一种衰减滤光锥镜制造技术

技术编号:31434768 阅读:17 留言:0更新日期:2021-12-15 15:55
本申请涉及一种衰减滤光锥镜,涉及光学镜片的领域,包括锥镜本体、二氧化硅保护膜以及抗污膜,二氧化硅保护膜涂敷在锥镜本体的外表面,抗污膜涂敷在二氧化硅保护膜背离锥镜本体的一侧,本申请具有镜片使用寿命的效果。本申请具有镜片使用寿命的效果。本申请具有镜片使用寿命的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种衰减滤光锥镜


[0001]本申请涉及光学镜片的领域,尤其是涉及一种衰减滤光锥镜。

技术介绍

[0002]目前,现有的照相机、摄影机、摄像机、数码器材等拍摄录影设备内都会使用到光学镜片,随着科技水平发展,人们对相机类数码产品的品质要求逐渐提高,从而对光学镜片的要求和标准越来越高;为了达到某些拍摄效果,光学镜片表面会镀有一些具有特定功能的膜,比如用于防反射膜、增透膜以及光谱遮断膜,这些膜往往是光学镜片的昂贵所在,而这些膜在长期暴露在外界情况下容易被自然界中的水、空气或是灰尘等因素侵蚀,导致这些功能性镀膜损坏,从而影响光学镜片的使用寿命。

技术实现思路

[0003]为了实现提高对镜片使用寿命的目的,本申请提供一种衰减滤光锥镜。
[0004]本申请提供的一种衰减滤光锥镜采用如下的技术方案:
[0005]一种衰减滤光锥镜,包括锥镜本体、二氧化硅保护膜以及抗污膜,所述二氧化硅保护膜涂敷在锥镜本体的外表面,所述抗污膜涂敷在二氧化硅保护膜背离锥镜本体的一侧。
[0006]通过采用上述技术方案,由于二氧化硅具有良好的硬度和化学稳定性,有利于提高锥镜本体的强度和耐磨性能,有利于减少锥镜本体在正常使用过程中,由于擦拭次数增多而导致磨损的情况,锥镜本体与外界分隔开,有利于减少锥镜本体长时间暴露在空气中,使得锥镜本体上原先涂敷的一些光学材料出现氧化分解的情况,从而影响使用效果,涂敷二氧化硅保护膜有利于延长锥镜本体的使用寿命。
[0007]可选的,所述抗污膜为高透防指纹AF膜。
[0008]通过采用上述技术方案,高透防指纹AF膜具有良好的防油、防灰尘特性,并具有高清高透特性,减少锥镜本体在正常使用过程中由于手指误碰而导致留下手指油脂和灰尘的情况,从而降低了锥镜本体出现发霉的情况。
[0009]可选的,所述抗污膜和二氧化硅保护膜之间设置有导电膜。
[0010]通过采用上述技术方案,由于高透防指纹AF膜本身具有一定的导电性,再通过导电膜在锥镜本体表面形成导电层,降低表面电阻,从而使得高透防指纹AF膜产生的静电荷迅速泄露,实现锥镜本体表面防静电的效果,有利于减少锥镜本体表面吸附灰尘的情况。
[0011]可选的,所述锥镜本体的圆周面上设置有凸块,所述凸块上设置有保护壳。
[0012]通过采用上述技术方案,操作者在锥镜本体的圆周面设置保护壳,减少锥镜本体在安装时直接与载体摩擦或磕碰,而导致锥镜本体表面磨损的情况。
[0013]可选的,所述保护壳包括上壳体和下壳体,且上壳体和下壳体之间通过螺钉连接,所述下壳体上固定连接有安装环,所述上壳体位于安装环内。
[0014]通过采用上述技术方案,上壳体和下壳体通过螺钉实现可拆卸连接,方便操作者对壳体的安装和更换。
[0015]可选的,所述上壳体和下壳体朝向锥镜本体的一侧均设置有缓冲组件。
[0016]通过采用上述技术方案,通过缓冲组件减少壳体对锥镜本体的磨损,并提高锥镜本体在保护壳内的安装稳定性。
[0017]可选的,所述缓冲组件包括橡胶垫和弹性片,所述弹性片嵌设在橡胶垫内,所述橡胶垫贴合在锥镜本体边缘。
[0018]通过采用上述技术方案,安装壳体时橡胶垫发生弹性形变并抵紧在锥镜本体上,提高锥镜本体安装稳定性;弹性片有利于提高橡胶垫的弹性效果,在镜片内磕碰时能够起到缓冲作用。
[0019]可选的,两个所述橡胶垫朝向锥镜本体一侧设置有螺纹凸起。
[0020]通过采用上述技术方案,螺纹凸起一方面有利于提高橡胶垫与锥镜本体之间的摩擦力,另一方面起到良好的密封效果,减少保护壳内进入灰尘的情况。
[0021]综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
[0022]1.二氧化硅将锥镜本体与外界分隔开,减少外界空气和水分对锥镜本体的侵蚀,且二氧化硅本身的高硬度特性,可以减少锥镜本体正常使用过程中出现磨损的情况,从而提高了锥镜本体与使用寿命;
[0023]2.通过在锥镜本体的凸块上安装保护壳,有利于减少锥镜本体因为磕碰导致磨损的情况,操作者可通过将锥镜本体连同保护壳一起装在载体上,减少载体与锥镜本体的直接接触,有利于进一步减少锥镜本体磨损的情况。
附图说明
[0024]图1是本申请实施例的整体结构示意图。
[0025]图2是图1中A部分的放大示意图。
[0026]图3是本申请实施例用于体现螺钉位置的剖视图。
[0027]图4是图3中B部分的放大示意图。
[0028]附图标记说明:1、锥镜本体;11、凸块;12、二氧化硅保护膜;13、抗污膜;14、导电膜;2、保护壳;21、螺钉;22、上壳体;23、第一凹槽;24、下壳体;25、第二凹槽;26、安装环;3、缓冲组件;31、橡胶垫;32、弹性片;33、螺纹凸起。
具体实施方式
[0029]以下结合附图1

4对本申请作进一步详细说明。
[0030]本申请实施例公开一种衰减滤光锥镜。如图1,衰减滤光锥镜包括锥镜本体1,该锥镜本体1应用于相机内,锥镜本体1沿自身轴线方向的一侧为平面,另外一侧为锥面,且锥镜本体1的圆周面上一体成型由圆环形凸块11,锥镜本体1采用中灰密度镜的材质,该光学玻璃材料唯一的作用就是能够削弱进入照相机的光量,实现在极端高光环境下相机的正常拍摄的目的。
[0031]如图2,锥镜本体1的外表面上设置有若干光学涂层,若干光学涂层外镀有一层二氧化硅保护膜12,二氧化硅保护膜12本身具有良好的硬度特性、防水性以及化学稳定性,一方面使得锥镜本体1在使用过程中不易划伤,另一方面将锥镜本体1表面的光学涂层与外界完全分隔开,从而减少水或氧气对光学涂层的侵蚀,减少光学涂层的出现氧化分解,或者出
现霉变的情况,有利于提高了锥镜本体1的使用寿命。
[0032]二氧化硅保护膜12背离锥镜本体1的一侧镀有一层导电膜14,根据静电原理,因为摩擦或者各种能量导致物体表面产生静电荷,从而引发的静电现象,通过导电膜14的导电性能将产生的静电荷迅速释放掉,从而缓解静电吸附灰尘影响锥镜本体1正常使用的情况。
[0033]导电膜14背离二氧化硅保护膜12一侧镀有一层抗污膜13,抗污膜13为高透防指纹AF膜,由于高透防指纹AF膜具有良好的防油防灰特性,可以减少锥镜本体1在正常使用过程中因为人手触碰而导致锥镜本体1上粘附油脂和灰尘的情况;高透防指纹AF膜具有良好的透光性,有利于减少镀膜后对锥镜本体1透光性能产生的影响;此外高透防指纹AF膜具有良好的耐磨性,减少使用者在擦拭锥镜本体1上产生划痕,而影响正常使用的情况;此外高透防指纹AF膜还具有一定的导电性,与导电膜14相配合降低锥镜本体1产生静电的情况。
[0034]如图2和图3,凸块11上设置有保护壳2,保护壳2包括设置在凸块11靠近锥镜本体1锥面一侧的圆环形上壳体22,上壳体22朝向凸块11一侧开设有第一凹槽23,且凸块11部分位于第一凹槽23内;凸块11背离锥镜本体1锥面一侧设置本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衰减滤光锥镜,其特征在于:包括锥镜本体(1)、二氧化硅保护膜(12)以及抗污膜(13),所述二氧化硅保护膜(12)涂敷在锥镜本体(1)的外表面,所述抗污膜(13)涂敷在二氧化硅保护膜(12)背离锥镜本体(1)的一侧。2.根据权利要求1所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述抗污膜(13)为高透防指纹AF膜。3.根据权利要求1所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述抗污膜(13)和二氧化硅保护膜(12)之间设置有导电膜(14)。4.根据权利要求1所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述锥镜本体(1)的圆周面上设置有凸块(11),所述凸块(11)上设置有保护壳(2)。5.根据权利要求4所述的一种衰减滤光锥镜,其特征在于:所述保护壳(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:王新伟黄海洋陈萩林
申请(专利权)人:南京东可达光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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