一种掩模组件包括掩模和阻挡杆。所述掩模包括其中形成有开口的图案区域并且在第一方向上延伸。所述阻挡杆设置在所述掩模下面并且与所述掩模的第一侧部重叠。所述掩模进一步包括伪开口区域和开口区域。所述伪开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部上，并且其中形成有开口。所述开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，并且分别对应于所述伪开口区域。所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的开口数量小于所述图案区域中的每单位面积的开口数量。中的每单位面积的开口数量。中的每单位面积的开口数量。
【技术实现步骤摘要】
掩模组件
[0001]本公开的各实施例一般涉及一种掩模组件。更特别地，本公开的各实施例涉及一种用于沉积有机发光层的掩模组件。
技术介绍
[0002]平板显示设备由于其轻量且薄的特性而被用作代替阴极射线管显示设备的显示设备。作为这种平板显示设备的代表性示例，有液晶显示设备和有机发光二极管显示设备。
[0003]有机发光二极管显示设备可以包括用于通过显示设备的第一表面显示图像的显示区域和其中光学模块设置在显示设备的第二表面上的模块区域。最近，可以在模块区域中设置有机发光层，使得即使在模块区域中也可以显示图像。在此情况下，由于光学模块需要通过使用从第一表面入射的外部光来操作，因此可以在模块区域中形成透射窗口，使得外部光可以穿过有机发光二极管显示设备。外部光可以通过透射窗口穿过有机发光二极管显示设备。例如，显示区域可以包括以等距间隔布置并且在其中分别形成有有机发光层的像素区域，并且模块区域可以包括在其中分别形成有有机发光层的像素区域以及在其中分别形成有透射窗口的透射区域。换句话说，显示区域和模块区域中的每单位面积的像素区域的数量可以彼此不同。
[0004]可以使用精细金属掩模来沉积有机发光层，并且可以在掩模中形成多个开口。开口可以对应于像素区域。在此情况下，对应于有机发光二极管显示设备的显示区域的部分被定义为掩模的第一部分，并且对应于有机发光二极管显示设备的模块区域的部分被定义为掩模的第二部分。由于显示区域和模块区域中的每单位面积的像素区域的数量彼此不同，因此掩模的第一部分和第二部分中的每单位面积的开口的数量可以彼此不同。当掩模被拉伸并固定到框架时，由于第一部分和第二部分中的每单位面积的开口的数量彼此不同，因此可能发生掩模的变形(例如，弯曲现象)，并且有机发光层可能不被精确地形成在像素区域的每一个中。因此，需要开发一种新颖的掩模组件以基本上无变形地沉积有机发光层。
技术实现思路
[0005]一些实施例提供一种用于沉积有机发光层的掩模组件。
[0006]根据一些实施例，掩模组件包括掩模和阻挡杆。所述掩模包括其中形成有开口的图案区域，并且在第一方向上延伸。所述阻挡杆设置在所述掩模下面，并且与所述掩模的第一侧部重叠。所述阻挡杆在所述第一方向上延伸。所述掩模进一步包括伪开口区域和开口区域。所述伪开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部上，并且在其中形成有开口。所述开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，并且分别对应于所述伪开口区域。所述开口区域在其中形成有开口。所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的所述开口的数量小于所述图案区域中的每单位面积的所述开口的数量。
[0007]在实施例中，所述伪开口区域的每一个中形成的所述开口的数量可以等于所述开口区域的每一个中形成的所述开口的数量。
[0008]在实施例中，所述伪开口区域的每一个中形成的所述开口可以被布置成的形状与所述开口区域的每一个中形成的所述开口可以被布置成的形状可以彼此相同且对称。
[0009]在实施例中，所述图案区域可以位于所述第一侧部上的所述伪开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个伪开口区域之间。
[0010]在实施例中，沉积材料可以不穿过与所述第一侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口以及所述伪开口区域中形成的所述开口。
[0011]在实施例中，所述阻挡杆可以与形成在与所述第一侧部重叠的所述图案区域中的所述开口以及所述伪开口区域中形成的所述开口重叠。
[0012]在实施例中，所述图案区域可以位于所述第二侧部上的所述开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个开口区域之间。
[0013]在实施例中，沉积材料可以穿过与所述第二侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口、所述开口区域中形成的所述开口、以及不与所述第一侧部和所述第二侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口。
[0014]在实施例中，所述图案区域可以围绕所述伪开口区域和所述开口区域的每一个的至少一部分。
[0015]在实施例中，所述掩模组件可以进一步包括设置在所述掩模下面的支撑杆。所述支撑杆各自可以在与所述第一方向正交的第二方向上延伸，并且可以在所述第一方向上彼此间隔开。
[0016]在实施例中，所述支撑杆可以以第一间隔彼此间隔开，并且所述支撑杆可以设置在所述阻挡杆的下面。
[0017]在实施例中，沉积材料可以不穿过与所述支撑杆和所述阻挡杆重叠的所述图案区域中形成的所述开口。
[0018]在实施例中，所述支撑杆中的一个可以延伸以与所述第一侧部上的所述伪开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个伪开口区域之间的部分以及面对该两个伪开口区域的两个开口区域之间的部分重叠。
[0019]在实施例中，所述掩模组件可以进一步包括掩模框架，所述掩模框架设置在所述掩模下面，并且可以紧固到所述阻挡杆的每一个的两侧部和所述支撑杆的每一个的两侧部。所述掩模框架可以具有暴露所述掩模的所述图案区域的开口。
[0020]在实施例中，所述掩模可以进一步包括位于所述图案区域的上部和下部中的固定区域，所述固定区域在所述第一方向上彼此面对，并且所述固定区域的每一个的一部分与所述掩模框架重叠。
[0021]在实施例中，所述掩模可以包括第一至第n个掩模(其中n是大于1的整数)，并且所述第一至第n个掩模中的第k个掩模和第(k+1)个掩模(其中k是大于或等于1且小于n的整数)可以在正交于所述第一方向的第二方向上彼此间隔开。
[0022]在实施例中，所述阻挡杆可以包括第一至第m个阻挡杆(其中m是大于1的整数)，并且所述第一至第m个阻挡杆中的第j个阻挡杆(其中j是大于或等于1且小于或等于m的整数)可以与所述第(k+1)个掩模的所述第一侧部重叠，而不与所述第k个掩模的所述第二侧部重
叠。
[0023]在实施例中，在正交于所述第一方向的第二方向上与所述伪开口区域相邻的所述图案区域的所述开口可以与所述阻挡杆重叠。
[0024]在实施例中，在第二方向上与所述伪开口区域相邻的所述图案区域中可以不形成开口。
[0025]根据一些实施例，掩模组件包括掩模和阻挡杆。所述掩模包括其中形成有开口的图案区域，并且在第一方向上延伸。所述阻挡杆设置在所述掩模下面，并且与所述掩模的第一侧部重叠。所述阻挡杆在所述第一方向上延伸。所述掩模进一步包括伪开口区域和开口区域。所述伪开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部中，并且其中形成有开口。所述开口区域在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，并且分别对应于所述伪开口区域。所述开口区域在其中形成有开口。所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的所述开口的数量小于所述图案区域中的每单位面积的所述开口的数量。所述开口区域中形成的所述开口的每一个的尺寸不同于所述图案区域中形成的所述开口的每一个的尺寸。
[0026]根据本公开的实施例，掩模组件可以包括伪开口区域和围绕伪开口区域的每一个的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模组件，包括：掩模，包括形成有开口的图案区域，所述掩模在第一方向上延伸；和阻挡杆，设置在所述掩模下面，与所述掩模的第一侧部重叠，并且在所述第一方向上延伸，其中所述掩模进一步包括：伪开口区域，在所述第一方向上布置在所述掩模的所述第一侧部上，所述伪开口区域在其中形成有开口；以及开口区域，在所述第一方向上布置在所述掩模的与所述第一侧部相对的第二侧部上，所述开口区域分别对应于所述伪开口区域，所述开口区域在其中形成有开口，并且所述伪开口区域和所述开口区域的每一个中的每单位面积的所述开口的数量小于所述图案区域中的每单位面积的所述开口的数量。2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述伪开口区域的每一个中形成的所述开口的数量等于所述开口区域的每一个中形成的所述开口的数量。3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述伪开口区域的每一个中形成的所述开口被布置成的形状与所述开口区域的每一个中形成的所述开口被布置成的形状彼此相同且对称。4.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述图案区域位于所述第一侧部上的所述伪开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个伪开口区域之间。5.根据权利要求4所述的掩模组件，其中沉积材料不穿过与所述第一侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口以及所述伪开口区域中形成的所述开口。6.根据权利要求4所述的掩模组件，其中所述阻挡杆与形成在与所述第一侧部重叠的所述图案区域中的所述开口以及所述伪开口区域中形成的所述开口重叠。7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述图案区域位于所述第二侧部上的所述开口区域中的在所述第一方向上彼此相邻的两个开口区域之间，其中沉积材料穿过与所述第二侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口、所述开口区域中形成的所述开口、以及不与所述第一侧部和所述第二侧部重叠的所述图案区域中形成的所述开口。8.根据权利要求1所述的掩模...
【专利技术属性】
技术研发人员：金相勋，金宗范，姜延姝，朴钟圣，李相信，李丞赈，郑恩汀，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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