【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及等离子体显示面板(以下称为PDP)和PDP的基板构体。
技术介绍
图6为表示先前的PDP的结构的立体图。PDP构成为将前面侧基 板构体1和背面侧基板构体2相贴合的结构。前面侧基板构体1在由 玻璃基板构成的前面侧基板la上配置由透明电极3a和金属电极3b构 成的多个显示电极3。显示电极3由电介质层4覆盖,在其电介质层4 上形成由二次电子放出系数高的氧化镁层构成的保护层5。背面侧基板 构体2在玻璃基板构成的背面侧基板2a上与显示电极垂直地配置多个 地址电极。在地址电极6之间设置用于规定发光区域(划分放电空间) 的隔壁7,在由地址电极6上的隔壁7划分的区域中,形成红,绿,蓝 的荧光体层8。在由贴合后的前面侧基板构体1和背面侧基板构体2 之间的隔壁所隔开的气密的放电空间中封入由Ne-Xe气体构成的放电 气体。另外,图中没有示出,但地址电极6用电介质层覆盖,在该电 介质层上设置隔壁7和荧光体层8。这样,在这个PDP中,通过在地址电极6和兼作扫描电极的显示 电极3之间加电压,产生地址放电。通过在成对的显示电极3之间加 电压,产生复位放电或显示用的维持放电。这种 ...
【技术保护点】
一种等离子体显示器,其在相对配置的两个基板构件之间形成有放电空间,其特征在于, 以露出于所述放电空间的方式配置触发粒子放出层,该触发粒子放出层包含,添加有1~10000ppm卤素元素的氧化镁结晶体。
【技术特征摘要】
JP 2007-5-9 2007-1247181.一种等离子体显示器,其在相对配置的两个基板构件之间形成有放电空间,其特征在于,以露出于所述放电空间的方式配置触发粒子放出层,该触发粒子放出层包含,添加有1~10000ppm卤素元素的氧化镁结晶体。2. 如权利要求1所述的等离子体显示面板,其特征在于, 所述卤素元素为氟。3. 如权利要求2所述的等离子体显示面板,其特征在于, 所述氟的添加量为5 1000ppm。4. 如权利要求3所述的等离子体显示面板,其特征在于, 所述氟的添加量为24 440ppm。5.如权利要求l所述的等离子体显示面板,其特征在于, 所述基板构体的一者,在基板上具有,显示电极,覆盖所述显示电极的电介质层,和覆盖所述电介质层的由氧化镁构成的保护层; 所述触发粒子放出层配置在所述保护层上。6. 如权利要求2所述的等离子体显示面板,其特征在于, 所述基板构体的一者,在基板上具有,显示电极,覆盖所述显示电极的电介质层,和覆盖所述电介质层的由氧化镁构成的保护层; 所述触发粒子放出层配置在所述保护层上。7. 如权利要求3所述的等离子体显示面板,其特征在于, 所述基板构体的一者,在基板上具有,显示电极,覆盖所述显示电极的电介质层,和覆盖所述电介质层的由氧化镁构成的保护层; 所述触发粒子放出层配置在所述保护层上。8. 如权利要求4所述的等离子体显示面板,其特征在于,所述基板构体的一者,在基板上具有,显示电极,覆盖所述显示 电极的电介质...
【专利技术属性】
技术研发人员:三泽智也,崎田康一,
申请(专利权)人:株式会社日立制作所,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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