一种衰减滤光锥镜制造技术

技术编号:31434768 阅读:33 留言:0更新日期:2021-12-15 15:55
本申请涉及一种衰减滤光锥镜,涉及光学镜片的领域,包括锥镜本体、二氧化硅保护膜以及抗污膜,二氧化硅保护膜涂敷在锥镜本体的外表面,抗污膜涂敷在二氧化硅保护膜背离锥镜本体的一侧,本申请具有镜片使用寿命的效果。本申请具有镜片使用寿命的效果。本申请具有镜片使用寿命的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种衰减滤光锥镜


[0001]本申请涉及光学镜片的领域,尤其是涉及一种衰减滤光锥镜。

技术介绍

[0002]目前,现有的照相机、摄影机、摄像机、数码器材等拍摄录影设备内都会使用到光学镜片,随着科技水平发展,人们对相机类数码产品的品质要求逐渐提高,从而对光学镜片的要求和标准越来越高;为了达到某些拍摄效果,光学镜片表面会镀有一些具有特定功能的膜,比如用于防反射膜、增透膜以及光谱遮断膜,这些膜往往是光学镜片的昂贵所在,而这些膜在长期暴露在外界情况下容易被自然界中的水、空气或是灰尘等因素侵蚀,导致这些功能性镀膜损坏,从而影响光学镜片的使用寿命。

技术实现思路

[0003]为了实现提高对镜片使用寿命的目的,本申请提供一种衰减滤光锥镜。
[0004]本申请提供的一种衰减滤光锥镜采用如下的技术方案:
[0005]一种衰减滤光锥镜,包括锥镜本体、二氧化硅保护膜以及抗污膜,所述二氧化硅保护膜涂敷在锥镜本体的外表面,所述抗污膜涂敷在二氧化硅保护膜背离锥镜本体的一侧。
[0006]通过采用上述技术方案,由于二氧化硅具有良好的硬度和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衰减滤光锥镜,其特征在于:包括锥镜本体(1)、二氧化硅保护膜(12)以及抗污膜(13),所述二氧化硅保护膜(12)涂敷在锥镜本体(1)的外表面,所述抗污膜(13)涂敷在二氧化硅保护膜(12)背离锥镜本体(1)的一侧。2.根据权利要求1所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述抗污膜(13)为高透防指纹AF膜。3.根据权利要求1所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述抗污膜(13)和二氧化硅保护膜(12)之间设置有导电膜(14)。4.根据权利要求1所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述锥镜本体(1)的圆周面上设置有凸块(11),所述凸块(11)上设置有保护壳(2)。5.根据权利要求4所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述保护壳(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:王新伟黄海洋陈萩林
申请(专利权)人:南京东可达光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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