【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示装置
[0001]本专利技术的一个方式涉及一种显示装置。
[0002]注意,本专利技术的一个方式不局限于上述
作为本说明书等所公开的本专利技术的一个方式的
的例子,可以举出半导体装置、显示装置、发光装置、蓄电装置、存储装置、电子设备、照明装置、输入装置、输入输出装置、这些装置的驱动方法或制造方法。半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。
技术介绍
[0003]作为可用于晶体管的半导体材料,使用金属氧化物的氧化物半导体受到瞩目。例如,专利文献1公开了如下半导体装置:层叠有多个氧化物半导体层,在该多个氧化物半导体层中,被用作沟道的氧化物半导体层包含铟及镓,并且铟的含量比高于镓的含量比,使得场效应迁移率(有时简称为迁移率或μFE)得到提高的半导体装置。
[0004]由于能够用于半导体层的金属氧化物可以利用溅射法等形成,所以可以用于构成大型显示装置的晶体管的半导体层。此外,因为可以将使用多晶硅或非晶硅的晶体管的生产设备的一部分改良而利用,所以还可以抑制设备投资。此外,与使用非晶硅的晶体管相比,使用金属氧化物的晶体管具有高场效应迁移率,所以可以实现设置有驱动器电路的高功能的显示装置。
[0005]此外,作为用来增强现实(AR:Augmented Reality)或虚拟现实(VR:Virtual Reality)的显示装置,可穿戴型显示装置、固定式显示装置逐渐普及。作为可穿戴型显示装置,例如,有头戴显示器(HMD:Head Mounted Display)或眼镜型显示装置等 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示装置,包括:彼此重叠的第一层、第二层以及第三层,其中,所述第一层包括栅极驱动电路及数据驱动电路,所述第二层包括解复用电路,所述第三层包括显示部,在所述显示部中像素排列为矩阵形状,所述解复用电路的输入端子与所述数据驱动电路电连接,所述解复用电路的输出端子与所述像素电连接,所述栅极驱动电路包括与所述像素重叠的区域,所述数据驱动电路包括与所述像素重叠的区域,并且,所述栅极驱动电路包括与所述数据驱动电路重叠的区域。2.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述解复用电路包括与所述像素重叠的区域。3.根据权利要求1或2所述的显示装置,还包括D/A转换电路,其中所述D/A转换电路包括电位生成电路及传输晶体管逻辑电路,所述电位生成电路设置在所述数据驱动电路的外部,所述传输晶体管逻辑电路设置在所述数据驱动电路中,设置在所述D/A转换电路中的所述传输晶体管逻辑电路的个数小于设置在所述显示部中的所述像素的列数,设置在所述D/A转换电路中的所述电位生成电路的个数小于所述传输晶体管逻辑电路的个数,所述电位生成电路生成不同水平的多个电位,并且所述传输晶体管逻辑电路接收图像数据并基于该图像数据的数字值输出所述电位生成电路所生成的所述多个电位中的任一个。4.根据权利要求3所述的显示装置,其中所述传输晶体管逻辑电路的个数为所述像素的列数的两分之一以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示装置,其中像素包括在沟道形成区中含有金属氧化物的晶体管,并且所述金属氧化物包含In、元素M(M是Al、Ga、Y或Sn)以及Zn。6.一种显示装置,包括:彼此重叠的第一层、第二层以及第三层,其中,所述第一层包括栅极驱动电路、第一数据驱动电路、第二数据驱动电路、第三数据驱动电路、第四数据驱动电路以及第五数据驱动电路,所述第二层包括第一解复用电路、第二解复用电路、第三解复用电路、第四解复用电路以及第五解复用电路,所述第三层包括第一显示部、第二显示部、第三显示部、第四显示部以及第五显示部,在所述第一显示部中第一像素排列为矩阵形状,在所述第二显示部中第二像素排列为矩阵形状,在所述第三显示部中第三像素排列为矩阵形状,
在所述第四显示部中第四像素排列为矩阵形状,在所述第五显示部中第五像素排列为矩阵形状,所述第一解复用电路的输入端子与所述第一数据驱动电路电连接,所述第二解复用电路的输入端子与所述第二数据驱动电路电连接,所述第三解复用电路的输入端子与所述第三数据驱动电路电连接,所述第四解复用电路的输入端子与所述第四数据驱动电路电连接,所述第五解复用电路的输入端子与所述第五数据驱动电路电连接,所述第一解复用电路的输出端子与所述第一像素电连接,所述第二解复用电路的输出端子与所述第二像素电连接,所述第三解复用电路的输出端子与所述第三像素电连接,所述第四解复用电路的输出端子与所述第四像素电连接,所述第五解复用电路的输出端子与所述第五像素电连接,所述栅极驱动电路包括与所述第一像素重叠的区域,所述第一数据驱动电路包括与所述第一像素重叠的区域,所述第二数据驱动电路包括与所述第二像素重叠的区域,所述第三数据驱动电路包括与所述第三像素重叠的区域,所述第四数据驱动电路包括与所述第四像素重叠的区域,...
【专利技术属性】
技术研发人员:中川贵史,池田隆之,小林英智,宍户英明,胜井秀一,木村清贵,
申请(专利权)人:株式会社半导体能源研究所,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。