【技术实现步骤摘要】
一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架
[0001]本技术涉及公转架
,尤其涉及一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架。
技术介绍
[0002]多弧离子镀是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法,现有的多弧离子镀膜设备在使用时需要使用公转架。
[0003]现有授权公告号为CN209194039U,专利名称为:一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架,包括底层公转盘、顶层公转盘和轴套,底层公转盘和顶层公转盘与轴套固定安装,然而,不同高度的镀膜设备所需要双层公转架高度不同,现有技术中的双层公转架是一体化结构,轴套的长度不可调节,不能根据需要调节双层公转架的高度,不便于装置的使用。
技术实现思路
[0004]为了解决不同高度的镀膜设备所需要双层公转架高度不同,现有技术中的双层公转架是一体化结构,轴套的长度不可调节,不能根据需要调节双层公转架的高度,不便于装置使用的问题,而提出的一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架,包括底层公转盘(1)和顶层公转盘(2),其特征在于,所述底层公转盘(1)顶部固定安装有第二轴套(4),所述顶层公转盘(2)底部固定安装有第一轴套(3),所述第一轴套(3)内开设有圆槽(301),所述第二轴套(4)顶部固定安装有插入圆槽(301)的固定轴(9),所述固定轴(9)内开设有多个定位孔(901),所述第一轴套(3)上开设有限位孔(302),所述第一轴套(3)内设有穿过限位孔(302)和定位孔(901)的定位销(8),所述底层公转盘(1)底部固定安装有运动块(5)。2.根据权利要求1所述的一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架,其特征在于,所述底层公转盘(1)底部固定安装有多个固定柱(11),所述底层公转盘(1)底部开设有多个凹台(12)。3.根据权利要求2所述的一种多弧离子镀膜设备中模具镀膜用双层公转架,其特征在于,所述第一轴套(3)上固定安装有多个第一加强筋(6),多个所述第一加强筋(6)绕第一轴套(3)的...
【专利技术属性】
技术研发人员:李向周,
申请(专利权)人:浙江摩鼎纳米科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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