蚀刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种蚀刻装置，包括输送机构和至少一个喷淋机构，输送机构具有用于承载并输送玻璃基板的输送面，输送面与水平面呈夹角，喷淋机构包括两个喷淋管，喷淋管包括管本体和若干喷嘴，喷嘴间隔设置在管本体上且朝向所述输送面，蚀刻液从喷嘴喷出，喷淋管设置在输送面上方，两个管本体的中心线重合。两个独立的喷淋管设置在不同的高度上，通过向位置较低的喷淋管中通入较大压力和流量的蚀刻液，向位置较高的喷淋管中通入较小压力和流量的蚀刻液，能减小玻璃基板上各处铜膜蚀刻速率的差异，避免发生蚀刻不充分及过度蚀刻的现象，提高蚀刻质量。高蚀刻质量。高蚀刻质量。

【技术实现步骤摘要】
蚀刻装置


[0001]本技术涉及显示面板制造
，尤其涉及一种蚀刻装置。

技术介绍

[0002]在显示面板的制造过程中，覆盖有铜膜的玻璃基板需要利用蚀刻液进行蚀刻，将部分铜膜去除以在玻璃基板上形成所需要的电路图案。覆盖有铜膜的玻璃基板以倾斜的姿态通过喷淋管的下方，喷淋到玻璃基板上的蚀刻液会在重力的作用下流向玻璃基板位置较低的一端，因而在玻璃基板表面形成厚度不均的蚀刻液液层，玻璃基板较高一端的蚀刻液液层较薄，玻璃基板较低一端的蚀刻液液层较厚。蚀刻液液层中的铜离子浓度比新喷出的蚀刻液中铜离子的浓度高，蚀刻液液层对铜膜的蚀刻速率较低，而从喷淋管新喷出的蚀刻液较难穿透较厚的蚀刻液液层，使对应区域的铜膜被蚀刻的速率达不到要求，产生不需要的铜膜残留。若增大蚀刻液的喷淋压力和流量，又会导致玻璃基板较高一端的铜膜被过度蚀刻，同样会产生质量问题。此外，增大蚀刻液的喷淋压力和流量，从较高一端流向较低一端的蚀刻液更多了，进一步加剧了玻璃基板较低一端的蚀刻液堆积现象。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种蚀刻装置，能解决玻璃基板上的各处铜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括输送机构和至少一个喷淋机构，所述输送机构具有用于承载并输送玻璃基板的输送面，所述输送面与水平面呈夹角，所述喷淋机构包括两个喷淋管，所述喷淋管包括管本体和若干喷嘴，所述喷嘴间隔设置在所述管本体上且朝向所述输送面，蚀刻液从所述喷嘴喷出，所述喷淋管设置在所述输送面上方，两个所述管本体的中心线重合。2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述管本体具有第一端和第二端，所述第一端封闭，所述蚀刻液从所述第二端注入，两个所述喷淋管的所述第一端相对设置。3.根据权利要求2所述的蚀刻装置，其特征在于，所述喷淋机构还包括连接套筒，所述连接套筒两端开口，所述管本体的所述第一端插入所述连接套筒内。4.根据权利要求3所述的蚀刻装置，其特征在于，所述连接套筒内设有第一空腔和两个第二空腔，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄远科，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：