利用质谱技术进行指纹分析制造技术

本申请涉及一种利用质谱技术确定指纹上或指纹中存在残留物的方法。所述质谱技术可以在ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳ和ＳＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳ中选择。作为基质辅助激光解吸中的基质、且帮助指纹显像的粒子悬浮液被应用于指纹。适合的基质的例子有：疏水性的硅石、二氧化钛、炭黑、球壳状碳分子、碳纳米管等。可选择地，指纹可以用提取带进行提取。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及利用质谱技术确定指紋中存在残留物的方法。技术背景潜在的指紋包含许多化合物，如身体自然产生的化合物，例如，胆固醇，鲨烯和脂肪酸，[l-3]或者可通过接触留在潜在指纹上的化合 物，例如，可卡因或者其他滥用药物。在对该目标的研究中，使用了 拉曼光谱学[4， 5]。在这些研究中，为了进行分析而可视地将滥用药 物定位具有困难，该方法也相当不壽文感和不太有效。净全测潜在指紋的 最常用的方法是气相色谱-质镨(GC-MS)方法。资料显示潜在指紋的 残留物可通过GC-MS方法提取到溶剂中进行分析[2， 3]。这样的化合 物包括鲨烯和胆固醇，然而，这些物质在潜在指紋上的水平会变化， 不仅是在个体之间，而且即使同 一个个体的不同时间之间[3]。 GC-MS 也被用于检测接触残留物，如指紋上近300pg的可卡因[6]和从商业 汗衫上[7]检测每个汗衫低至每小块儿几ng水平的滥用药物和代谢物 以及来自唾液的代谢物[8]。然而，所有上述方法在分析之前都需要进 行复杂的提取过程。基质辅助的激光解吸/电离质谱飞行时间质谱(MALDI-TOF-MS ) 是在80年代晚期由Karas和Hillenk本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于确定在指纹中存在残留物的方法，其特征在于使用了由基质辅助的质谱技术。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】GB 2005-8-9 0516272.2;GB 2005-8-9 0516271.4;US 2001.一种用于确定在指纹中存在残留物的方法，其特征在于使用了由基质辅助的质谱技术。2. 如权利要求l所述的方法，包括i) 向所述指紋施加颗粒物质，所述颗粒物质(1 )能够作为基质 辅助的质语技术中的基质；并且(2)能够帮助指紋的检测和/或成像， 以形成施加颗粒的指紋；以及ii) 对形成施加颗粒的指紋的物质进行质谱分析，从而检测是否 存在所述残留物。3. 如权利要求2所述的方法，其中所述颗粒物质是疏水性的。4. 如权利要求2或3所述的方法，其中所述颗粒物质包含疏水性 石圭石颗粒。5. 如权利要求2至4中任何一项所述的方法，其中所述颗粒物质 包括金属、金属氮化物、金属氧化物或碳。6. 如权利要求4至6中任何一项所述的方法，其中所述金属氧化 物是从氧化钛、氧化铁(磁铁矿)、赤铁矿及其组合中选出的。7. 如权利要求4至6中任何一项所述的方法，其中所述碳是从碳 黑、球壳状碳分子化合物、纳米管、石墨及其类似物以及它们的组合 中选出的。8. 如权利要求4至6中任何一项所述的方法，其中所述金属是从 铝、铁及其组合中选出的。9. 如权利要求2至8中任何一项所述的方法，其中所述颗粒物质 包括疏水性硅石颗粒，并且所述金属、金属氮化物、金属氧化物或碳 颗粒嵌入有疏水性硅石颗粒。10. 如权利要求9所述的方法，其中颗粒的平均直径《100(im，并 且平均直径可选择为约10pm至约90|iim,还可选择为约45pm至约 65jim，还可选择为约65ium至约90|um。11. 如权利要求9所述的方法，其中颗粒的平均直径^lnm，并且 可选择为约200 nm至约900nm,还可选择为约300 nm至约600nm， 还可选择为约400 nm至约500nm。12. 如权利要求2至11中任何一项所述的方法，其中所述颗粒物 质还包括染料分子。13. 如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：弗莱德里克约翰罗厄尔，布伦丹约翰西克，
申请(专利权)人：桑德兰大学，
类型：发明
国别省市：GB[英国]