【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过等离子淀积在至少一个面上涂有薄层的聚合物制品
本专利技术可特别应用于(但不是唯一的)由聚合物材料制成的容器例如由 PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)制成的瓶子中的等离子淀积。
技术介绍
用于制造瓶子或容器的常规的聚合物材料，例如PET，都对氧和二氧 化碳具有相对渗透性。而且， 一些有助于芳香的分子可吸附在容器壁上并 最终扩散通过这些壁。最近，已有建议使用等离子体将阻障层淀积在必须包含对氧化(啤酒、 果汁、汽水)敏感的产品的聚合物容器例如瓶子上，以便增强这些容器对某 些气体例如氧和二氧化碳的不渗透性，并因此延长它们的保质期。这些等离子体-淀积在聚合物容器中的阻障层例如是有机(碳)或无机 (二氧化硅)型。不管其化学性质，能够检查这些阻障层的质量在工业上非常重要。已经提及将发射光谱学应用于研究等离子体内的反应以及用于检查 通过CVD淀积的薄膜(US 6117243，第1栏，28至37行)。文献US 5521351 阐明(图7)并提及(第7栏，38至45行)在等离子淀积期间瓶子内安装光纤， 所述光纤连接至发射光谱仪上。然而，该文献US 55213...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.等离子体成分的监控方法，所述等离子体产生自确定的前体，用于将薄膜淀积到聚合物材料上，所述方法包括测量由该等离子体发射的光强度，该方法的特征在于其包括选择第一波长范围的步骤，所述第一波长范围称为参考范围，其选自该等离子体的发射光谱区域，在该光谱区域中不存在所谓寄生化学物种的明显信号特征，也就是说，该寄生化学物种不成为所确定前体的一部分并因此通常不存在于该等离子体中，且其在该等离子体中的存在影响淀积的薄膜性质；选择第二波长范围的步骤，所述第二波长范围选自该等离子体的发射光谱区域，其中可能存在寄生化学物种的明显信号特征；同时在两个选定的波长范围的每一个中获得由该等离子体发射的光强度的步骤；和由所述光强度计算至少一个监控系数的步骤。2. 如权利要求1所述的等离子体成分的监控方法，其特征在于，该两 个波长范围具有非常小的谱宽，基本上对应于两个波长、和入2。3. 如权利要求2所述的等离子体成分的监控方法，其特征在于，至少一个监控系数是所述第一波长、和第二波长入2的发射强度之差的函数。4. 如权利要求2或3所述的等离子体成分的监控方法，其特征在于，至少一个监控系数是所述第一波长、和第二波长入2的发射强度之差的函数，所述差值用第一波长或第二波长的发射强度值标准化。5. 如权利要求1所述的等离子体成分的监控方法，其特征在于，该两 个波长范围M和M，每个具有谱宽且对应于两个带宽。6. 如权利要求5所述的等离子体成分的监控方法，其特征在于，至少一个监控系数是所述第一带宽和第二带宽的发射强度之差的函数。7. 如权利要求5或6所述的等离子体成分的监控方法，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：让米歇尔·里于斯，局伊·弗约莱，
申请(专利权)人：赛德尔参与公司，
类型：发明
国别省市：
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