用于等离子体羽流的过滤器制造技术

本发明专利技术涉及一种用于从等离子体羽流中过滤颗粒的过滤器，其包括：壳体，该壳体有两个穿透开口，穿透开口布置在壳体壁中，并形成用于至少一部分等离子体羽流穿过壳体的穿透槽道，穿透槽道从壳体的一侧延伸至相对侧；至少一个第一叶片，其布置在离旋转轴线一定距离处且可绕其旋转，旋转轴线与穿透槽道的中心线平行和间隔开，至少一个第一叶片的通路与穿透槽道相交，至少一个第一叶片有用于与等离子体羽流接触的接触表面，接触表面面向旋转方向；排出槽道，排出槽道与布置在壳体壁中的排出开口连接，其中，与穿透槽道的中心线和从旋转轴线延伸的径向线都垂直地延伸的线延伸穿过排出开口，径向线延伸通过穿透槽道的中心线和至少一个第一叶片的通路。个第一叶片的通路。个第一叶片的通路。

【技术实现步骤摘要】
用于等离子体羽流的过滤器


[0001]本专利技术涉及一种用于从等离子体羽流中过滤颗粒的过滤器，该过滤器包括：
[0002]‑
壳体，该壳体有两个穿透开口，这两个穿透开口布置在壳体壁中，并形成用于使至少一部分等离子体羽流穿过壳体的穿透槽道，该穿透槽道从壳体的一侧延伸至壳体的相对侧；
[0003]‑
至少一个第一叶片，该第一叶片布置在离旋转轴线一定距离处和可绕该旋转轴线旋转，该旋转轴线与穿透槽道的中心线平行和间隔开，其中，该至少一个第一叶片的通路与穿透槽道相交，且该至少一个第一叶片有用于与等离子体羽流接触的接触表面，该接触表面面向旋转方向。

技术介绍

[0004]这种过滤器例如由EP2410074已知。
[0005]当通过将激光脉冲引导至靶材料上而产生等离子体羽流时，靶材料的等离子体将从靶表面发出。因为大量能量输入至靶材料中，所以局部产生大量热量，这也使得颗粒从靶材料脱出。当并不进行过滤时，这些不希望的颗粒将尾随等离子体羽流，并也将沉积在基体上。在基体上形成的层将有并不最优的质量。因此，希望从等离子体羽流中过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于从等离子体羽流中过滤颗粒的过滤器，所述过滤器包括：
‑
壳体，所述壳体具有两个穿透开口，所述穿透开口布置在壳体壁中，并形成用于使至少一部分等离子体羽流穿过壳体的穿透槽道，所述穿透槽道从壳体的一侧延伸至壳体的相对侧；
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至少一个第一叶片，所述第一叶片布置在离旋转轴线一定距离处且可绕所述旋转轴线旋转，所述旋转轴线与穿透槽道的中心线平行且间隔开，其中，所述至少一个第一叶片的通路与穿透槽道相交，所述至少一个第一叶片具有用于与等离子体羽流接触的接触表面，所述接触表面面向旋转方向；其特征在于，所述过滤器还包括排出槽道，所述排出槽道与布置在壳体壁中的排出开口连接，其中，与穿透槽道的中心线和从旋转轴线延伸的径向线都垂直地延伸的线延伸穿过排出开口，所述径向线延伸通过穿透槽道的中心线和所述至少一个第一叶片的通路。2.根据权利要求1所述的过滤器，其中：接触表面的径向横截面的弦线与旋转轴线形成的角度大于0
°
，优选是大于15
°
。3.根据权利要求1或2所述的过滤器，其中：接触表面的轴向横截面的弦线与从旋转轴线延伸穿过接触表面的轴向横截面的内边缘的径向线形成的角度大于0
°
，优选是大于15
°
。4.根据前述任意一项权利要求所述的过滤器，其中：接触表面是面向所述至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：索尔玛特斯有限责任公司，
类型：发明
国别省市：