【技术实现步骤摘要】
一种容置槽及镀膜载板
[0001]本申请涉及太阳能电池制备
,尤其涉及一种容置槽及镀膜载板。
技术介绍
[0002]PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,等离子体增强化学气相沉积)是制备太阳能电池过程中常用的一种镀膜技术,使用这种工艺时,会需要用到特殊材料制作的载板作为硅片镀膜的载具。
[0003]现有技术中用于太阳能电池PECVD工艺的镀膜载板,通常是一大块完整载板,载板上设置有若干个用于放置硅片的格槽,载板和格槽在结构上具有整体性和一致性。专利技术人在使用载板的过程中发现存在以下问题:若一整块载板里面只有其中一个或少数几个格槽出现问题或被破坏而无法正常进行镀膜工艺,要想维修或解决载板中格槽的问题就必须将整块载板暂时弃用,导致进行的工艺和生产产量因此而耽误。可见,由于载板结构的整体性和关联性,导致未出现问题的格槽因为出现问题的少量或部分格槽而不能继续投入使用,是产能时间和设备资源上的一种双重浪费。
技术实现思路
[0004]有鉴于此,本申请 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种容置槽,应用于镀膜载板,其特征在于,所述容置槽的上开口处设有向周边延伸的边缘构件,所述容置槽通过所述边缘构件与所述镀膜载板可拆卸连接;所述容置槽的至少部分侧壁设置有支撑构件,所述支撑构件用于承载待镀膜件。2.根据权利要求1所述的容置槽,其特征在于,所述容置槽的边缘构件的外形为直角的四边形、边角为弧形的四边形或边角带有倒角的四边形。3.根据权利要求1所述的容置槽,其特征在于,所述支撑构件为设置在所述容置槽的侧壁底部的台阶状构件或四分之一圆柱体状构件。4.根据权利要求3所述的容置槽,其特征在于,所述支撑构件的高度小于所述容置槽的侧壁的高度。5.根据权利要求1
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4任一项所述的容置槽,其特征在于,所述待镀膜件为硅片或经过前序处理的硅片。6.一种镀膜载板,其特征在于,包括载板本体和如权利要求1
‑
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【专利技术属性】
技术研发人员:梅志纲,辛科,周肃,陈光羽,李建清,吴建晓,龚道仁,
申请(专利权)人:安徽华晟新能源科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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