真空镀膜装置制造方法及图纸

一种真空镀膜装置，包括真空腔室、蒸镀源、旋转机构、承载板以及用于遮挡蒸镀物质的修正支架和遮蔽组件，蒸镀源设置于真空腔室的底部，真空腔室的顶部固定连接有固定轴，旋转机构可转动连接于固定轴，承载板可拆装地连接于旋转机构，承载板用于固定待蒸镀的基片，修正支架与承载板相对设置，修正支架固定连接于固定轴，遮蔽组件固定于真空腔室的腔壁，遮蔽组件位于承载板的下方。本实用新型专利技术的真空镀膜装置能够生产均匀、稳定的渐变色膜片。稳定的渐变色膜片。稳定的渐变色膜片。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜装置


[0001]本技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜装置。

技术介绍

[0002]现有的真空镀膜装置主要分为蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜两大类，其中蒸发沉积镀膜一般通过加热蒸发源，使蒸发源中的物质以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在需要镀膜的基片表面，通过成膜过程(散点
‑
岛状结构
‑
迷走结构
‑
层状生长)形成膜片。
[0003]但是，蒸发源蒸发出的原子团或离子在真空镀膜装置中的真空腔室内分布不均匀，导致沉降在基片各部位的表面的原子团或离子的厚度不同；并且，基片与蒸发源之间没有有效的修正装置，容易造成基片各部位的表面的颜色跳跃过大。无法制成均匀、稳定的渐变色膜片。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术提供一种真空镀膜装置,能够生产均匀、稳定的渐变色膜片。
[0005]一种真空镀膜装置，包括真空腔室、蒸镀源、旋转机构、承载板以及用于遮挡蒸镀物质的修正支架和遮蔽组件，蒸镀源设置于真空腔室的底部，真空腔室的顶部固定连接有固定轴，旋转机构可转动连接于固定轴，承载板可拆装地连接于旋转机构，承载板用于固定待蒸镀的基片，修正支架与承载板相对设置，修正支架固定连接于固定轴，遮蔽组件固定于真空腔室的腔壁，遮蔽组件位于承载板的下方。
[0006]在本技术的实施例中，上述遮蔽组件包括支撑件、第一挡板和第二挡板，所述支撑件的一端固定于所述真空腔室的腔壁，所述支撑件的另一端向着所述固定轴延伸，所述第一挡板与所述第二挡板相互间隔地固定于所述支撑件。
[0007]在本技术的实施例中，上述修正支架包括多个遮挡叶片，多个所述遮挡叶片绕着所述固定轴相互间隔设置，所述第一挡板、所述第二挡板与各所述遮挡叶片相互错开。
[0008]在本技术的实施例中，上述第一挡板、所述第二挡板均呈六边形，所述第一挡板与所述第二挡板的面积不同。
[0009]在本技术的实施例中，上述遮蔽组件还包括第一扩展板和第二扩展板，所述第一扩展板可转动地连接于所述第一挡板的侧边，所述第一扩展板可绕着连接处转动至堆叠在所述第一挡板上，或者，所述第一扩展板可绕着连接处转动至平行于所述第一挡板；所述第二扩展板可转动地连接于所述第二挡板的侧边，所述第二扩展板可绕着连接处转动至堆叠在所述第二挡板上，或者，所述第二扩展板可绕着连接处转动至平行于所述第二挡板。
[0010]在本技术的实施例中，上述支撑件包括第一支撑段、第二支撑段与第三支撑段，所述第一支撑段的一端固定连接于所述真空腔室的腔壁，所述第一支撑段的另一端通过第一转动结构与所述第二支撑段连接，所述第一支撑段与所述第二支撑段可通过所述第一转动结构调节相互之间的角度，所述第二支撑段的远离所述第一支撑段的端部通过第二
转动结构与所述第三支撑段连接，所述第二支撑段与所述第三支撑段可通过所述第二转动结构调节相互之间的角度。
[0011]在本技术的实施例中，上述第一支撑段与所述第二支撑段形成夹角，所述夹角大于0
°
小于180
°
。
[0012]在本技术的实施例中，上述旋转机构包括驱动电机和旋转盖，所述驱动电机固定在所述真空腔室上，所述驱动电机与所述旋转盖连接，所述固定轴穿过所述旋转盖设置，所述驱动电机可驱使所述旋转盖绕着所述固定轴转动。
[0013]在本技术的实施例中，上述承载板上多个固定孔，所述基片上通过固定柱与所述固定孔配合固定在所述承载板上。
[0014]在本技术的实施例中，上述真空镀膜装置包括多个所述承载板，多个所述承载板组合呈伞状。
[0015]本技术的真空镀膜装置在进行镀制作业时，蒸镀源将蒸镀物质蒸发后上升至基片表面的过程中，蒸镀物质经过遮蔽租件较宽的地方，蒸镀物质会被遮挡的较多，此时，基片的部分表面接受到的蒸镀物质较少，因此，基片此部分颜色会稍浅；当蒸镀物质经过遮蔽件较窄的地方，蒸镀物质被遮挡掉的较少，此时，基片的部分表面接受到的蒸镀物质较多，因此，基片此部分的颜色会稍深；并且，当基片接收到的蒸镀物质明显不均匀时，通过控制旋转机构的旋转速度，再配合修正板将多余的蒸镀物质沉积到修正板上，最终得到均匀、稳定的渐变色膜片。
附图说明
[0016]图1是本技术的真空镀膜装置的局部剖视结构示意图。
[0017]图2是本技术的遮挡叶片的放大结构示意图。
[0018]图3是本技术的遮蔽组件的放大结构示意图。
[0019]图4是本技术的承载板的放大结构示意图。
具体实施方式
[0020]图1是本技术的真空镀膜装置的局部剖视结构示意图，图2是本技术的遮挡叶片的放大结构示意图，图3是本技术的遮蔽组件的放大结构示意图，图4是本技术的的承载板的放大结构示意图，请参照图1至图4，真空镀膜装置包括真空腔室101、蒸镀源11、旋转机构12、承载板13以及用于遮挡蒸镀物质的修正支架14和遮蔽组件15，蒸镀源11设置于真空腔室101的底部，真空腔室101的顶部固定连接有固定轴16，旋转机构12可转动连接于固定轴16，承载板13可拆装地连接于旋转机构12，承载板13用于固定待蒸镀的基片，修正支架14与承载板13相对设置，修正支架14固定连接于固定轴16，遮蔽组件15固定于真空腔室101的腔壁，遮蔽组件15位于承载板13的下方。在本实施例中，旋转机构12呈伞架状。
[0021]本技术的真空镀膜装置在进行镀制作业时，蒸镀源11将蒸镀物质蒸发后上升至基片表面的过程中，蒸镀物质经过遮蔽组件15较宽的地方，蒸镀物质会被遮挡的较多，此时，基片的部分表面接受到的蒸镀物质较少，因此，基片此部分颜色会稍浅；当蒸镀物质经过遮蔽组件15较窄的地方，蒸镀物质被遮挡掉的较少，此时，基片的部分表面接受到的蒸镀
物质较多，因此，基片此部分的颜色会稍深；并且，当基片接收到的蒸镀物质明显不均匀时，通过控制旋转机构12的旋转速度，再配合遮蔽组件15将多余的蒸镀物质沉积到修正支架14上，最终得到均匀、稳定的渐变色膜片。
[0022]进一步地，如图3所示，遮蔽组件15包括支撑件151、第一挡板152和第二挡板153，支撑件151的一端固定于真空腔室101的腔壁，支撑件151的另一端向着固定轴16延伸，第一挡板152与第二挡板153相互间隔地固定于支撑件151。在本实施例中，第一挡板152靠近真空腔室101的腔壁，第二挡板153远离真空腔室101的腔壁，第一挡板152与第二挡板153通过螺栓(图未示)和螺孔(图未示)配合固定于支撑件151上。
[0023]进一步地，真空腔室101的腔壁设有固定支架17，遮蔽组件15与固定支架17可拆卸式连接，方便遮蔽组件15拆卸清洗和更换。在本实施例中，遮蔽组件15通过螺栓(图未示)与螺孔(图未示)配合固定于固定支架17上。
[0024]进一步地，如图1和图2所示，修正支架14包括多个遮挡叶片141，多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括真空腔室、蒸镀源、旋转机构、承载板以及用于遮挡蒸镀物质的修正支架和遮蔽组件，所述蒸镀源设置于所述真空腔室的底部，所述真空腔室的顶部固定连接有固定轴，所述旋转机构可转动连接于所述固定轴，所述承载板可拆装地连接于所述旋转机构，所述承载板用于固定待蒸镀的基片，所述修正支架与所述承载板相对设置，所述修正支架固定连接于所述固定轴，所述遮蔽组件固定于所述真空腔室的腔壁，所述遮蔽组件位于所述承载板的下方。2.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述遮蔽组件包括支撑件、第一挡板和第二挡板，所述支撑件的一端固定于所述真空腔室的腔壁，所述支撑件的另一端向着所述固定轴延伸，所述第一挡板与所述第二挡板相互间隔地固定于所述支撑件。3.如权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述修正支架包括多个遮挡叶片，多个所述遮挡叶片绕着所述固定轴相互间隔设置，所述第一挡板、所述第二挡板与各所述遮挡叶片相互错开。4.如权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一挡板、所述第二挡板均呈六边形，所述第一挡板与所述第二挡板的面积不同。5.如权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述遮蔽组件还包括第一扩展板和第二扩展板，所述第一扩展板可转动地连接于所述第一挡板的侧边，所述第一扩展板可绕着连接处转动至堆叠在所述第一挡板上，或者，所述第一扩展板可绕着连接处转动至平行于所述第一挡板；所述第二扩展板可...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁杰，张尚高，
申请(专利权)人：东莞市华誉光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：