一种掩膜版的上版装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩膜版的上版装置，包括一呈倾斜状的支撑主体，支撑主体上设置有下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件，下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件形成一倾斜支撑面，掩膜板置于倾斜支撑面上且掩膜板中心与倾斜支撑面的中心重合，实现对掩膜板支撑；本发明专利技术的上版装置，应用于采用六轴机器人进行自动化运输的掩膜版生产线中，通过本上版装置将掩膜版安装固定的姿态放置在固定的位置，避免了光刻机自带的load或AGV进行上版时的复杂的定位操作与控制，以低成本的方法和装置实现不同尺寸掩膜版高精度上版的功能，确保掩膜版生产的定位精度，减少光刻机对掩膜版的定位调整时间，提高掩膜版的生产效率和产品品质。提高掩膜版的生产效率和产品品质。提高掩膜版的生产效率和产品品质。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版的上版装置


[0001]本专利技术属于掩膜版生产制造领域，更具体的说涉及一种掩膜版的上版装置。

技术介绍

[0002]光刻掩膜版(Photomask)也称光罩或MASK，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影以及蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。制作掩膜版所使用的原材料为铬版，其是一种硬面掩膜版材料，即掩膜版基版，它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上铬
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氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)制成铬版原料。
[0003]近年来，随着对半导体产业的投入加大，光刻掩膜版是整个半导体产业较关键的一个环节，随着半导体产业的大力发展，光刻掩膜版的需求也随之爆发式的增长。
[0004]现有技术中，在掩膜版制作的自动化产线中，如何将原材料(玻璃基版)精准的搬到光刻设备上，各制作商方法不一，大部分都是采用AGV或者直接采用光刻机厂商的Load进行上版与定位，成本高。

技术实现思路
r/>[0005]本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版的上版装置，其特征在于，包括一呈倾斜状的支撑主体，所述支撑主体上设置有可沿所述支撑主体升降的下支撑组件以及以支撑主体中线轴对称设置的左支撑组件和右支撑组件，所述左支撑组件和右支撑组件均做靠近或远离所述下支撑组件的移动，所述下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件形成一倾斜支撑面，掩膜板置于所述倾斜支撑面上且掩膜板中心与所述倾斜支撑面的中心重合，所述下支撑组件、左支撑组件和右支撑组件分别与掩膜板的下边沿、左边沿和右边沿接触，实现对掩膜板支撑。2.根据权利要求1所述的掩膜版的上版装置，其特征在于，所述支撑主体包括呈水平状态的支撑底座、安装于所述支撑底座上的倾斜支撑框架和安装于所述倾斜支撑框架上的防摔支撑面，所述防摔支撑面设置在所述倾斜支撑面后部，所述倾斜支撑框架的倾斜角度为65
°
～75
°
；所述倾斜支撑面的中心距离地面高度为130cm～145cm；所述防摔支撑面包括以倾斜支撑面中线轴对称设置的防摔支架和安装于所述防摔支架上的若干防摔支撑PIN，防摔支撑PIN采用软塑料制成并均布置于倾斜支撑面中线两侧。3.根据权利要求1所述的掩膜版的上版装置，其特征在于，所述下支撑组件包括设置在所述倾斜支撑面的中线后部且平行的升降导杆和升降螺杆、套设在所述升降螺杆上的升降支撑块以及驱动所述升降螺杆旋转的伺服电机；所述伺服电机设置在升降螺杆顶部且位于防摔支撑面后部；所述升降支撑块上升至最高位置为倾斜支撑面的中心位置。4.根据权利要求3所述的掩膜版的上版装置，其特征在于，所述升降支撑块上穿过有与升降螺杆平行的纵向标尺，所述纵向标尺最高位置的刻度为零刻度并与倾斜支撑面的中心位置的在高度方向上重合。5.根据权利要求3所述的掩膜版的上版装置，其特征在于，所述升降支撑块包括套设在所述升降导杆与所述升降螺杆上的升降支撑块底座和可拆卸固定在所述升降支撑块...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟明，谭超华，李胜，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：发明
国别省市：