一种PVD托盘制造技术

技术编号:31416606 阅读:50 留言:0更新日期:2021-12-15 15:18
本实用新型专利技术公开了一种PVD托盘,包括上导轨、侧挡板以及下挡板,上导轨、侧挡板以及下挡板围合成滑动区以容纳滚轮,以防止TCO材料溅射于滚轮侧的导轨或挡板上。此外,上导轨或/和下挡板的内侧壁设有用于防止滚轮位移的固定位,滚轮的周向方向设有与固定位相配合的凹槽。本实用新型专利技术从现有的导轨和滚轮的外接触方式,改变至导轨和滚轮的内接触方式,通过侧挡板和下挡板包裹于滚轮的外围,防止TCO材料溅射于滚轮侧的导轨或挡板上,避免了导轨和滚轮不断摩擦产生粉尘,提高了成品电池的合格率;导轨内侧的固定位可以防止托盘在运行过程中偏移,使滚轮和导轨之间摩擦更加平稳,减少粉尘,提高了空间的洁净度。提高了空间的洁净度。提高了空间的洁净度。

【技术实现步骤摘要】
一种PVD托盘


[0001]本技术涉及光伏电池制造
,更具体地说,本技术涉及一种PVD托盘。

技术介绍

[0002]异质结太阳能电池(HIT)技术作为近年来引起行业高度关注的高效技术路线,因其光电转换效率高、性能优异、降本空间大,平价上网前景好,成为行业公认的下一代商业光伏产业技术。
[0003]对于高效异质结电池来说,目前的技术难点之一在于制程中对硅片质量要求较高,为保证异质结电池的效率及良率,需要保证生产过程中有良好的洁净度。在异质结核心工艺中有一个工艺就是TCO导电膜的制备,导电膜目前主要的制备方法为PVD物理气相沉积工艺。
[0004]物理气相沉积工艺(Physical Vapor Deposition,PVD) 是指在真空条件下,采用物理方法,将靶材—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。由于PVD工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基材结合力强等特点得到了快速的发展。
[0005]然而,当前本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种PVD托盘,包括上导轨(20),其特征在于,还包括侧挡板(30)以及下挡板(40),所述上导轨(20)、侧挡板(30)以及下挡板(40)围合成滑动区以容纳滚轮(10)。2.根据权利要求1所述的PVD托盘,其特征在于,所述上导轨(20)、侧挡板(30)以及下挡板(40)依次固定连接,所述上导轨(20)和下挡板(40)抵靠在所述滚轮(10)的上下方,所述侧挡板(30)贴合于所述滚轮(10)的侧壁。3.根据权利要求2所述的PVD托盘,其特征在于,所述上导轨(20)或/和下挡板(40)的内侧壁设有至少一个固定位(50)。4.根据权利要求3所述的PVD托盘,其特征在于,所述固定位(50)的高度为1

5mm,所述固定位(50)的截面呈锥台形结构或半圆形结构。5.根据权利要求3所述的PVD托盘,其特征在于,所述固定位(50)和所述滚轮(10)之间设有耐磨橡胶垫。6.根据权利要求1所述的PVD托盘,其特征在于,所述上导...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵锋谷士斌任明冲
申请(专利权)人:东方日升常州新能源有限公司
类型:新型
国别省市:

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