自动分析仪及其光源监测方法、校准方法和存储介质技术

一种自动分析仪及其光源监测方法、校准方法和存储介质，该自动分析仪的反应部件包括多个用于放置反应杯的放置位和至少一个校准位，能够检测放置位上被测对象的光谱吸光度和校准位上被测对象的光源本底强度，当判断出同一波长光束对应的相邻N次光源本底强度间的波动量超过波动阈值时输出光源异常提示信息，避免了光源波动对测量结果的影响。可以通过采集校准位上的光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准，通过校准提高了测量结果的准确性，而且可以缩短光源孵育时间。而且可以缩短光源孵育时间。而且可以缩短光源孵育时间。

【技术实现步骤摘要】
自动分析仪及其光源监测方法、校准方法和存储介质


[0001]本专利技术涉及体外诊断
，具体涉及自动分析仪及其光源监测方法、校准方法和存储介质。

技术介绍

[0002]自动分析仪是一类具有高灵敏度及高特异性的分析仪器，以临床实验室中常用的全自动生化分析仪为例，其常被用于检测血液、尿液或其它体液的各项分析指标。全自动生化分析仪可以通过测量反应杯中反应液的吸光度来计算被测样本的浓度，其主要过程为：由光源发出的光束照射到反应杯，经反应杯中的反应液吸收后透过反应杯，受光部件接受透过反应杯的光，由此检测出反应液对特定波长的光的吸光度，根据该吸光度计算出反应液的浓度。可见，光源的光谱辐射强度是吸光度测量的基准，光源的稳定性直接影响到临床测试的准确性和精密度。
[0003]当前，全自动生化分析仪使用的光源主要是卤素灯，也有极少数的全自动生化分析仪使用LED(发光二极管)。在卤素灯的寿命末期，钨丝经过长时间的高温工作后，变得不均匀且脆弱，在烧断前有极大概率会出现大的辐射波动；当光源出现故障时，光谱辐射也有可能出现大的波动；即使是在正常状态下，光源的光谱辐射的稳定性也会受到环境温度变化、供电电压或供电电流稳定性的影响。这样，当光源发生波动时便会导致测量结果的不准确，引起临床风险。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种自动分析仪及其光源监测方法、校准方法和存储介质，以解决光源波动导致测量结果不准确，从而引起临床风险的问题。
[0005]一种实施例中提供一种自动分析仪，包括光测部件、反应部件、处理器和输出装置；
[0006]所述光测部件包括光源组件和检测单元，所述光源组件用于发射至少一种波长的光束并使所述光束照射检测位，所述检测单元用于收集通过检测位的光束，并根据光束的光谱强度输出电信号；
[0007]所述反应部件与所述处理器连接，其包括多个用于放置反应杯的放置位和至少一个校准位，所述反应部件在处理器的控制下将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至所述检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；
[0008]所述处理器还分别与所述检测单元和所述输出装置连接，用于接收检测单元输出的电信号，根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度，根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度，当判断出同一波长光束对应的相邻N次光源本底强度间的波动量超过波动阈值时，向所述输出装置发送光源异常提示信息，所述N为大于或等于2的整数；
[0009]所述输出装置用于输出所述光源异常提示信息。
[0010]一种实施例中提供一种自动分析仪，包括光测部件、反应部件和处理器；
[0011]所述光测部件包括光源组件和检测单元，所述光源组件用于发射至少一种波长的光束并使所述光束照射检测位，所述检测单元用于收集通过检测位的光束，并根据光束的光谱强度输出电信号；
[0012]所述反应部件与所述处理器连接，其包括多个用于放置反应杯的放置位和至少一个校准位，所述反应部件在处理器的控制下于每个测量周期将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至所述检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；
[0013]所述处理器还与所述检测单元连接，用于接收检测单元输出的电信号，根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度，根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度，根据所述光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。
[0014]一种实施例中提供一种自动分析仪，包括光测部件、反应部件和处理器；
[0015]所述光测部件包括光源组件和检测单元，所述光源组件用于发射至少一种波长的光束并使所述光束照射检测位，所述检测单元用于收集通过检测位的光束，并根据光束的光谱强度输出电信号；
[0016]所述反应部件与所述处理器连接，其包括多个用于放置反应杯的放置位和至少一个校准位，所述反应部件在处理器的控制下于每个测量周期将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至所述检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；
[0017]所述处理器还与所述检测单元连接，用于接收检测单元输出的电信号，根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度，当判断出预设时间段内相邻两次光源本底强度间的波动量小于预设波动量时，记录放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号，根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度，根据当前的光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。
[0018]一种实施例中提供一种自动分析仪的光源监测方法，包括：
[0019]控制反应部件将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；
[0020]接收检测单元根据收集到的通过检测位的光束的光谱强度输出的电信号；
[0021]根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度；
[0022]根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度；
[0023]当判断出同一波长光束对应的相邻N次光源本底强度间的波动量超过波动阈值时，向输出装置发送光源异常提示信息以提示光源异常，所述N为大于或等于2的整数。
[0024]一种实施例中提供一种自动分析仪的校准方法，包括：
[0025]控制反应部件于每个测量周期将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；
[0026]接收检测单元根据收集到的通过检测位的光束的光谱强度输出的电信号；
[0027]根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象
的光谱吸光度；
[0028]根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度；
[0029]根据所述光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。
[0030]一种实施例中提供一种自动分析仪的校准方法，包括：
[0031]控制反应部件于每个测量周期将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；
[0032]根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度；
[0033]当判断出预设时间段内相邻两次光源本底强度间的波动量小于预设波动量时，记录放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号；
[0034]根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度；
[0035]根据当前的光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。
[0036]一种实施例中提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动分析仪，其特征在于，包括光测部件、反应部件、处理器和输出装置；所述光测部件包括光源组件和检测单元，所述光源组件用于发射至少一种波长的光束并使所述光束照射检测位，所述检测单元用于收集通过检测位的光束，并根据光束的光谱强度输出电信号；所述反应部件与所述处理器连接，其包括多个用于放置反应杯的放置位和至少一个校准位，所述反应部件在处理器的控制下将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至所述检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；所述处理器还分别与所述检测单元和所述输出装置连接，用于接收检测单元输出的电信号，根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度，根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度，当判断出同一波长光束对应的相邻N次光源本底强度间的波动量超过波动阈值时，向所述输出装置发送光源异常提示信息，所述N为大于或等于2的整数；所述输出装置用于输出所述光源异常提示信息。2.如权利要求1所述的自动分析仪，其特征在于，所述处理器还用于在开机后，当判断出同一波长光束对应的相邻N次光源本底强度间的波动量均小于波动阈值时，向输出装置发送可以开始样本测量的测量提示信息；所述输出装置还用于输出所述测量提示信息。3.一种自动分析仪，其特征在于，包括光测部件、反应部件和处理器；所述光测部件包括光源组件和检测单元，所述光源组件用于发射至少一种波长的光束并使所述光束照射检测位，所述检测单元用于收集通过检测位的光束，并根据光束的光谱强度输出电信号；所述反应部件与所述处理器连接，其包括多个用于放置反应杯的放置位和至少一个校准位，所述反应部件在处理器的控制下于每个测量周期将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至所述检测位，以使放置位或校准位上的被测对象接受光束照射；所述处理器还与所述检测单元连接，用于接收检测单元输出的电信号，根据放置位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号计算被测对象的光谱吸光度，根据校准位上的被测对象接受光束照射时检测单元输出的电信号得到光源本底强度，根据所述光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。4.如权利要求1所述的自动分析仪，其特征在于，所述反应部件在处理器的控制下于每个测量周期将多个放置位和至少一个校准位按照设定的时序调度至所述检测位。5.如权利要求4所述的自动分析仪，其特征在于，所述处理器还用于在每个测量周期根据各波长光束对应的光源本底强度对放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。6.如权利要求3或5所述的自动分析仪，其特征在于，在每个测量周期，所述反应部件在处理器的控制下将一个校准位调度至所述检测位；所述处理器具体用于：在每个测量周期，对于每一种波长的光束，根据该波长光束对应的一个光源本底强度分别对各放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。7.如权利要求3或5所述的自动分析仪，其特征在于，在每个测量周期，所述反应部件在处理器的控制下将至少两个校准位调度至所述检测位；所述处理器具体用于：在每个测量周期，对于在各校准位上获取的每个光源本底强度，
根据该光源本底强度分别对该光源本底强度对应的校准位及下一个校准位之间的各放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准。8.如权利要求6或7所述的自动分析仪，其特征在于，所述处理器在根据光源本底强度对各放置位上的被测对象的光谱吸光度进行校准时具体用于：对于每个放置位上的被测对象，根据校准位上的被测对象接受与该放置位相同波长的光束时得到的光源本底强度和该放置位对应的基准光源本底强度计算校准因子；根据所述校准因子对该放置位上的被测对象在相同波长光束照射下的光谱吸光度进行校准。9.如权利要求8所述的自动分析仪，其特征在于，所述处理器在根据校准位上的被测对象接受与该放置位相同波长的光束时得到的光源本底强度和该放置位对应的基准光源本底强度计算校准因子时具体用于：计算校准位上的被测对象接受与该放置位相同波长的光束时得到的光源本底强度与该放置位对应的基准光源本底强度的比值，得到该放置位上的被测对象在该相同波长的光束照射下的校准因子。10.如权利要求8所述的自动分析仪，其特征在于，所述处理器在根据所述校准因子对该放置位上的被测对象在相同波长光束照射下的光谱吸光度进行校准时具体用于：根据所述校准因子，利用校准公式对该放置位上的被测对象在相同波长光束照射下的光谱吸光度进行校准；所述校准公式为：其中，A
′
λi
为校准后的光谱吸光度，L
λi
为第i个测量周期测得的光束波长为λ时该放置位对应的光源本底强度，L
λblank
为光束波长为λ时该放置位对应的基准光源本底强度，为校准前该放置位上的被测对象在波长为λ的光束照射下的光谱吸光度，I
λcupblank
为该放置位在杯空白测量周期测得的杯空白，I
λi
为第i个测量周期所述检测单元收集的波长为λ的光束照射该放置位上的被测对象后的光谱强度。11.如权利要求8所述的自动分析仪，其特征在于，所述基准光源本底强度包括：在杯空白测量周期根据校准位上的被测对象接受光束照射时测得的光源本底强...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱金宏，王庆晨，
申请(专利权)人：深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：