Ｒ－Ｆｅ－Ｂ系薄膜磁铁及其制造方法技术

本发明专利技术提供了一种Ｒ－Ｆｅ－Ｂ系薄膜磁铁，在物理成膜的含有２８－４５质量％的Ｒ元素（其中，Ｒ是镧系稀土元素中的１种或２种以上）的Ｒ－Ｆｅ－Ｂ系合金中，具有晶粒直径０．５－３０μｍ的Ｒ↓［２］Ｆｅ↓［１４］Ｂ晶体和在该晶体边界处富集Ｒ元素的晶界相的复合组织。该薄膜磁铁的磁化性提高。在物理成膜过程中和／或随后的热处理中，通过加热至７００－１２００℃，进行晶粒生长和形成富集Ｒ元素的晶界相，由此，可以制造上述Ｒ－Ｆｅ－Ｂ系薄膜磁铁。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于适合用于微型机械、传感器以及小型医疗·信息装置的高性能薄膜磁铁及其制造方法。
技术介绍
以Nd作为主要稀土元素R的Nd-Fe-B系稀土类烧结磁铁具有高的磁性能，被用于VCM(音圈电动机)及MRI(磁断层摄影装置)等各种领域中。这些磁铁的大小，每一边是几mm至几十mm，但是，移动电话用的振动电动机需要外径3mm以下的圆筒形状的磁铁，在微型机械和传感器领域中要求使用更小的磁铁。例如，厚度1mm以下的平板形的磁铁需要预先由大的烧结体块经过切割和研磨等工序才能制成，由于磁铁强度和生产率等问题，难以得到0.5mm以下的磁铁。另一方面，最近有报导指出，采用溅射或激光沉积等物理成膜方法可以制造微小尺寸的薄膜磁铁，其磁性能中最大能积达到200kJ/m3以上(例如参见非专利文献1和专利文献1)。采用这些制造方法，在真空或减压的环境空间中将磁铁合金成分沉积在基板或轴上，然后进行热处理，通过适当控制各种条件，可以得到200kJ/m3左右的高性能薄膜，其制造工艺比烧结法要简单。作为一般的例子，在平板或轴等基材上成膜的薄膜磁铁，其厚度大多是几μm至几十μm，相当于平板的四边或轴的直径的几十本文档来自技高网...

【技术保护点】
Ｒ－Ｆｅ－Ｂ系薄膜磁铁，其特征在于，在物理成膜的含有２８－４５质量％的Ｒ元素（其中，Ｒ是镧系稀土元素中的１种或２种以上）的Ｒ－Ｆｅ－Ｂ系合金中，具有晶粒直径０．５－３０μｍ的Ｒ↓［２］Ｆｅ↓［１４］Ｂ晶体和在该晶体边界处富集Ｒ元素的晶界相的复合组织。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-3-23 085806/20041.R-Fe-B系薄膜磁铁，其特征在于，在物理成膜的含有28-45质量％的R元素(其中，R是镧系稀土元素中的1种或2种以上)的R-Fe-B系合金中，具有晶粒直径0.5-30μm的R2Fe14B晶体和在该晶体边界处富集R元素的晶界相的复合组织。2.权利要求1所述的R-Fe-B系薄膜磁铁，...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木俊治，町田宪一，坂口英二，中村一也，
申请(专利权)人：独立行政法人科学技术振兴机构，日立金属株式会社，并木精密宝石株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]