐照激发样品中包括的 元素所产生的特征X射线等等的辐射以便分析。更具体而言，例如， 当电子束被用作入射辐照时，电子束从电子枪被照射到样品，并且 特征X射线被探测为从样品照射的辐射。此外，可以通过使用特征X 射线的光语来探测特征X射线相对于期望的目标元素的强度而确定 目标元素的含量。根据通过使用具有入射系统和探测系统的辐射探 测系统从由样品照射的辐照的光i普分析中确定目标元素的含量的方 法，通常通过增加来自入射系统的入射辐照的强度，辐射的强度也 会被增加，并且灵敏度也可以增加。因此，通过抑制探测的最小极 限，可以执行精确的测量。此外，当入射辐照由X射线构成时，通 过由入射辐照激发样品中包含的元素而产生的...
【技术保护点】
一种能量分散型辐射探测系统，该系统包括用于以预定强度将入射辐射照射到样品的入射系统，和用于通过照射入射辐射探测从该样品发射的辐射以便基于被探测的辐射的光谱确定该样品的目标元素的含量的探测系统，该能量分散型辐射探测系统包括： 能够通过基于被探测的辐射的光谱确定最小化目标元素的探测的最小极限的入射辐射的最佳强度来以该最佳强度照射入射辐射的控制部分。
【技术特征摘要】
JP 2006-6-22 2006-1725761.一种能量分散型辐射探测系统，该系统包括用于以预定强度将入射辐射照射到样品的入射系统，和用于通过照射入射辐射探测从该样品发射的辐射以便基于被探测的辐射的光谱确定该样品的目标元素的含量的探测系统，该能量分散型辐射探测系统包括能够通过基于被探测的辐射的光谱确定最小化目标元素的探测的最小极限的入射辐射的最佳强度来以该最佳强度照射入射辐射的控制部分。2. 根据权利要求1所述的能量分散型辐射探测系统，其中控制 部分包括分析装置，用于计算目标元素的灵敏度、在对应于目标元 素的辐射的能量中由堆积引起的第一背景强度和由除了堆积之外的 其他引起的第二背景强度、和在由被探测的辐射的光镨探测辐射时 探测系统的空载时间率；和入射辐射强度确定装置，用于基于灵敏度、第一背景强度、第二 背景强度和空载时间率来计算最小化目标元素的探测的最小极限的 入射辐射的最佳强度。3. 根据权利要求2所述的能量分散型辐射探测系统，其中控制 部分的入射辐射强度确定装置通过下述设置最佳强度将在辐射的 光镨被探测时照射的入射辐射的强度乘以a、将通过计算的灵敏度乘 以a所构成的值代入如〈等式1>所示的探测的最小极限DL的计算等 式作为灵敏度S、将通过计算的空载时间率乘以a所构成的值代入其 作为空载时间T、并将通过第一背景强度乘以012构成的值与通过第二 背景强度乘以a构成的值的和代入其作为背景强度Ib,计算表明探测 的最小极限DL的最小值的系数a，并且确定最佳强度，等式1DL —3.yib/T.(1—t) s其中符号Ib表示背景强度，符号T表示测量时间周期，符号S表示 灵敏度，符号T表示空载时间率。4. 根据权利要求2所述的能量分散型辐射探测系统，其中可以 设置其含量将要被确定的多个目标元素； 其中控制部分的分析装置由被探测的辐射的光谦计算相应目标元素的净强度以便能够搜索最小化净强度的目标元素；并且入射辐射强度确定装置基于最小化净强度的目标元素的灵敏度、第一背景强度和第二背景强度计算入射辐射的最佳强度。5. 根据权利要求1所述的能量分散型辐射探测系统，其中入射 系统由能够照射主要X射线作为入射辐射的X射线管构成；并且其中控制...
【专利技术属性】
技术研发人员：的场吉毅，长谷川清，深井隆行，
申请(专利权)人：精工电子纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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