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一种低银铜基电接触材料制造技术

技术编号:3145083 阅读:186 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种低银铜基电接触材料,其特点是还包括有稀土元素铈,其化学成分(重量%)为:银10~20%,导电陶瓷1~15%,氧化镓1~10%,氧化铟1~10%,氧化镍1~5%,铜余量。本发明专利技术的电阻率低、导热和导电性好、触头接触电阻小而稳定、抗氧化能力强,具有优异的抗电烧蚀和抗熔焊能力,并且大幅度降低了银的用量,可节约大量贵重金属。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电接触材料,特别涉及一种低银铜基电接触材料,属于 电工材料

技术介绍
电触头是中低压电器的关键元件之一,目前,电接触元件制造材料以银 基电接触材料为主,主要有银一金属氧化物、银基假合金、银基合金三大类。 银具有高导电性、高导热性和良好的机械加工性,在大气条件下不氧化,能 保持低而稳定的接触电阻等性质。但是银是昂贵的贵金属,资源紧缺,而在银基电接触材料中含银量高达60—95%,是电器工业中耗银量最大的地方。 近几年来银价上涨迅猛,给电器制造业带来很大压力。为了降低成本,减少银 的消耗量,研究开发价格便宜,性能可靠的电接触材料具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的上述不足,对现有银基电接触材料的 组成做了改进,给出了一种低银铜基电接触材料,该铜基电接触材料的电阻 率低、导热和导电性好、触头接触电阻小而稳定、抗氧化能力强,具有优异 的抗电烧蚀和抗熔焊能力,并且大幅度降低了银的用量,可节约大量贵重金 属。本专利技术给出的技术解决方案是:这种低银铜基电接触材料,其特点是还 包括有稀土元素铈,其化学成分(重量%)为银10 20%,导电陶瓷1 15%,氧化镓1 10%,氧化铟1 10%,氧化镍1 5%,铜余量.其中导电陶瓷的组成与现有技术的相同。本专利技术给出的这种低银铜基电接触材料的制备方法,可由含上述组分的 中间合金熔炼制成,对所采用的生产方法无特别限制。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是电阻率低、导热和导电性好、 触头接触电阻小而稳定、抗氧化能力强,具有优异的抗电烧蚀和抗熔焊能力, 并且大幅度降低了银的用量,可节约大量贵重金属。具体实施方式 实施例采用感应炉法冶炼产出的低银铜基电接触材料的化学成分(重量%)为 银15%,导电陶瓷8%,氧化镓5%,氧化铟5%, 氧化镍2.5%,铜余量.本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低银铜基电接触材料,其特征在于还包括有稀土元素铈,其化学成分(重量%)为: 银10~20%,导电陶瓷1~15%,氧化镓1~10%, 氧化铟1~10%,氧化镍1~5%,铜余量。

【技术特征摘要】
1. 一种低银铜基电接触材料,其特征在于还包括有稀土元素铈,其化学成分(重量%)为银10...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨军
申请(专利权)人:杨军
类型:发明
国别省市:89[中国|沈阳]

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