一种清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及显示面板制造技术领域，公开了一种清洗装置，该清洗装置包括清洗槽、电源和控温机构，清洗槽中盛装有清洗液，待清洗件的待清洗部分浸没于清洗液中；电源的阴极与待清洗件电连接，至少部分电源的阳极浸没于清洗液中，接通电源，清洗液能够电离并产生大量气体，从而带离待清洗部分上附着的污染物；控温机构用于控制清洗槽内清洗液的温度。该清洗装置能够控制清洗过程中的温度，从而对待清洗件进行保护，避免清洗过程中温度累积升高对待清洗件造成损伤。清洗件造成损伤。清洗件造成损伤。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置


[0001]本技术涉及显示面板制造
，尤其涉及一种清洗装置。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机发光二极管)是近年发展起来的显示技术，其利用多层有机薄膜结构电致发光。OLED面板具有轻薄、亮度高、功耗低、响应快、清晰度高、柔性好、发光效率高的优点，拥有广泛的应用前景。其中，AMOLED(Active
‑
Matrix Organic Light
‑
Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管)具有呈阵列式排布的像素，发光效能高，常用于高清晰度的大尺寸显示装置。
[0003]现有的AMOLED显示面板量产的主流方法是真空蒸镀，其中需要使用掩膜版蒸镀形成有机发光层。随着使用时间和蒸镀次数的增加，有机材料、灰尘等污染物会累积附着在掩膜版表面及掩膜版的蒸镀孔中，影响有机发光层的形成，进而影响显示面板的生产良率和成本。因此，在生产时,掩膜版在数次蒸镀后都需要进行清洗。常用的掩膜版清洗方法为通过电解清洗液产生大量气体，气体将掩膜版上的污染物带离，从而达到清洗掩膜版的目的。然而，掩膜版清洗的过程中会产生热量，热量累积会使得清洗液温度升高，损伤掩膜版，进而影响AMOLED显示面板的加工质量和加工成本。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种清洗装置，其能够控制清洗过程中的温度，从而保护待清洗件，清洗效果好。
[0005]为此，本技术采用以下技术方案：r/>[0006]一种清洗装置，包括：
[0007]清洗槽，所述清洗槽中盛装有清洗液，待清洗件的待清洗部分浸没于所述清洗液中；
[0008]电源，所述电源的阴极与所述待清洗件电连接，至少部分所述电源的阳极浸没于所述清洗液中，接通所述电源，所述清洗液能够电离并产生大量气体，从而带离所述待清洗部分上附着的污染物；
[0009]控温机构，用于控制所述清洗槽内所述清洗液的温度。
[0010]作为一种清洗装置的优选方案，所述控温机构包括：
[0011]制冷组件；
[0012]热交换器，浸没于所述清洗液中，所述热交换器的两端分别与所述制冷组件的进水口和出水口相连通。
[0013]作为一种清洗装置的优选方案，所述控温机构还包括温度开关，所述温度开关浸没于所述清洗槽的所述清洗液中，所述温度开关与所述制冷组件电连接，以控制所述制冷组件启动或停止。
[0014]作为一种清洗装置的优选方案，所述清洗装置还包括循环过滤机构，所述循环过
滤机构的两端分别与所述清洗槽的上部和所述清洗槽的底部相连通，以使所述清洗槽中的清洗液能够由所述清洗槽的上部流入所述循环过滤机构，并由所述清洗槽的底部流入所述清洗槽。
[0015]作为一种清洗装置的优选方案，所述循环过滤机构包括：
[0016]缓存槽，所述缓存槽与所述清洗槽的上部相连通；
[0017]循环管路，所述循环管路的两端分别与所述缓存槽和所述清洗槽的底部相连通；
[0018]循环驱动组件，设置于所述循环管路上，以驱动所述循环管路中的所述清洗液流动；
[0019]循环过滤组件，设置于所述循环管路上，以对所述循环管路中的所述清洗液进行过滤。
[0020]作为一种清洗装置的优选方案，所述清洗装置还包括排风机构，所述排风机构与所述清洗槽的上部连通，以排出所述清洗槽内的气体。
[0021]作为一种清洗装置的优选方案，所述清洗装置还包括溢流保护机构，所述溢流保护机构的一端与所述清洗槽的上部相连通，所述清洗槽中的所述清洗液能够由所述溢流保护机构流出。
[0022]作为一种清洗装置的优选方案，所述清洗装置还包括进液机构，所述进液机构与所述清洗槽相连通，用于向所述清洗槽中通入所述清洗液。
[0023]作为一种清洗装置的优选方案，所述清洗装置还包括排液机构，所述排液机构与所述清洗槽相连通，用于排出所述清洗槽中的所述清洗液。
[0024]作为一种清洗装置的优选方案，所述排液机构包括：
[0025]排液管路，所述排液管路的一端与所述清洗槽的底部相连通，另一端与外部回收处理装置相连通；
[0026]承接盘，设置于所述排液管路与所述外部回收处理装置连接处的下方；
[0027]漏液传感器，用于对所述排液管路与所述回收处理装置的连接处的漏液进行检测。
[0028]本技术的有益效果：
[0029]本技术提出的清洗装置，能够通过控温机构控制清洗槽中清洗液的温度，避免清洗过程中产生的热量累积引起清洗液温度上升损伤掩膜版，从而对待清洗件进行保护，清洗效果好。
附图说明
[0030]图1是本技术实施例提供的清洗装置的示意图；
[0031]图2是本技术实施例提供的清洗槽的结构示意图；
[0032]图3是本技术实施例提供的待清洗件和阳极网板的结构示意图；
[0033]图4是本技术实施例提供的支撑组件的结构示意图。
[0034]图中：
[0035]1‑
清洗槽；11
‑
循环口；
[0036]21
‑
阴极；22
‑
阳极网板；
[0037]23
‑
支撑组件；231
‑
侧部支撑结构；232
‑
底部支撑结构；
[0038]3‑
控温机构；31
‑
制冷组件；32
‑
热交换器；
[0039]4‑
循环过滤机构；
[0040]41
‑
缓存槽；411
‑
第一槽；412
‑
第二槽；
[0041]42
‑
循环驱动组件；43
‑
循环流量传感器；
[0042]5‑
排风机构；51
‑
排风阀门；52
‑
差压表；
[0043]6‑
溢流保护机构；
[0044]7‑
进液机构；71
‑
进液过滤组件；
[0045]8‑
排液机构；
[0046]91
‑
手动阀门；92
‑
气动阀门；
[0047]100
‑
待清洗件。
具体实施方式
[0048]为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本技术实施例的技术方案作进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0049]如图1
‑
图4所示，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽(1)，所述清洗槽(1)中盛装有清洗液，待清洗件(100)的待清洗部分浸没于所述清洗液中；电源，所述电源的阴极(21)与所述待清洗件(100)电连接，至少部分所述电源的阳极浸没于所述清洗液中，接通所述电源，所述清洗液能够电离并产生大量气体，从而带离所述待清洗部分上附着的污染物；控温机构(3)，用于控制所述清洗槽(1)内所述清洗液的温度。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述控温机构(3)包括：制冷组件(31)；热交换器(32)，浸没于所述清洗液中，所述热交换器(32)的两端分别与所述制冷组件(31)的进水口和出水口相连通。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述控温机构(3)还包括温度开关，所述温度开关浸没于所述清洗槽(1)的所述清洗液中，所述温度开关与所述制冷组件(31)电连接，以控制所述制冷组件(31)启动或停止。4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括循环过滤机构(4)，所述循环过滤机构(4)的两端分别与所述清洗槽(1)的上部和所述清洗槽(1)的底部相连通，以使所述清洗槽(1)中的清洗液能够由所述清洗槽(1)的上部流入所述循环过滤机构(4)，并由所述清洗槽(1)的底部流入所述清洗槽(1)。5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述循环过滤机构(4)包括：缓存槽(41)，所述缓存槽(41)与所述清洗槽(1)的上部相连通；循环管...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈宗豪，施利君，宋金林，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：