一种遮罩结构制造技术

本实用新型专利技术公布一种遮罩结构，包括掩膜框架和掩膜薄片，所述掩膜薄片的顶部边缘设置在所述掩膜框架的底部上，所述掩膜薄片上设置多个的镂空区域，遮罩结构还包括多个的第一掩膜条和多个的第二掩膜条；多个的第一掩膜条的走向为平行于第一方向，多个的第二掩膜条的走向为平行于第二方向，所述第一方向交叉于所述第二方向，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的两侧端部均设置在掩膜框架的内侧壁上，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的底部均贴合在所述掩膜薄片的顶部上。上述技术方案可以消除掩膜薄片由于重力影响而变形的缺陷，延长掩膜薄片的使用寿命，提高成膜的质量。提高成膜的质量。提高成膜的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种遮罩结构


[0001]本技术涉及蒸镀
，尤其涉及一种遮罩结构。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，缩写OLED)的显示器件具备自发光特性、低功耗、宽视角、响应速度快、超轻超薄、抗震性好等特点，采用薄膜封装技术可实现OLED显示器件的可折叠、可弯折等特点。
[0003]薄膜封装技术(Thin Film Encapsulastion，缩写TFE)，薄膜封装技术是在具有发光器件的衬底上，将有机材料蒸镀后，在发光器件上沉积Barrier layer(隔绝层)和Buffer layer(平坦层)，起到隔绝水氧的作用。其中Barrier layer(隔绝层)多采用PECVD(化学气相沉积)机台来沉积无机薄膜，无机薄膜如氮化硅，其作用是起到阻隔水氧的作用。
[0004]并且每一层无机薄膜层对于基板的垂直投影面积要比前一层无机薄膜层对于基板的垂直面积要大，即后沉积的无机薄膜层的在基板上的投影边缘覆盖在前一层无机薄膜层在基板上的投影边缘。在外部环境中，无机薄膜层有效阻挡了水氧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种遮罩结构，包括掩膜框架和掩膜薄片，所述掩膜薄片的顶部边缘设置在所述掩膜框架的底部上，所述掩膜薄片上设置多个的镂空区域，其特征在于，遮罩结构还包括多个的第一掩膜条和多个的第二掩膜条；多个的第一掩膜条的走向为平行于第一方向，多个的第一掩膜条相互平行，多个的第二掩膜条的走向为平行于第二方向，多个的第二掩膜条相互平行，所述第一方向交叉于所述第二方向，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的两侧端部均设置在掩膜框架的内侧壁上，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的底部均贴合在所述掩膜薄片的顶部上，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条均用于加固掩膜薄片。2.根据权利要求1所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述掩膜框架的内侧壁上设置多个的孔，所述第一掩膜条可拆卸地安装于孔中。3.根据权利要求2所述的一种遮罩结构，其特征在于，所述孔包括依次设置的...

【专利技术属性】
技术研发人员：温质康，乔小平，苏智昱，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：