本发明专利技术的带电粒子束照射装置(10)扫描带电粒子束从而对照射标靶按每个点进行照射，其具备第1剂量监视器(54)、照射图案变换装置(70)以及剂量校正系数存储部(72)，照射图案变换装置被构成为，(i)选择治疗计划数据中的一个点，(ii)将与选择的点对应的、治疗计划数据中的剂量率作为关键字，从剂量校正系数存储部中，获取与剂量率对应的剂量校正系数，通过对与选择的点对应的、治疗计划数据中的剂量的值乘以剂量校正系数，校正与选择的点对应的剂量的值，(iii)对治疗计划数据中的所有点进行(i)及(ii)中记载的处理，(iv)对于剂量，使用对治疗计划数据中的所有点校正了剂量后的数据，来生成照射控制数据。生成照射控制数据。生成照射控制数据。
【技术实现步骤摘要】
带电粒子束照射装置
[0001]本专利技术涉及扫描带电粒子束并对照射标靶按每个点(spot)进行照射(也称为“扫描照射”)。)的带电粒子束照射装置。
技术介绍
[0002]一直以来，进行着对癌变等恶性肿瘤照射以高能量加速的带电粒子束(也称为“粒子线”。)，治疗恶性肿瘤的粒子线治疗。在使用质子束或碳束等带电粒子束的粒子线治疗中，近年来，扫描照射这样的新的照射法受到关注，实施的设施数也正在增加。以往的粒子线治疗的主流是如下的扩大粒子束照射法：将带电粒子束在侧方方向(照射切片(slice)面方向)及行进方向(进深(深度)方向)上变细的粒子束，使用各种照射场形成器具(例如散射体、脊形滤波器、准直器、或患者推注(bolus))，静态地扩大。但是，在扫描照射法中，无需使用这样的照射场形成器具，即可三维地动态地控制带电粒子束来形成照射场，因此期待提高对照射标靶的剂量分布。
[0003]专利文献1公开了如下技术：预先记录根据预先测定的电离箱剂量计的测定算出的吸收剂量与电离箱剂量计的收集效率的关系，基于该记录内容，对根据电离剂量计的测定值算出的吸收剂量进行基于收集效率的校正。
[0004]专利文献2公开了如下技术：针对由剂量监视器的电极的挠曲引起的剂量的测定精度的变差，求出通过与照射对照的照射位置对应的剂量监视器测定的剂量的校正系数，校正剂量监视器的灵敏度，由此能够进行高精度的剂量测定。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献1：日本特开2002
‑
228755号公报
[0007]专利文献2：国际公开第2012/120677号
技术实现思路
[0008]专利技术要解决的课题
[0009]在粒子线治疗中，向患者照射医师等设定的(期望的)剂量是重要的，因此要求高精度地测定所照射的剂量。剂量一般是使用设置在接近照射标靶(患部)的照射口上的、也称为电离箱的剂量监视器来测定的。但是，在基于剂量监视器的带电粒子束的剂量的测定中，由于离子再结合的影响等原因，有时测定精度变差。因此，有时在实际照射在照射标靶上的剂量与通过剂量监视器测定的剂量之间产生差异。
[0010]鉴于这样的情况，本专利技术的目的在于提供一种带电粒子束照射装置，其扫描带电粒子束并对照射标靶按每个点进行照射。
[0011]用于解决课题的手段
[0012]本专利技术包含以下的方式〔1〕～〔3〕。
[0013]〔方式1〕
[0014]一种带电粒子束照射装置，其是扫描带电粒子束从而对照射标靶按每个点进行照
射的带电粒子束照射装置10，具备：
[0015]第1剂量监视器54，设置在照射口50；
[0016]照射图案变换装置70，根据包含按每个点的带电粒子束的剂量率以及剂量的信息的治疗计划数据，来生成用于控制所述带电粒子束照射装置10的照射控制数据；以及
[0017]剂量校正系数存储部72，存储对于带电粒子束的剂量率的剂量校正系数R的数据，
[0018]所述照射图案变换装置70被构成为，
[0019](i)选择所述治疗计划数据中的一个点，
[0020](ii)将与所述选择的点对应的、所述治疗计划数据中的剂量率作为关键字，从所述剂量校正系数存储部72获取与所述剂量率对应的剂量校正系数R，通过对与所述选择的点对应的、所述治疗计划数据中的剂量的值乘以所述剂量校正系数R，校正与所述选择的点对应的剂量的值，
[0021](iii)对所述治疗计划数据中的所有点进行所述(i)及(ii)中记载的处理，
[0022](iv)对于剂量，使用对所述治疗计划数据中的所有点校正了剂量后的数据，来生成照射控制数据，
[0023]所述带电粒子束照射装置校正由所述第1剂量监视器中的离子再结合的影响引起的、照射标靶接受到的实际的剂量与由所述第1剂量监视器测定的剂量之间的差异。
[0024]〔方式2〕
[0025]方式1中记载的带电粒子束照射装置，其中，
[0026]所述治疗计划数据包含每个点的带电粒子束的能量、剂量率、以及粒子束尺寸和点位置的信息，
[0027]所述剂量校正系数存储部72存储对于带电粒子束的能量、剂量率以及粒子束尺寸的组合的剂量校正系数R1的数据、和对于点位置的剂量校正系数R2的数据，
[0028]所述照射图案变换装置70
[0029](i)选择所述治疗计划数据中的一个点，
[0030](ii)将与所述选择的点对应的、所述治疗计划数据中的带电粒子束的能量、剂量率以及粒子束尺寸作为关键字，从所述剂量校正系数存储部72中获取对应的剂量校正系数R1，
[0031](iii)将与所述选择的点对应的、所述治疗计划数据中的点位置作为关键字，从所述剂量校正系数存储部72中获取对应的剂量校正系数R2，
[0032](iv)通过将与所述选择的点对应的、所述治疗计划数据中的剂量的值分别乘以在所述(ii)以及所述(iii)的处理中获取的剂量校正系数R1、R2，校正与所述选择的点对应的剂量的值，
[0033](v)对所述治疗计划数据中的所有点进行所述(i)～(iv)中记载的处理，
[0034](vi)关于剂量，使用对所述治疗计划数据中的所有点校正了剂量后的数据，来生成照射控制数据。
[0035]〔方式3〕
[0036]方式1或2中所述的带电粒子束照射装置，其中，
[0037]所述带电粒子束照射装置还具备：
[0038]第2剂量监视器55，设置在所述照射口50内；以及
[0039]剂量监视器输出校正系数存储部74，存储用于校正对于带电粒子束的能量的所述第2剂量监视器55的输出的输出校正系数的数据，
[0040]所述第2剂量监视器55与所述第1剂量监视器54相比配置在更靠下游侧，
[0041]所述第2剂量监视器55测定的剂量值是按每个点乘以与在剂量监视器输出校正系数存储部74中存储的带电粒子束的能量对应的输出校正系数来被校正的。
[0042]专利技术的效果
[0043]本专利技术的一实施方式的带电粒子束照射装置使用保存有与剂量率对应的剂量校正系数的校正系数，在用剂量校正系数来校正每个点的剂量的基础上，进行带电粒子束的照射。因此，能够防止或降低实际照射在照射标靶上的剂量与通过剂量监视器测定的剂量之间的差异。
附图说明
[0044]图1是第1实施方式的带电粒子束照射装置的概略结构图。
[0045]图2(a)至图2(b)是照射口和扫描照射的概要图。
[0046]图3(a)至图3(b)是表示剂量率与剂量监视器的剂量以及实际的剂量的关系的曲线图。
[0047]图4是第1实施方式的粒子线治疗的流程图。
[0048]图5(a)至图5(b)是表示电荷密度与能量以及粒子束尺寸的关系的曲线图。
[0049]图6(a)至图6(b)是电离箱的概略剖面图、以及表示剂量监视器的输出和电极间距离d的关系的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带电粒子束照射装置，其是扫描带电粒子束从而对照射标靶按每个点进行照射的带电粒子束照射装置(10)，具备：第1剂量监视器(54)，设置在照射口(50)；照射图案变换装置(70)，根据包含按每个点的带电粒子束的剂量率以及剂量的信息的治疗计划数据，来生成用于控制所述带电粒子束照射装置(10)的照射控制数据；以及剂量校正系数存储部(72)，存储对于带电粒子束的剂量率的剂量校正系数R的数据，所述照射图案变换装置(70)被构成为，(i)选择所述治疗计划数据中的一个点，(ii)将与选择的所述点对应的、所述治疗计划数据中的剂量率作为关键字，从所述剂量校正系数存储部(72)获取与所述剂量率对应的剂量校正系数R，对与选择的所述点对应的、所述治疗计划数据中的剂量的值乘以所述剂量校正系数R，从而校正与选择的所述点对应的剂量的值，(iii)对所述治疗计划数据中的所有点进行所述(i)及(ii)中记载的处理，(iv)对于剂量，使用对所述治疗计划数据中的所有点校正了剂量后的数据，来生成照射控制数据，所述带电粒子束照射装置校正由所述第1剂量监视器中的离子再结合的影响引起的、照射标靶接受到的实际的剂量与由所述第1剂量监视器测定的剂量之间的差异。2.根据权利要求1所述的带电粒子束照射装置，其中，所述治疗计划数据包含每个点的带电粒子束的能量、剂量率、以及粒子束尺寸和点位置的信息，所述剂量校正系数存储部(72)存储对于带电粒子束的能量、剂量率以及粒子束尺寸的组合的剂量校正系数R...
【专利技术属性】
技术研发人员：丹正亮平，泷庆晓，古川卓司，原洋介，
申请(专利权)人：株式会社B点医疗，
类型：发明
国别省市：
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