【技术实现步骤摘要】
用于脉冲激光沉积的装置
[0001]本专利技术涉及一种用于脉冲激光沉积的装置、具有基板表面的基板和具有靶表面的靶,该装置包括:
[0002]‑
基板保持器,用于保持基板;
[0003]‑
靶保持器,用于保持靶,该靶有面对基板表面的靶表面;
[0004]‑
速度过滤器,该速度过滤器布置在基板保持器和靶保持器之间,该速度过滤器包括旋转的大致盘形本体,该本体有旋转轴线,并有至少一个过滤器通道开口,该过滤器通道开口从旋转本体的一个轴向表面延伸至另一轴向表面;以及
[0005]‑
脉冲激光,脉冲激光在靶点处引导至靶上,用于产生靶材料的等离子体羽流,其中,在靶点处的靶表面面对基板表面,
[0006]其中,当沿与靶点处的靶表面垂直的方向看时,该至少一个过滤器通道开口的通路与靶点重合。
技术介绍
[0007]这种装置例如由EP3587620已知。在该文献中介绍了一种具有大致盘形本体的速度过滤器,该速度过滤器滤除当由靶材料产生等离子体羽流时形成为不希望的副产物的颗粒。而且 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于脉冲激光沉积的装置,所述装置包括具有基板表面的基板和具有靶表面的靶,所述装置还包括:
‑
基板保持器,用于保持基板;
‑
靶保持器,用于保持靶,其中,所述靶表面面对基板表面;
‑
速度过滤器,所述速度过滤器布置在基板保持器和靶保持器之间,所述速度过滤器包括大致盘形的旋转本体,所述旋转本体具有旋转轴线,并具有至少一个过滤器通道开口,所述过滤器通道开口从旋转本体的一个轴向表面延伸至另一轴向表面;以及
‑
脉冲激光,脉冲激光在靶点处引导至靶上,用于产生靶材料的等离子体羽流,其中,在靶点处的靶表面面对基板表面,其中,当沿与靶点处的靶表面垂直的方向看时,所述至少一个过滤器通道开口的通路与靶点重合,其特征在于:至少一个过滤器通道开口沿平行于旋转本体的旋转轴线的方向从靶至基板渐缩。2.根据权利要求1所述的装置,其中:相对于旋转本体的旋转轴线,过滤器通道开口沿旋转本体的旋转方向的上游壁部分的锥角小于过滤器通道开口的下游壁部分的锥角。3.根据权利要求2所述的装置,其中:上游壁部分的锥角在35
°
和55
°<...
【专利技术属性】
技术研发人员:K,
申请(专利权)人:索尔玛特斯有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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