一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜的制备方法，属于光学薄膜技术领域。利用横跨可见光、近红外光、中波红外波段的多层减反射膜设计理论，结合高折射率基底上多层减反射膜的设计理论，插入增强结合力的匹配层设计，采用非λ/4膜系、非对称等效层实现与基底的折射率匹配。利用离子源发射的高密度氧离子对薄膜进一步氧化，同时利用高能氩离子和氧离子对基板进行预处理。一方面改善基板与膜层界面处的机构特性，使结合层增加基底与TiO2之间的键合力；另一方面，可以将镀膜过程中产生的附着力差的节瘤缺陷在生长之前有效地去除膜层更致密，同时减小TiO2和SiO2之间的应力影响，提高膜层的牢固性、抗湿热性、抗盐雾的性能。能。能。

【技术实现步骤摘要】
一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光学薄膜
，特别涉及一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着光学仪器的发展，对多波段光学镀膜元件耐环境性能的要求越来越高，如机载、舰载以及车载多光谱成像系统中的前置窗口或整流罩。一方面要求镀膜元件能经受恶劣环境的考验，另一方面还要求保持其光学性能不降低。CVD-ZnS窗片作为光学系统中重要的光学元件，有很好的机械特性和理论上良好的光学特性，在多光谱、宽光谱共窗口的成像仪器和光电武器系统中有着广泛的应用。CVD-ZnS的透射谱段覆盖可见、近红外、中远红外波段，是白光、微光、中远红外多波段光电产品窗口的首选材料，在军用光电仪器中得到广泛应用。ZnS与光学玻璃相比，折射率高、耐环境差，因此必须镀制具有减反射、保护功能的光学薄膜。基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜是在ZnS基底上镀制将可见光、近红外、中红外波段的光尽可能透射的多层薄膜，同时具有耐盐雾性能，至少满足GJB15.11A-2009的试验要求。目前的可用产品大多采用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于ZnS基底的多波段耐盐雾减反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：在镀膜机内放置镀制所需的蒸发材料及装载清洗干净的基板；步骤二：待真空度抽到5
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10-3
Pa后，对M及TiO2所在的坩埚进行充分预熔；步骤三：将基板加热至120℃，保温时间为1200s，待真空度下降到1
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10-3
Pa后开始镀制；步骤四：启动RF离子源，参数为：Beam V＝400～500V、Beam A＝400～500mA、Gas1＝45～50sccm、Gas2＝0sccm、Gas3＝8～10sccm，对基板进行离子清洗3～5分钟；步骤五：清洗结束后，进行打底层M的镀制，蒸发速率为0.3nm/s。离子源辅助沉积的参数为：BeamV＝400～420V、BeamA＝500～530mA、Gas1＝40～45sccm、Gas2＝0sccm、Gas3＝8～10sccm；步骤六：镀制TiO2膜层，蒸发...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐乾隆，査家明，李斯成，汶韬，陆丹枫，颜刘兵，石成，
申请(专利权)人：江苏北方湖光光电有限公司，
类型：发明
国别省市：