一种双面微透镜阵列制备方法及紫外LED封装装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及紫外LED制备领域，更具体地，涉及一种双面微透镜阵列制备方法，采用该制备方法在蓝宝石玻璃透镜的上下表面制作均匀、大面积且易于控制的微透镜阵列，基于几何光学的折射原理，光在两种透明介质交界处，将向折射率高的区域弯折。材料的折射率越高，入射光发生折射的能力越强。通过这个原理，将一个完整的激光波前在空间上分成许多微小的部分，每一部分被相应的小透镜聚焦在焦平面上，光斑进行重叠，从而实现在特定区域将光均匀化。将该蓝宝石玻璃透镜应用在紫外LED封装装置上，降低深紫外LED封装光学窗口

【技术实现步骤摘要】
一种双面微透镜阵列制备方法及紫外LED封装装置


[0001]本专利技术涉及紫外LED制备领域，更具体地，涉及一种双面微透镜阵列制备方法及紫外LED封装装置。

技术介绍

[0002]随着技术的发展，紫外LED的性能得到不断的提升，与目前常用的气体紫外光源相比较，紫外LED属于冷光源，具有寿命长、可靠性高、照射亮度均匀、效率高以及不含有毒物质的优点，在生物医疗、表面杀菌清洁、印刷光刻、光固化生产以及通信探测等领域中都具有重要的作用。
[0003]但是目前深紫外LED的发展面临许多挑战，传统的LED封装结构使紫外LED芯片的出光不均匀，不能满足紫外LED的高性能、高均匀度的使用的需求。因此，提高紫外LED封装器件的光线提取率以及出光均匀度，是紫外LED封装领域的研究重点。
[0004]公开号为CN106935695A公开了一种紫外LED器件，LED芯片设置于支架底部，方案中紫外LED芯片共晶倒装焊接于紫外LED器件内，再将石英玻璃盖板进行封盖，保持封闭环空间。但是，该石英玻璃盖板的光线提取率、出光均匀度的程度还不足以达到最好效果，有待本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面微透镜阵列制备方法，其特征在于：选用蓝宝石玻璃透镜，并进行以下制备步骤：S1将蓝宝石玻璃透镜一面进行抛光，并在抛光表面上通过等离子体化学气相沉积200nm厚的SiO2膜，处理温度为300℃；S2旋涂700nm厚的正光刻胶，并且采用掩模版进行投影曝光，再使用步进光刻机投影曝光，曝光波长365nm，曝光时间290ms；S3将正光刻胶位置显影50秒形成纳米孔，再通过等离子体蚀刻将图案转移到SiO2膜上，持续1分钟；S4将强酸混合物加热至270℃后用来蚀刻蓝宝石，蚀刻时间为6分钟，然后通过氧等离子体蚀刻去除SiO2掩膜；S5对蓝宝石玻璃透镜的另一面重复S1
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S4操作，完成双面制备；S6使用激光将具有纳米阵列的蓝宝石玻璃透镜切割划分成正方体单元，并通过使用含氟聚合物密封剂封装在深紫外LED上以形成密封结构。2.根据权利要求1所述双面微透镜阵列制备方法，其特征在于：所述S3中，等离子体蚀刻在CF4与O2的混合气氛中进行。3.根据权利要求2所述双面微透镜阵列制备方法，其特征在于：所述强酸混合物为98％浓硫酸和84％浓磷酸溶液混合物，两种强酸的体积比为3：1。4.一种深...

【专利技术属性】
技术研发人员：何苗，高炯健，熊德平，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：发明
国别省市：