【技术实现步骤摘要】
一种半导体工业冷却水处理用过滤装置
[0001]本技术涉及过滤装置
，具体为一种半导体工业冷却水处理用过滤装置。
技术介绍
[0002]半导体行业是一个高能耗行业，在半导体生产制造过程中，会产生大量工业废水，随着水和其他资源日渐短缺以及环境污染治理日益迫切的情况下，工业废水的发展趋势是：把水和污染物作为有用资源回收利用和实行闭路循环,但是现有的大多数过滤装置只能一遍过滤，在过滤时无法及时清理堆积在过滤膜上的杂质给实际使用带来了一定的不利影响，因此需要进行改进。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种半导体工业冷却水处理用过滤装置，具备通过活性炭层和两种膜多重过滤，在过滤之后能够及时对杂质进行清理的优点，给实际使用带来了一定的有利影响，解决了以上
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种半导体工业冷却水处理用过滤装置，包括储水罐，所述储水罐的左表面开设有进水口，所述储水罐的下表面固定连接有出水管，所述出水管的右端通过螺栓固定安装有左输水管，所述左输水管...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体工业冷却水处理用过滤装置，包括储水罐（1），其特征在于：所述储水罐（1）的左表面开设有进水口（2），所述储水罐（1）的下表面固定连接有出水管（3），所述出水管（3）的右端通过螺栓固定安装有左输水管（4），所述左输水管（4）的右端固定连接有水泵（5），所述水泵（5）的输出端固定连接有上输水管（6），所述上输水管（6）的输出端固定连接有过滤罐（7），且上输水管（6）贯穿过滤罐（7）的左表面，所述过滤罐（7）的右表面固定连接有支架，所述支架的上表面固定连接有废水缸（8）。2.根据权利要求1所述的一种半导体工业冷却水处理用过滤装置，其特征在于：所述上输水管（6）上设置有水压表（9）。3.根据权利要求1所述的一种半导体工业冷却水处理用过滤装置，其特征在于：所述过滤罐（7）的上表面设置有顶盖（10），所述过滤罐（7）内部的下端固定连接有集水槽（11），所述过滤罐（7）内部的下端固定连接有微滤膜（12），且微滤膜（12）位于集水槽（11）的上方，所述过滤罐（7）内部固定连接有粗滤膜（13），且粗滤膜（13）位于微滤膜（12）的上方，所述过滤罐（7...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡健，
申请(专利权)人：苏州市咏盛系统工程有限公司，
类型：新型
国别省市：
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