一种用于大面积软X射线波带片的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种用于大面积软X射线波带片的制备方法，其首先采用电子束曝光技术得到HSQ光刻胶纳米柱，然后进行深刻蚀，将光刻胶纳米图案转移到衬底上，再去除HSQ光刻胶纳米柱，得到高深宽比的波带片模板，再交替使用原子层沉积进行两种材料填充，接着进行离子束抛光使之平坦化，再进行图形转移和抛光工艺去除了多余的材料。该工艺可以提高纳米级波带片的深宽比，而且采用全干法工艺，提升了器件制备的可靠性，使成品率提升，可以大面积制备波带片，适用于工业化量产。总体而言，该制备方法具有高效率、高可靠性等优点，可实现大批量、大面积的制备。制备。制备。

【技术实现步骤摘要】
一种用于大面积软X射线波带片的制备方法


[0001]本专利技术涉及微纳制造
，尤其涉及一种用于大面积软X射线波带片的制备方法。

技术介绍

[0002]在可见光波段，波带片的的衍射效率限制了其具体应用，但在X射线波段，唯有通过波带片才可以达到衍射极限。目前，X射线显微成像技术在材料、环境、化工、能源等领域应用广泛，其分辨率由最外层的环带厚度决定，研究人员也开发了许多制备X射线波带片的工艺，比如激光全息曝光法、电子束光刻法、电子束光刻和金属电镀相结合、电子束光刻与原子层沉积技术相结合、溅射镀膜切片法等方法。但是依然很难实现波带片极小的最外环宽度，而且高宽比也不容易提高。电子束曝光是一种可以实现亚10纳米分辨率的光刻技术，利用电子束曝光技术制备X射线波带片，可提高X射线波带片分辨率和衍射效率。但是，由于力学稳定性的影响，如何在保证小的最外环宽度的情况下，同时实现大高宽比成为了通过该工艺进行X射线菲涅尔波带片制备的关键难题，同时如何实现大面积产业化制备波带片也是菲涅尔波带片研究的重点。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于大面积软X射线波带片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、提供衬底，并对衬底进行清洗处理；步骤二、在衬底上旋涂一层光刻胶；步骤三、使用光刻技术对光刻胶进行图案曝光；步骤四、曝光后使用显影液进行显影，得到圆柱形光刻胶掩膜图案；步骤五、利用电感耦合等离子体反应离子刻蚀工艺将光刻胶上的掩膜图案转移到衬底上，再使用刻蚀工艺去除光刻胶模板；步骤六、利用原子层沉积技术将X射线透过率较高的原子层沉积材料和X射线透过率较低的材料原子层沉积材料在衬底上逐层交替沉淀；步骤七、利用斜角离子束抛光，对衬底超出顶表面的原子层沉积材料进行抛光去除，得到结构图形；步骤八、利用结构转移工艺，将所得结构图形反转转移到新的衬底上；步骤九、利用斜角离子束抛光，将多余波带片材料去除，得到所需的波带片。2.如权利要求1所述的用于大面积软X射线波带片的制备方法，其特征在于，在步骤一，所述衬底由X射线透过率较低的材料制作，用离子体清洗机对衬底进行清洗处理。3.如权利要求1所述的一种用于大面积软X射线波带片的制备方法，其特征在于，在步骤二中，所述光刻胶为负型光刻胶，选自于HSQ、NR26
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25000P、SU
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8、SPR220中的任意一种。4.如权利要求1所述的一种用于大面积软X射线波带片的制备方法，其特征在于，在步骤三中...

【专利技术属性】
技术研发人员：段辉高，曾沛，刘卿，周宇霆，
申请(专利权)人：湖南大学，
类型：发明
国别省市：